JPH0467602B2 - - Google Patents

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JPH0467602B2
JPH0467602B2 JP22010684A JP22010684A JPH0467602B2 JP H0467602 B2 JPH0467602 B2 JP H0467602B2 JP 22010684 A JP22010684 A JP 22010684A JP 22010684 A JP22010684 A JP 22010684A JP H0467602 B2 JPH0467602 B2 JP H0467602B2
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JP
Japan
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laser beam
probe
coordinate
laser
retroreflector
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Application number
JP22010684A
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English (en)
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JPS6197504A (ja
Inventor
Naotomi Myagawa
Shinsuke Nagase
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Yamazaki Mazak Corp
Original Assignee
Yamazaki Machinery Works Ltd
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Publication date
Application filed by Yamazaki Machinery Works Ltd filed Critical Yamazaki Machinery Works Ltd
Priority to JP22010684A priority Critical patent/JPS6197504A/ja
Publication of JPS6197504A publication Critical patent/JPS6197504A/ja
Publication of JPH0467602B2 publication Critical patent/JPH0467602B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/002Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates
    • G01B11/005Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates coordinate measuring machines

Description

【発明の詳細な説明】 (a) 産業上の利用分野 本発明はレーザ光を用いて被測定物の所定の点
の座標位置を測定する三次元測定装置に適用され
る三次元位置測定方法及び装置に関する。
(b) 従来の技術 第10図は、従来の三次元位置測定方法が用い
られた三次元測定装置の一例を示す斜視図であ
る。
従来、この種の三次元測定装置1は、第10図
に示すように、例えばテーブル2上にガータ3が
X軸方向に移動自在に設けられており、ガータ3
にはヘツド5がX軸に直角なY軸方向に移動自在
に設けられている。また、ヘツド5には、先端に
プローブ7の装着されたスピンドル6がX及びY
軸に直角な方向であるZ軸方向に移動自在に設け
られている。テーブル2、ガータ3、ヘツド5に
は、ガータ3、ヘツド5、スピンドル6のそれぞ
れX軸、Y軸、Z軸の移動量を測定するためのリ
ニアスケール9等の測定手段が設けられおり、プ
ローブ7の三次元空間中での座標位置は、プロー
ブ7を支持移動する、ガータ3、ヘツド5及びス
ピンドル6の移動量を、リニアスケール9により
測定することにより求めていた。
(c) 発明が解決しようとする問題点 しかし、こうした構造では、各リニアスケール
9はそれぞれガータ3のX軸方向の、ヘツド5の
Y軸方向の、スピンドル6のZ軸方向の移動量を
測定し、間接的にプローブ7の座標を演算する形
となり、その測定値はガータ3、ヘツド5、スピ
ンドル6に生じる熱変位、各構成部品の組み立て
上の直角度、各座標軸に対する真直度の狂い等の
機械的特性の影響を受けることになる。従つて、
実際のプローブ7の位置と、測定されたプローブ
7の位置には少なからず誤差や測定値のバラツキ
等が生じ、機械的特性を上回る測定精度の達成は
不可能であつた。
本発明は、前述の欠点を解消すべく、熱変位や
各構成部品の組み立て上の直角度、各座標軸に対
する真直度の狂い等の影響を排除した形での測定
が可能で、機械的特性に左右されることのない高
精度の測定が可能な三次元位置測定方法及び装置
を提供することを目的とするものである。
(d) 問題点を解決するための手段 即ち、本発明の内、測定方法の発明は、プロー
ブが移動機構により三次元空間内を自由に移動駆
動され、該プローブにより被測定物の特定の点の
座標位置を測定する三次元測定装置において、特
定の座標平面に対して投影された当該座標平面上
のプローブの座標位置をレーザ測長器により三角
測量法を用いて、固定された外部定点から前記プ
ローブの移動をレーザ光追尾制御手段により追尾
する形で測定すると共に、前記特定の座標平面と
交差する座標軸に沿つた前記プローブの座標位置
を、固定された外部定点から前記プローブの移動
をレーザ光追尾制御手段により追尾する形でレー
ザ測長器により測定することにより、プローブの
三次元空間中での座標位置を求めるようにして構
成される。
また、本発明の内、測定装置の発明は、プロー
ブ支持体に支持されたプローブが移動機構により
三次元空間内を自由に移動駆動され、該プローブ
により被測定物の特定の点の座標位置を測定する
三次元測定装置において、前記プローブ支持体
は、特定の座標平面に対して平行な方向に移動自
在に支持された第1の移動部材及び、該第1の移
動部材に、前記特定の座標平面に対して交差する
座標軸に平行な方向に移動自在に支持された第2
の移動部材を有し、前記第2の移動部材に前記プ
ローブを装着し、前記第1の移動部材に第1のリ
トロリフレクタを、特定の座標平面に平行な面内
でレーザ光を反射し得る形で回転駆動自在に設け
ると共に、外部定点に第1のレーザ光の射出手段
をレーザ光を前記特定の座標平面に平行な方向に
射出自在に設け、前記第1のレーザ光の射出手段
と前記第1のリトロリフレクタ間に、第1のレー
ザ光の干渉手段を設けると共に、第1のレーザ光
の反射手段を前記特定の座標平面に平行な面内で
前記レーザ光を反射し得るように回転駆動自在に
設け、前記第1のリトロリフレクタと前記第1の
レーザ光の反射手段に、前記第1のレーザ光の射
出手段から射出されたレーザ光が前記第1のレー
ザ光の干渉手段、第1のレーザ光の反射手段、第
1のリトロリフレクタを経由して再度前記第1の
レーザ光の干渉手段に常に入射するように、前記
プローブの移動動作に対応する形で前記第1のリ
トロリフレクタと前記第1のレーザ光の反射手段
を回転制御する第1のレーザ光追尾制御手段を設
け、前記第1のレーザ光の干渉手段で生じるレー
ザ光の測定光と参照光の干渉から、前記プローブ
の前記特定の座標平面に対して投影された当該座
標平面上における座標位置を三角測量法により演
算する第1の演算手段を設け、前記第2の移動部
材に第2のリトロリフレクタを前記特定の座標平
面に対して交差する座標軸に平行な方向にレーザ
光を反射し得る形で設けると共に、外部定点に第
2のレーザ光の射出手段をレーザ光を射出自在に
設け、前記第2のレーザ光の射出手段と前記第2
のリトロリフレクタ間に第2のレーザ光の反射手
段を、前記第2のレーザ光の射出手段から射出さ
れるレーザ光を前記特定の座標平面に対して交差
する座標軸に平行な方向に反射し得るように設
け、前記第2のレーザ光の射出手段と前記第2の
反射手段との間に第3のレーザ光の反射手段を前
記第2のレーザ光の射出手段から射出されるレー
ザ光を前記第2のレーザ光の反射手段に向けて反
射し得るように回転駆動自在に設け、前記第2の
レーザ光の反射手段と前記第2のリトロリフレク
タ間に、第2のレーザ光の干渉手段を設け、前記
第3のレーザ光の反射手段に、前記第2のレーザ
光の射出手段からのレーザ光が前記第2及び第3
レーザ光の反射手段及び第2のレーザ光の干渉手
段を通過して前記第2のリトロリフレクタで反射
し、再度前記第2のレーザ光の干渉手段に常に入
射するように、前記プローブの移動動作に対応す
る形で前記第3のレーザ光の反射手段を回転制御
する第2のレーザ光追尾制御手段を設け、前記第
2のレーザ光の干渉手段で生じるレーザ光の測定
光と参照光の干渉から前記プローブの前記特定の
座標平面に対して交差する座標軸上の座標位置を
演算する第2の演算手段を設けて構成される。
(e) 作 用 上記した構成により、本発明は、プローブの特
定の座標平面に対して投影された当該座標平面上
の座標位置がレーザ測長器により直接的に測定さ
れ、更に該座標平面に交差する座標軸に係わるプ
ローブの座標位置がレーザ測長器により直接的に
測定されて、三次元空間におけるプローブの座標
位置がプローブを支持駆動する機械系の特性に左
右されることなく測定されるように作用する。
(f) 実施例 以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。
第1図は本発明による三次元位置測定方法の一
実施例が適用された三次元測定装置の一例を示す
斜視図、 第2図は第1図の三次元測定装置における測定
光学系を示す斜視図、 第3図は第1図の三次元測定装置における補正
光学系を示す斜視図、 第4図はスピンドル付近の拡大図、 第5図は第1図の三次元測定装置における駆動
系の制御ブロツク図、 第6図は第1図の三次元測定装置における光学
系の制御ブロツク図、 第7図は本発明による測定方法の一例を示す平
面図、 第8図は第7図の正面図、 第9図は各軸の振れの補正方法を示す図であ
る。
三次元測定装置1は、第1図に示すように、被
測定物が載置されるテーブル2を有しており、テ
ーブル2上にはガイドレール2aがX軸方向に設
置されている。ガイドレール2aにはガータ3が
X軸方向に移動駆動自在に設けられており、ガー
タ3にはヘツド5がX軸と直角なY軸方向に移動
駆動自在に設けられている。ヘツド5には先端に
プローブ7が装着されたスピンドル6がX軸及び
Y軸に直角なZ軸方向に移動駆動自在に設けられ
ている。
次に、三次元測定装置1の光学系について、説
明する。三次元測定装置1は測定光学系OMSと
補正光学系OASを有しており、測定光学系OMS
は、第6図に示すように、3個のレーザ測長器1
0,11,12を有し、それ等測長器10,1
1,12にはレーザ発振器13がレーザ光15を
測長器10のビームスプリツタ10aに供給自在
に設置されている。各測長器10,11,12に
はビームスプリツタ10a,11a,12aが設
けられており、ビームスプリツタ10a,11
a,12aにはそれぞれ干渉計10b,11b,
12bを介してリトロリフレクタであるコーナキ
ユーブ10c,11c,12cが設けられてい
る。また、各測長器10,11,12にはレシー
バ10d,11d,12gが設けられている。更
に、測定光学系OMSには補正光学系OASが接続
されており、補正光学系OASには、Y−Z平面
内のスピンドル6の振れを測定する振れ測定装置
16、Z−X平面内のスピンドル6の振れを測定
する振れ測定装置17及びZ軸方向の位置ズレを
測定する位置ズレ測定装置19が設けられてい
る。各振れ測定装置16,17及び位置ズレ測定
装置19には集光レンズ16a,17a,19a
を介してフオトダイオード16b,17b,19
bが設けられており、各フオトダイオード16
b,17b,19bには増幅器20がそれぞれ接
続している。増幅器20には補正量演算部21を
介して主制御部22が接続しており、主制御部2
2には表示制御部23、プローブ制御部25、レ
ーザ制御部26等が接続している。表示制御部2
3にはデイスプレイ27が接続し、プローブ制御
部25にはプローブ7が、更にレーザ制御部26
にはレーザ発振器13が接続している。一方、測
定光学系OMSの各レシーバ10d,11d,1
2gには距離演算部29が接続しており、距離演
算部29には前述の主制御部22が接続してい
る。
次に三次元測定装置1における駆動制御系につ
いて説明する。前述の主制御部22には、第5図
に示すように、駆動制御部30が接続しており、
駆動制御部30にはA/D変換器31を介してジ
ヨイステイクレバ等の移動方向指示手段32が接
続している。また、駆動制御部30には、パルス
分配器33,35及びパルス発生器36が接続し
ており、パルス分配器33及びパルス発生器36
には3個の駆動回路37を介してX軸、Y軸及び
Z軸駆動用のパルスモータ39,40,41が接
続している。なお、パルスモータ39を駆動する
と、ボールネジ42を介してガータ3がX軸方向
に移動駆動され、パルスモータ40を駆動すると
ボールネジ43を介してヘツド5がY軸方向に移
動駆動され、更にパルスモータ41を駆動すると
ボールネジ45を介してスピンドル6がZ軸方向
に移動駆動される。
また、パルス分配器35には4個の駆動回路4
6を介して4個のミラー駆動用パルスモータ4
7,49,50,51が接続しており、パルスモ
ータ47にはコーナキユーブ11cが、第2図に
示すように、X−Y平面に平行な平面内で回転自
在に設けられている。パルスモータ49にはコー
ナキユーブ10c及び、第2図に示すように、干
渉計12bとビームスプリツタ12a間に設けら
れた3個の反射鏡12d,12e,12fのうち
の反射鏡12e、更に補正光学系OASの反射鏡
52が同軸上にX−Y平面に平行な平面内で回転
自在に設けられている。なお、これ等パルスモー
タ47,49は、Y軸方向に移動するヘツド5内
に収納されている。また、パルスモータ50に
は、第2図に示すように、干渉計11bとコーナ
キユーブ11c間に設けられた反射鏡11eがX
−Y平面に平行な平面内で回転駆動自在に設けら
れており、パルスモータ51には干渉計10bと
コーナキユーブ10c間に設けられた反射鏡10
e、前述の反射鏡12d及び補正光学系OASの
反射鏡53が同軸上にX−Y平面に平行な平面内
で回転自在に設けられている。なお、これ等パル
スモータ50,51は移動するガータ3やヘツド
5とは独立した、外部の固定された外部定点SP
に設けられている。
ここで、測定光学系OMSと補正光学系OASに
おける各反射鏡やコーナキユーブ等の配置状態を
説明する。測定光学系OMSは前述の固定された
外部定点SPに、第2図に示すように、レーザ発
振器13からのレーザ光15を透過及び反射分配
するビームスプリツタ10a,11a,12aが
設けられており、更に干渉計10b,11b、レ
シーバ10d,11d、更に前述のパルスモータ
50,51が反射鏡と共に設けられている。ま
た、Y軸方向に移動するヘツド5上(ヘツド5に
装着されたスピンドル6も含む。以下同様。)に
は、前述のパルスモータ47,49がコーナキユ
ーブ、反射鏡等と共に設けられており、更にレー
ザ測長器12を構成する干渉計12b、コーナキ
ユーブ12cレシーバ12g、反射鏡12f等が
設けられている。
また、補正光学系OASは、第3図に示すよう
に、外部定点SPにパルスモータ51と共に設け
られた反射鏡53を有し、更にヘツド5上にはパ
ルスモータ49に装着された反射鏡52、更に2
個のビームスプリツタ55,56を介して振れ測
定装置16,17及び位置ズレ測定装置19が設
けられており、それらにおける各構成部品の位置
関係は、第4図に示すように、ビームスプリツタ
55,56がヘツド5上に固着されたブラケツト
5aに設けられ、振れ測定装置16,17はスピ
ンドル6に設けられたブラケツト6a上に設けら
れている。また、ブラケツト5aには位置ズレ測
定装置19及び干渉計12bも設けられ、更にブ
ラケツト6aにはコーナキユーブ12cが設けら
れている。
三次元測定装置1は以上のような構成を有する
ので、テーブル2上に置かれた被測定物の特定の
点の座標を測定する場合には、第5図に示すよう
に、ジヨイステイツクレバ等の移動方向指示手段
32を操作してプローブ7をX、Y、Z軸の適宜
な方向に移動駆動する。即ち、移動方向指示手段
32を操作することにより、A/D変換器31を
介して駆動制御部30にプローブ7の移動方向が
指示されるので、駆動制御部30はパルス分配器
33及びパルス発生器36に移動方向指示手段3
2に指示された方向への適宜な駆動パルスDPの
分配及び出力を指令し、パルス分配器33及びパ
ルス発生器36はそれを受けて各駆動回路37に
駆動パルスDPを出力する。各駆動回路37は駆
動パルスDPの量に応じて各パルスモータ39,
40,41を回転駆動してボールネジ42,4
3,45を介してガータ3、ヘツド5及びスピン
ドル6をそれぞれX、Y、Z軸方向に移動させ
る。すると、スピンドル6先端に装着されたプロ
ーブ7もX、Y、Z軸方向に移動して、被測定物
の測定点に徐々に接近してゆく。こうして、移動
するプローブ7が被測定物の特点の点に接触する
と、プローブ7から信号S1がプローブ制御部2
5を介して主制御部22に出力され、主制御部2
2は、距離演算部29及び補正量演算部21にプ
ローブ7の座標値の演算を指令する。
ここで、三次元測定装置1の測定方法を説明し
ておく。まず、主制御部22は、第6図に示すよ
うに、レーザ制御部26を介してレーザ発振器1
3を駆動し、レーザ発振器13からレーザ光15
をレーザ測長器10のビームスプリツタ10aに
発射する。レーザ光15はビームスプリツタ10
aにより一部はビームスプリツタ10aを透過し
て干渉計10bに入射し、そこで測定光と参照光
に分離され、測定光は、第2図における反射鏡1
0eを介してコーナキユーブ10cに入射し、そ
こで同一入射角で反射鏡10e側に反射されて干
渉計10bに再度入射する。干渉計10bでは、
再度入射した測定光と参照光を干渉させて干渉縞
を発生させ、その干渉縞をレシーバ10dにより
受光して距離演算部29が干渉計10bからコー
ナキユーブ10cまでの距離LL1角演算する。レ
ーザ測長器10等による距離の測定方法について
は、すでに多くの商品が流通しており、本発明に
よると三次元測定装置1もそうした公知のレーザ
測長器の利用が可能なので、ここではその概略だ
けを述べて詳細な説明は省略する。
また、レーザ光15の一部はビームスプリツタ
10aで反射されてビームスプリツタ11aに入
射し、レーザ測長器11により干渉計11b、反
射鏡11e、コーナキユーブ11c間の距離LL2
が測定される。なお、レーザ光15は外部定点
SPから移動するヘツド5上に設けられたコーナ
キユーブ10c,11cに入射し、更に外部定点
SPの干渉計10b,11bに入射するが、コー
ナキユーブ10c,11cを駆動するパルスモー
タ49,47、反射鏡10e,11eを駆動する
パルスモータ51,50は、第5図に示すよう
に、駆動制御部30によりX、Y軸のパルスモー
タ39,40を駆動する駆動量に応じてそのレー
ザ光15の光軸が一定となるように制御されるの
で、レーザ光15はヘツド5及びガータ3のY、
X方向の移動にも拘わらず、コーナキユーブ10
c,11cの一定の点で受光反射され、従つてレ
ーザ測長器10,11は常に適正な距離LL1、
LL2を測定することが出来る。
レーザ測長器10,11は、第7図及び第8図
に示すように、X−Y座標平面に対して投影され
たプローブ7の座標位置を測定演算するが、この
際の測定演算は三角測量法に基づいて行われる。
即ち、プローブ7のX−Y平面に投影された装着
点PXYからコーナキユーブ10c,11cまで
のX軸方向の距離を、第7図に示すように、P4
とし、装着点PXYからコーナキユーブ10cま
でのY軸方向の距離をP5、更にコーナキユーブ
10cからコーナキユーブ11cまでのY軸方向
の距離をP2とし(コーナキユーブ10c,11
cは同一X座標上にあるものとする。)、また、反
射鏡10e,11e間のY軸方向の距離をP1と
し、反射鏡10eとコーナキユーブ10c間の距
離をl1、反射鏡11eとコーナキユーブ11c間
の距離をl2とし、反射鏡10e,11e間の距離
P1を底辺とした三角形ADEを考える。また、反
射鏡10eと干渉計11b間のY軸方向の距離
を、第8図に示すように、P3とすると、距離
LL1,LL2は、 LL1=l1+P3 LL2=l2+P1+P3 従つて、 l1=LL1−P3 l2=LL2−P1−P3 △ADEと△ABCが相似であるので、AB=α、
AC=βとして、 α=P2・l1/(P1−P2) β=P2・l2/(P1−P2) これにより、△ADEの各辺の長さが与えられ、
角ADE=θとすると、 θ=cos-1〔(l1+α)2+P12−(l2+β)2/2(l1
+α)(l2+β)〕 これにより、反射鏡10eの置かれたX−Y座
標の原点Dを基準とする、コーナキユーブ10c
の点Bの座標位置x、yは、 x=l1・sinθ y=l1・cosθ 従つて、プローブ7の装着点PXYの座標をx′、
y′とすると、 x′=l1・sinθ+P4 ……(1) y′=l1・cosθ+P5 ……(2) となる。
なお、ビームスプリツタ11aを透過したレー
ザ光15は、ビームスプリツタ12aに入射し、
そこで一部のレーザ光15はレーザ測長器12に
入射して、第2図に示すように、外部定点SPに
設けられた反射鏡12d、Y方向に移動するヘツ
ド5に設けられた反射鏡12e,12f、更には
ブラケツト5a上に設けられた干渉計12bを介
して、Z軸方向に移動駆動されるスピンドル6に
ブラケツト6aを介して装着されたコーナキユー
ブ12cに入射し、レシーバ12gにより受光さ
れて、干渉計12bとコーナキユーブ12c間の
Z軸方向の距離LL3を測定する。今、干渉計12
bの位置をZ軸方向の原点とすると、プローブ7
のZ座標z′は、 z′=LL3+P6=L3 ……(3) となる(P6はコーナキユーブ12cとプローブ
7の中心までのZ軸方向の距離)。
こうして、(1)、(2)、(3)式からプローブ7のX、
Y、Z座標空間中での座標位置x′、y′、z′が距離
演算部29により演算される。次に、今度はそれ
ら演算された値に対する補正動作を行う。即ち、
可動部分の動きによるガータ3の上下方向の微小
変位、倒れ、スピンドル6の上下移動に伴う、Z
−X、Y−Z平面内での振れ等を測定して、その
値から(1)、(2)、(3)式で求めたプローブ7の座標位
置を補正する(レーザ測長器10,11,12よ
り測定される距離は、プローブ7そのものまでの
距離ではなく、プローブ7に対して所定距離P4,
P5,P6だけ離れた位置の座標なので、ガータ3、
ヘツド5、スピンドル6の振れ等によりプローブ
7の実際の座標位置がレーザ測長器10,11,
12によつて演算された座標位置に対してズレる
可能性が有る。)。
即ち、第6図に示すように、ビームスプリツタ
12aを透過したレーザ光15は、ビームスプリ
ツタ55,56により振れ測定装置16,17及
び位置ズレ測定装置19に入射し、集光レンズ1
6a,17a,19aを介して各フオトダイオー
ド16b,17b,19bに入射する。フオトダ
イオード16b,17bは、第4図に示すよう
に、プローブ7が装着されたスピンドル6のブラ
ケツト6aに設けられており、レーザ光15は、
第3図に示すように、外部定点SPから反射鏡5
7,53、ヘツド5の反射鏡52を介して、ビー
ムスプリツタ55,56に入射し、一部は、Y方
向に測定の方向性を有するフオトダイオード16
bに、一部は、X方向に測定の方向性を有するフ
オトダイオード17bに入射する。また、残りの
レーザ光15は、ブラケツト5a上に設けられた
位置ズレ測定装置19の、Z方向に測定の方向性
を有するフオトダイオード19bに入射する。補
正量演算部21は、各フオトダイオード16b,
17b,19bの出力から、第9図に示すよう
に、プローブ7の三次元空間中における装着位置
PXYZに対する補正値εx、εy、εzを求め、主制御
部22に出力する。主制御部22は補正値εx
εy、εzと距離演算部29から出力されるプローブ
7の座標値x′、y′、z′から、各三次元測定装置1
個有の組み付け誤差、テーブル2の平面度等の機
械固有の補正値αx、αy、αzをも考慮して、補正後
のプローブ7の座標値X、Y、Zを(第9図にお
ける、Z軸方向のズレ角γ≒2″程度であるので、
cosγ≒1として、Z−X、Y−Z平面内におけ
る揺れの、Z座標値への影響は無視する。) X=l1・sinθ+P4±εx+αx Y=l1・cosθ+P5±εy+αy Z=L3±εz+αz (±は測定点、移動方向により選択する)とす
る。
なお、補正光学系OASの各反射鏡53,52
も、第3図に示すように、パルスモータ51,4
9によりガータ3及びヘツド5のX、Y方向の移
動に連動する形で、レーザ光15の光軸がビーム
スプリツタ55,56に対して変化しないように
回転駆動されるので、常に適正な補正値εx、εy
εzの演算が可能となる。
なお、主制御部22において演算されたプロー
ブ7の座標値X、Y、Zは、表示制御部23を介
してデイスプレイ27上に表示される。
また、上述の実施例においては、X−Y平面内
におけるプローブ7の装着位置を、三角測量法に
より基準となる△ADEの3辺の長さを求め、そ
れにより角度θを求めることにより求めたが、プ
ローブ7の座標位置は三角測量法により求める限
りどのような方法で求めてもよく、三角形の決定
条件である1辺の長さとその両端の角度、2辺の
長さとその挾角を測定することにより基準となる
三角形を決定し、それにより、座標位置を演算す
るように構成することも当然可能である。
(g) 発明の効果 以上、説明したように、本発明のうち方法の発
明によれば、プローブが移動機構により三次元空
間内を自由に移動駆動され、該プローブ7により
被測定物の特定の点の座標位置を測定する三次元
測定装置において、X−Y平面などの特定の座標
平面に対して投影された当該座標平面上のプロー
ブ7の座標位置をレーザ測長器10,11により
三角測量法を用いて、固定された外部定点SPか
ら前記プローブの移動を駆動制御部30などのレ
ーザ光追尾制御手段により追尾する形で測定する
と共に、前記特定の座標平面と交差するZ軸など
の座標軸に沿つた前記プローブの座標位置を、固
定された外部定点SPから前記プローブの移動を
駆動制御部30などのレーザ光追尾制御手段によ
り追尾する形でレーザ測長器12により測定する
ことにより、プローブの三次元空間中での座標位
置を求めるようにして構成したので、プローブ7
の三次元空間中での座標位置を直接測定すること
が出来、ガータ3、ヘツド5及びスピンドル6の
X、Y、Z軸方向の移動量を測定する場合に見ら
れた、熱変位や各構成部品の組み立て上の直角
度、各座標軸に対する真直度の狂いの影響を排除
した形での測定が可能となり、三次元測定装置1
の機械的特性に左右されることのない高精度の測
定が可能となる。
また、本発明のうちの装置の発明によれば、プ
ローブ支持体に支持されたプローブ7が移動機構
により三次元空間内を自由に移動駆動され、該プ
ローブにより被測定物の特定の点の座標位置を測
定する三次元測定装置において、前記プローブ支
持体は、X−Y平面などの特定の座標平面に対し
て平行な方向に移動自在に支持されたヘツド5な
どの第1の移動部材及び、該第1の移動部材に、
前記特定の座標平面に対して交差するZ軸などの
座標軸に平行な方向に移動自在に支持されたスピ
ンドル6などの第2の移動部材を有し、前記第2
の移動部材に前記プローブを装着し、前記第1の
移動部材にリトロリフレクタ10c,11cなど
の第1のリトロリフレクタを、特定の座標平面に
平行な面内でレーザ光を反射し得る形で回転駆動
自在に設けると共に、外部定点SPにレーザ発振
器13、ビームスプリツタ10a,11aなどの
第1のレーザ光の射出手段をレーザ光を前記特定
の座標平面に平行な方向に射出自在に設け、前記
第1のレーザ光の射出手段と前記第1のリトロリ
フレクタ間に、干渉計10b,11bなどの第1
のレーザ光の干渉手段を設けると共に、反射鏡1
0e,11eなどの第1のレーザ光の反射手段を
前記特定の座標平面に平行な面内で前記レーザ光
を反射し得るように回転駆動自在に設け、前記第
1のリトロリフレクタと前記第1のレーザ光の反
射手段に、前記第1のレーザ光の射出手段から射
出されたレーザ光が前記第1のレーザ光の干渉手
段、第1のレーザ光の反射手段、第1のリトロリ
フレクタを経由して再度前記第1のレーザ光の干
渉手段に常に入射するように、前記プローブの移
動動作に対応する形で前記第1のリトロリフレク
タと前記第1のレーザ光の反射手段を回転制御す
る駆動制御部30などの第1のレーザ光追尾制御
手段を設け、前記第1のレーザ光の干渉手段で生
じるレーザ光の測定光と参照光の干渉から、前記
プローブの前記特定の座標平面に対して投影され
た当該座標平面上における座標位置を三角測量法
により演算する距離演算部29などの第1の演算
手段を設け、前記第2の移動部材にリトロリフレ
クタ12cなどの第2のリトロリフレクタを前記
特定の座標平面に対して交差する座標軸に平行な
方向にレーザ光を反射し得る形で設けると共に、
外部定点にレーザ発振器13、ビームスプリツタ
10a,11a,12aなどの第2のレーザ光の
射出手段をレーザ光を射出自在に設け、前記第2
のレーザ光の射出手段と前記第2のリトロリフレ
クタ間に反射鏡12fなどの第2のレーザ光の反
射手段を、前記第2のレーザ光の射出手段から射
出されるレーザ光を前記特定の座標平面に対して
交差する座標軸に平行な方向に反射し得るように
設け、前記第2のレーザ光の射出手段と前記第2
の反射手段との間に反射鏡12d,12eなどの
第3のレーザ光の反射手段を前記第2のレーザ光
の射出手段から射出されるレーザ光を前記第2の
レーザ光の反射手段に向けて反射し得るように回
転駆動自在に設け、前記第2のレーザ光の反射手
段と前記第2のリトロリフレクタ間に、干渉計1
2bなどの第2のレーザ光の干渉手段を設け、前
記第3のレーザ光の反射手段に、前記第2のレー
ザ光の射出手段からのレーザ光が前記第2及び第
3レーザ光の反射手段及び第2のレーザ光の干渉
手段を通過して前記第2のリトロリフレクタで反
射し、再度前記第2のレーザ光の干渉手段に常に
入射するように、前記プローブの移動動作に対応
する形で前記第3のレーザ光の反射手段を回転制
御する駆動制御部30などの第2のレーザ光追尾
制御手段を設け、前記第2のレーザ光の干渉手段
で生じるレーザ光の測定光と参照光の干渉から前
記プローブの前記特定の座標平面に対して交差す
る座標軸上の座標位置を演算する距離演算部29
などの第2の演算手段を設けて構成したので、プ
ローブの三次元空間中での座標位置を、熱変位や
各構成部品の組立て上の直角度、真直度の狂いの
影響を排除した形での測定が可能となり、高精度
の位置測定の可能な三次元位置測定装置の提供が
可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による三次元位置測定方法の一
実施例が適用された三次元測定装置の一例を示す
斜視図、第2図は第1図の三次元測定装置におけ
る測定光学系を示す斜視図、第3図は第1図の三
次元測定装置における補正光学系を示す斜視図、
第4図はスピンドル付近の拡大図、第5図は第1
図の三次元測定装置における駆動系の制御ブロツ
ク図、第6図は第1図の三次元測定装置における
光学系の制御ブロツク図、第7図は本発明による
測定方法の一例を示す平面図、第8図は第7図の
正面図、第9図は各軸の振れの補正方法を示す
図、第10図は、従来の三次元測定装置の一例を
示す斜視図である。 1……三次元測定装置、3……ガータ、5……
ヘツド、6……スピンドル、7……プローブ、1
0,11,12……レーザ測長器、SP……外部
定点。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 プローブが移動機構により三次元空間内を自
    由に移動駆動され、該プローブにより被測定物の
    特定の点の座標位置を測定する三次元測定装置に
    おいて、 特定の座標平面に対して投影された当該座標平
    面上のプローブの座標位置をレーザ測長器により
    三角測量法を用いて、固定された外部定点から前
    記プローブの移動をレーザ光追尾制御手段により
    追尾する形で測定すると共に、前記特定の座標平
    面と交差する座標軸に沿つた前記プローブの座標
    位置を、固定された外部定点から前記プローブの
    移動をレーザ光追尾制御手段により追尾する形で
    レーザ測長器により測定することにより、プロー
    ブの三次元空間中での座標位置を求めるようにし
    て構成した三次元位置測定方法。 2 プローブ支持体に支持されたプローブが移動
    機構により三次元空間内を自由に移動駆動され、
    該プローブにより被測定物の特定の点の座標位置
    を測定する三次元測定装置において、 前記プローブ支持体は、特定の座標平面に対し
    て平行な方向に移動自在に支持された第1の移動
    部材及び、該第1の移動部材に、前記特定の座標
    平面に対して交差する座標軸に平行な方向に移動
    自在に支持された第2の移動部材を有し、 前記第2の移動部材に前記プローブを装着し、 前記第1の移動部材に第1のリトロリフレクタ
    を、前記特定の座標平面に平行な面内でレーザ光
    を反射し得る形で回転駆動自在に設けると共に、
    外部定点に第1のレーザ光の射出手段をレーザ光
    を前記特定の座標平面に平行な方向に射出自在に
    設け、 前記第1のレーザ光の射出手段と前記第1のリ
    トロリフレクタ間に、第1のレーザ光の干渉手段
    を設けると共に、第1のレーザ光の反射手段を前
    記特定の座標平面に平行な面内で前記レーザ光を
    反射し得るように回転駆動自在に設け、 前記第1のリトロリフレクタと前記第1のレー
    ザ光の反射手段に、前記第1のレーザ光の射出手
    段から射出されたレーザ光が前記第1のレーザ光
    の干渉手段、第1のレーザ光の反射手段、第1の
    リトロリフレクタを経由して再度前記第1のレー
    ザ光の干渉手段に常に入射するように、前記プロ
    ーブの移動動作に対応する形で前記第1のリトロ
    リフレクタと前記第1のレーザ光の反射手段を回
    転制御する第1のレーザ光追尾制御手段を設け、 前記第1のレーザ光の干渉手段で生じるレーザ
    光の測定光と参照光の干渉から、前記プローブの
    前記特定の座標平面に対して投影された当該座標
    平面上における座標位置を三角測量法により演算
    する第1の演算手段を設け、 前記第2の移動部材に第2のリトロリフレクタ
    を前記特定の座標平面に対して交差する座標軸に
    平行な方向にレーザ光を反射し得る形で設けると
    共に、外部定点に第2のレーザ光の射出手段をレ
    ーザ光を射出自在に設け、 前記第2のレーザ光の射出手段と前記第2のリ
    トロリフレクタ間に第2のレーザ光の反射手段
    を、前記第2のレーザ光の射出手段から射出され
    るレーザ光を前記特定の座標平面に対して交差す
    る座標軸に平行な方向に反射し得るように設け、 前記第2のレーザ光の射出手段と前記第2の反
    射手段との間に第3のレーザ光の反射手段を前記
    第2のレーザ光の射出手段から射出されるレーザ
    光を前記第2のレーザ光の反射手段に向けて反射
    し得るように回転駆動自在に設け、 前記第2のレーザ光の反射手段と前記第2のリ
    トロリフレクタ間に、第2のレーザ光の干渉手段
    を設け、 前記第3のレーザ光の反射手段に、前記第2の
    レーザ光の射出手段からのレーザ光が前記第2及
    び第3レーザ光の反射手段及び第2のレーザ光の
    干渉手段を通過して前記第2のリトロリフレクタ
    で反射し、再度前記第2のレーザ光の干渉手段に
    常に入射するように、前記プローブの移動動作に
    対応する形で前記第3のレーザ光の反射手段を回
    転制御する第2のレーザ光追尾制御手段を設け、 前記第2のレーザ光の干渉手段で生じるレーザ
    光の測定光と参照光の干渉から前記プローブの前
    記特定の座標平面に対して交差する座標軸上の座
    標位置を演算する第2の演算手段を設けて構成し
    た三次元位置測定装置。
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