JPS60224002A

JPS60224002A - 赤外線厚み計

Info

Publication number: JPS60224002A
Application number: JP8097684A
Authority: JP
Inventors: Katsue Kotari; 小足　克衛; Shusaku Shigeta; 重田　修作; Keiji Fujita; 敬二藤田
Original assignee: Kurabo Industries Ltd; Kurashiki Spinning Co Ltd
Current assignee: Kurabo Industries Ltd; Kurashiki Spinning Co Ltd
Priority date: 1984-04-21
Filing date: 1984-04-21
Publication date: 1985-11-08
Also published as: JPH0430523B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［技術分野１本発明は、膜厚１層厚等の厚みを赤外域における特性吸
収を利用して検出する赤外線厚み計に関する。

［従来技術１従来より、厚みを測定すべと被測定物を形成する物質が
有する特性吸収帯域の波長を有する赤外線（以下、測定
光という。）と、特性吸収帯とは適当に離れた波長を有
する参照用の赤外線（以下、単に参照光という。）とを
夫々被測定物に垂直方向から入射させ、被測定物を透過
した測定光の透過強度と参照先の透過強度とから、測定
光の被測定物による吸光度をめこの吸光度に基づいて、
当該被測定物の厚みを算定するようにした赤外線厚み計
はよく知られている。

ところで、近年、フィルムの製造技術の進歩に伴って数
ミクロンオーダの極薄フィルムの製造が可能になってき
ているが、上記従来の赤外線厚み検出方式では、このよ
うな極薄化に対処しうるような検出精度を確保し難い問
題があった。

これには、フィルム等の被測定物内における多重反射光
による干渉が大きく影響する。

即ち、厚みが厚い場合には、フィルム内で光束の位相が
ランダム化し、干渉が減少するとともに、測定光に対す
る吸光度が十分に大きく、多重反射に基づく干渉の影響
は実質的に無視できるが、厚みが薄くなると、干渉の影
響が無視しえなくなってＳ／Ｎ比が低下し、検出精度が
低下するからである。

また、上記のような極薄フィルム製造技術の発展によっ
て、機能の異なるフィルムを積層したラミネートフィル
ムが種々開発され、機能的に優れたラミネートフィルム
が提供されるに至っている。

かかるラミネートフィルムの製造では、個々のフィルム
の膜厚の管理とともに、フィルムを相互に接合する接着
剤の塗布量もしくは塗布膜厚の管理も重要になっている
。

かかる接着剤の塗布膜厚は、当該接着剤の特性吸収を利
用することによって、前記赤外線厚み検出方法により原
理的に測定することかできるが、塗布膜厚は通常フィル
ム厚みよりさらに薄く、従来方式では検出精度が悪化し
て有効な検出が行なえない。そのうえ、塗布膜厚の測定
は、接着剤層とフィルム層の少なくとも二層を通しての
測定となり、フィルムによる吸収の影響と各層における
多重反射光による干渉の両方が重畳されるため、測定が
さらに困難となる問題があった。

［発明の目的１本発明の目的は、大きいＳ／Ｎ比で高精度に膜厚や層厚
を検出することがで終る赤外線厚み計を提供することで
ある。

本発明のいま一つの目的は、多層構造のものでも精度よ
く各層の厚みを検出することかで外る赤外線厚み計を提
供することである。

［発明の構成］かかる目的を達成するため、本発明は入射面に平行なＰ
偏光を被測定物の固有の偏光角（ブリュースター角）に
等しいか、その近傍の角度で被測定物に入射させて測定
光の吸光度を得るようにしたことを基本的な特徴として
いる。

つまり、本発明においては、偏光角に等しいか、その近
傍の角度でＰ偏光を被測定物に入射させることにより、
被測定物内における多重反射を大幅に低下させ、多重反
射光による干渉の影響を測定精度に悪影響を与えない程
度にまで抑制する。

かかる発明の基本的な特徴は、以下の如き事実及び考察
に基づいて得られたものである。

いま、第１図に示すように、光源１がらの光を分光器２
に入射させ、分光器２により分光した赤外線を赤外線透
過性のフィルム４に垂直方向から入射させ、フィルム４
の分光特性を受光センサ５によって測定する。

フィルム４としては延伸処理したポリプロピレン製（Ｏ
ＰＰフィルム）で２５．１μｌｆｉの厚さのものを用い
た。その場合に得られたチャートを第２図に示す。

第２図に明らかなように、このフィルム４は、波数にし
て約２，９００（ｃｍ−’）の所に特性吸収帯ＣＢを有
しており、この特性吸収帯ＣＢを外れたところでは、山
と谷とが交互に連続した吸収特性を示す。このように、
山と谷とが交互に連続して表われる現象は、フィルム４
内における多重反射の結果惹起される光の干渉の影響を
示すものである。

したがって、例えば、上記フィルム４上にフィルム４の
上記特性吸収帯ＣＢと異なる波数の特性吸収帯を有する
例えば接着剤を塗布して、その吸光特性を測定しようと
した場合、当該特性吸収帯は上記フィルム４の山と谷の
部分１こ重畳される結果、正しい吸光度が得られなくな
る。

第３図は、垂直入射の場合のフィルムの吸光度に対する
干渉の幅の大きさを示すグラフであって、理想的に干渉
が起きるとして理論計算した結果を表わす。

この場合、フィルムの厚さを４０μｍ１測定光の波長を
４．４μ和として、フィルムの屈折率をパラメータとし
た。

第３図から明らかなように、フィルムの吸光度が大きい
場合には、干渉の幅はさほど大ぎくないが、吸光度が小
さい場合には、干渉の幅が著しく大きくなってＳ／Ｎ比
が大幅に低下することとなる。

ところで、光学上、Ｐ偏光をその物質の偏光角で入射さ
せると、反射が起らないことが知られている（逆に言え
ば、これが偏光角の定義を与える）。

そこで、本発明者等は、第４図に示すように、Ｐ偏光を
被測定物に対し、その物質の偏光角に等しいかその近傍
で入射させれば、多重反射光による干渉の影響を排除で
きるものと考え、入射角の依存性を理論計算によってめ
た。なお、第４図において、１は赤外線光源、２は光源
がらの光を分光させる分光器、３は偏光子、４はフィル
ム、５は受光センサである。

その結果を第５図と第６図に夫々示す。

第５図、第６図に示すデータは、波長４．４μｍで偏光
度９５％のＰ偏光を用い、被測定物の屈折率ｎを夫々１
．７．１．４としたときに得られたものである。

例えば、吸光度０．２で入射角５７°のとぎ、第５図で
は干渉の幅は吸光度にして０．００７５であるが、第３
図に示す従来の垂直入射の場合には、吸光度０．２での
干渉幅は０．０７５である。

つまり、干渉の幅は、入射角をその材料の偏光角５９°
に近い５７°　とした場合、垂直入射の場合の１／１０
となり、Ｓ／Ｎ比でいえば１０倍大きいＳ／Ｎ比が得ら
れることになるのである９第６図では、偏光角は約５４
°であり、入射角が４〜５゛程度偏光角からずれても、
十分に高いＳ／Ｎ比が得られることが明らかである。

本発明は、以上の考察に基づいてなされたものである。

［実施例］以下、本発明の実施例をより具体的に説明する。

第７図に示すように、本赤外線厚み計は、測定部Ａと演
算部Ｂとを備え、検出された厚みは、表示記録装置Ｃに
よって表示され、記録される。

測定部Ａは、被測定物としてのフィルム１１に対し、Ｐ
偏光させた２種の赤外線、即ち、フィルム１１を形成す
る物質の特性吸収帯域（第２図参照）の赤外線である測
定光Ｒａおよび特性吸収帯域から適当に外れて設定した
波長を有する参照用の赤外線である参照光Ｒｒをフィル
ム１１の屈折率によって決まる偏光角に等しいか、その
近傍の角度で入射させ、フィルム１１による吸光度を上
記２つの赤外線Ｒａ、Ｒｒについて測定するためのもの
である。

この測定部Ａは、例えばニクロム線光源よりなる赤外線
光源１２を備え、赤外線光源１２からはフィルム１１の
測定光Ｒａおよび参照光Ｒｒを含む広い帯域の赤外線を
発生する。

赤外線光源１２がら射出された赤外線は、凹面の集光ミ
ラー１３によりスポット状に集光された状態で回転円板
１４上に投射される。この回転円板１４は遮光性材料よ
りなり、電動モータ１５により３０Ｈｚ程度の回転数で
回転駆動されるようになっており、スポット状に集光さ
れた赤外線が投射される位置には、測定光Ｒａのみを通
過させる第１バンドパスフイルク１６と参照光Ｒｒのみ
を通過させる第２バンドパスフイルタ１７とが、１８０
°位相を違えて組付けられている。これら赤外線光源１
２．電動モータ１５および第１．第２バンドパスフィル
タ１６．１７は、上記赤外線に対するチョッパ手段を構
成し、上記２種の赤外線Ｒａ、Ｒｒを交互に通過させる
。これら２種の赤外線Ｒａ、Ｒｒの通過タイミングを検
出するため、赤外線光源１２の外周部に対しては、これ
を間に対峙する発光ダイオードと７オトトランソスタの
組合せよりなる第１．第２の光電スイッチ１８゜１９が
設置され、第１バンドパスフイルタ１６の外径側には、
第１．第２の両方の充電スイッチＩＳ。

１９をオンさせる２個の光通過穴２０．２０が、また第
２バンドパスフイルタ１７の外径側には、第１の充電ス
イッチ１８のみをオンさせる１個の光通過穴２１が夫々
設けられている。

上記回転円板１４の光通過側には、一対の対向した凹面
の反射ミラー２２．２３が配置され、回転円板１４のス
ポット位置に対応した反射ミラー２２は、対向するいま
一つの反射ミラー２３に向けて通過光を反射し、反射ミ
ラー２３はフィルム１１に向けて、フィルム１１の屈折
率によって決まる偏光角に等しいか、偏光角近傍の傾斜
角で入射させる。この反射ミ５−２３からフィルム１１
に向う光路の途中には、入射する赤外線（Ｒａ、　Ｒｒ
）をＰ偏光させる、つまり、入射面に平行な偏光成分の
みを通過させる偏光子２４が介設され、この偏光子２４
を通過することにより、赤外線（Ｒａ＋Ｒｒ）はＰ偏光
波となる。

Ｐ偏光された赤外線（Ｒａ、　Ｒｒ）はフィルム１１を
２度通過するように反射板２５によって反射され、フィ
ルム１１を２度通過した赤外線は凹面の反射ミラー２６
によって赤外線検出器２７に導びかれ、赤外線検出器２
７は、２種の赤外線Ｒａ。

Ｒｒの受光強度に比例した検出信号を検出回路２８に出
力する。上記赤外線検出器２７としては、例えば焦電型
赤外線センサを有利に用いることができるが、これに限
られるものではない。また、吸光度をかせぐため、赤外
線はフィルム１１を二度通過させたが、フィルム１１の
厚みが厚い場合には、一度だけ通過させるようにしても
よい。

上記検出回路２８は、赤外線検出器２７の出力を増幅す
るとともに波形整形して、次段の暗電流キャンセル回路
２９に出力する。

検出回路２８の出力信号は、測定光Ｒａの受光強度に比
例する信号Ｖａ（以下では単に測定光透過信号という。

）と、参照光Ｒｒの受光強度に比例する信号Ｖｒ（以下
では、単に参照光透過信号という。）とが、暗電流成分
ｖａに重畳された信号となっている。暗電流成分ｖａは
、測定部Ａ内外の熱輻射等によって発生される雑音であ
る。

暗電流キャンセル回路２９は、前記第１．第２充電スイ
ッチ１８’、１９の各出力を入力信号とするタイミング
作成回路３０からの第１タイミング信号Ｔ口こよって赤
外ｍＲａ、Ｒｒのいずれもが投射されていないタイミン
グで、検出回路２８の出力信号を読取り、つまり暗電流
成分ｖａを読取り、読取った暗電流成分νａを検出回路
２８の出力から差引いて、第８図（ｂ）に示すように、
測定光透過信号Ｖａと参照光透過信号Ｖｒのみを抽出分
離する。

次に、演算部Ｂの構成を説明すると、演算部Ｂは、暗電
流キャンセル回路２９がら出力される測定光透過信号Ｖ
ａと参照光透過信号Ｖｒとを、タイミング作成回路３０
から出力される第２．第３タイミング信号Ｔ２．Ｔ３の
タイミングで夫々個別にサンプルホールドする（第８図
（ｃ）、　（ｄ）参照）サンプルホールド回路３１と、
サンプルホールド回路３１にサンプルホールドされた測
定光透過信号＼７ａと参照光透過信号Ｖｒとのｌｏｇ比
、即ちｌｏｇ（Ｖｒ／Ｖａ）を演算するｌｏｇ比演算回
路３２と、得られたｌｏｇ比ｌｏｇ（Ｖ　ｒ／　Ｖ　ａ
）ノ値か１検量線によりフィルム１１の厚みを演算する
厚み演算回路３３とによって基本的に構成される。

上記厚み演算回路３３は、上記１０ｇ比ｌｏｇ（Ｖｒ／
Ｖａ）と、フィルム１１の厚みｔとが比例関係にあり、
フィルム厚み［がｌｏｇ比の一次関数で表わされること
から、フィルム１１の厚みｔを決定する。この場合の厚
みの決定は、第９図に示すように、予めめておいた検量
線そのものから厚みを読取るようにしてもよく、予め上
記比例定数および定数項の値を与えておき、得られたｌ
ｏ８比から厚みを計算するようにしてもよい。

なお、上記検量線および／もしくは比例定数および定数
項は、周知の接触型厚み計を用いて厚みをめるとともに
、そのときのｌｏＢ比を測定することにより予めめるこ
とがで外る。

第９図に示したデータは、本赤外線厚み計を用いて、ポ
リエチレンテレフタレート製フィルムを測定した結果を
示す。

この場合の測定光は波数にして２９７０ｃｍ−’であり
、参照先は波数にして３０３５ｃｍ−’　を用い、入射
角は５８°とした。第９図に示したデータの最大偏差は
±０．２μｍであった。

多層構造体の各層の層厚を測定する際にも、はぼ理想的
にランベルト−ベールの式が成立し、この式を解くこと
により、各層厚をめることがで終る。この場合にも、光
の干渉による誤差を小さくできる。

第１０図にいま一つの実施例を示す。この実施例は、第
１１図に示すように、フィルム３５上に接着剤３６を塗
布した２層構造について、その塗布膜厚を測定するよう
にしたものである。

この場合の赤外線厚み計は、第７図に示した構成のうち
演算部Ｂに、補正用フィルム吸光度記憶回路３７とフィ
ルム吸光度補正回路３８を付加したものである。他に変
更はないので、同一のものには同一の番号を付して重複
した説明を省略する。

上記補正用フィルム吸光度記憶回路３７には、接着剤３
６を塗布する以前のフィルム３５だけについて予め測定
したｌｏｇ比カリモリされており、吸光度演算回路３２
によって全体の（２層の）１０ｇ比が演算されるごとに
、フィルム３５のｌｏｇ比をフィルム吸光度補正回路３
８に出力する。

フィルム吸光度補正回路３８は、吸光度演算回路３２か
ら出力されてくる全体のｌｏｇ比か呟フィルム３５のみ
のｌｏｇ比を差引いて、塗布膜３６のみのｌｏｇ比を得
、その塗布膜３６のｌｏｇ比を厚み演算回路３３に出力
する。その結果、厚み演算回路３３は、第１２図に示す
如き検量線を用いて、塗布膜厚を演算することができる
。

なお、第１２図に示した検量線は、単位面積当りの接着
剤３６の塗布量（ｇ／ｌ１１２）と吸光度との関係を示
しているが、塗布量から塗布膜厚は容易に換算すること
ができる。

この種の接着剤として汎用されているウレタン系接着剤
が使用される場合は、イソシアネート基を含むことから
、インシアネート基の特性吸収帯４．４０〜４．４４μ
ｍを測定波長として使用することが有利である。その理
由は、４．０〜５．５μ拍の波長範囲では、フィルム３
５による吸収が小さく、その影響を小さくすることがで
きることである。

この点、従来の赤外線測定方式によって接着剤の塗布膜
厚もしくは塗布量を測定する場合、特性吸収帯域として
Ｃ−Ｈ結合の吸収波長２．１〜２．５゜３．３〜３．６
，６．７〜７．０μ川や、溶剤の特性吸収帯域が使用さ
れてきた。

しかし、Ｃ−Ｈ結合の特性吸収帯は、基材フィルム自体
の吸収が大トく、特に基材フィルムの厚みに比べて接着
剤の塗布膜厚が極めて薄い場合には、基材フィルムの吸
収を補正する際の誤差により接着剤のみの吸収を精度よ
く得ることが困難となる。また、溶剤の特性吸収帯を用
いる場合には、無溶剤型接着剤には使用できないこと、
溶剤の揮散速度が速いので、溶剤の量から固形分量を推
定するうえで誤差を生じやすいこと等の問題がある。

第１（）図に示す実施例において、その測定結果を第１
２図に示す。

フィルム３５としては、ｏＰＰフィルム（延伸処理した
ポリプロピレン製フィルム）を用い、接着剤としてはポ
リウレタン系接着剤、具体的には武田薬品株式会社製　
タケラックＡ−Ｊ６７とタケネートＡ−７を１　：　１
で混合し、酢酸エチルを溶剤としたものを用いた。

この場合の測定光は波数にして２，２　？　Ｏｃｍ−’
。

参照光は波長にして２，０００ｃ＋ａ−’のものを用い
、入射角は５６゛（偏光角）とした。

得られたデータは検量線によくのり、最大偏差は±０．
０６　（ｇ／ｍ２）であった。

この種の接着剤は、反応の進行に伴なってイソシアネー
ト基が減少するが、反応速度はそれほど速くなく、手早
く測定することにより、反応による影響は実際上無視す
ることができる。

この実施例の原理によれば、第１３図に示すようなすで
に硬化反応の終了したラミネート材４０上にさらに接着
剤４１を塗布するような場合にも、硬化反応終了により
イソシアネート基の吸収はなく、何ら問題なしに新しい
塗布膜厚を測定することかで′きる。

また、このようにして得られた厚みを表わす厚み演算回
路３３の出力は、これを接着剤の塗布量調整手段にフィ
ードバックすることにより、塗布量を有効に制御するこ
とが可能となる。

以上述べた本発明の原理的な構成によれば、被測定物が
静止している場合のみならず、走行している被測定物の
厚みを測定することがで終る。

ただ、上記の実施例の構造では、測定光が入射されると
鰺と参照光が入射されるととのタイミングが僅かにずれ
ることになるが、そのようなタイミングのずれはごく僅
か（１／６０秒）であるので、被測定物が全稈高速で走
行しない限り実際上問題はないと考えられる。

もしも、このタイミングのずれが問題となる場合には、
測定光と参照先の両方を含むある程度広い範囲の赤外線
をＰ偏光させたうえで、被測定物に入射させ、受光側で
測定光と参照光とを分離して各々の強度を測定すること
がでとる。

その場合には、第１４図に示す如き受光部を用いればよ
い。

図において、フィルムを透過してきた透過光５１はバン
ドパスフィルタ６１によって、測定光及び参照光近傍の
赤外線のみがフィルタされ、入射スリット６２で絞られ
た後、コリメートミラー６３に導光される。コリメート
ミラー６３によって反射された平行光は回折格子６４に
導光され、分光される。分光光は再度コリメートミラー
６３で反射され、出射スリット面に分光スペクトルの帯
を形成する。分光スペクトルの測定光に対応する箇所に
形成したスリット６７を通って測定光６５が射出すると
同時に、参照光に対応する箇所に形成したスリット６８
を通って参照光６６が射出する。

射出光６５．６６はそれぞれの光検出器６５Ｄ。

６６Ｄに受光される。光検出器６５Ｄ、６６Ｄからは、
分光光の強度に応じた測定光透過信号Ｖａ。

参照光透過信号Ｖｒが出力される。なお、測定光と参照
光に分光する手段は、回折格子６４に替えてプリズムと
することもできる。

また、測定光、参照先の検出器６５Ｄ、６６Ｄに関し、
特性吸収波長領域において感度の良好なものを使用する
。

つよ１）、上記の検出方式を用いれば、同時測定が可能
となり、前記のタイミングのずれの問題は完全に解消す
ることができる。

この場合には、タイミングが同一となるため、各検出器
６５Ｄ、６６Ｄからの出力を夫々増幅したうえで、別個
にサンプルホールドするようにすればよい。他の処理は
、前記各実施例と異なるところがないので、これ以上の
説明は省略する。

次に、被測定物が振動等によりゆらぐ場合には、そのゆ
らぎによる影響が考えられるが、ゆらぎが激しい場合を
除ト、走行の場合と同様に、ゆらぎによる影響を無視す
ることかできる。ゆらぎが激しい場合には、直上で述べ
た如き同時測定が好ましい。

本出願人は、特願昭５８−１８３６３６号の特許出願（
発明の名称“赤外線厚み計゛）において、被測定物に対
する赤外線の入射角を変化させ、反射光強度の変化から
偏光角（ブリュースター角）を検出して、その偏光角に
おける吸光度から厚みを検出する方式を提案している。

この方式ｔこよれば、被測定物が走行する場合や走行に
伴なうゆらぎが存在する場合でも、最も正確に被測定物
の厚みを検出することができる。

本発明は、Ｐ偏光を用いる点および偏光角に着目した点
においては、上記特許出願にかかる発明と基盤を共通に
する。

しかしなが呟本発明者等の考察によれば、第５図、第６
図等において示された如く、入射角を偏光角に正確に一
致させる必要はなく、偏光角近傍の角度に設定すれば、
十分大トいＳ／Ｎ比が得られることが明らかであり、こ
の意味で本発明は、偏光角に限定されるものではない。

測定精度に影響を及ぼすいよ一つの要因は、偏光子２４
の性能、即ち偏光子２４による偏光度である。

第１５図に、偏光率と干渉の幅との関係を示す。

この場合の測定光の波長は４．４μ随とし、フィルムの
屈折率を１．７とし、入射角を５８°　とし、干渉の幅
を理論計算によってめたものである。

第１５図にも明らかなように、干渉の幅は偏光度力弓Ｏ
Ｏ％に近い程小さくなるので、偏光度は高ければ高い程
好ましいが、９０％以上であれば実用上問題がなく、９
５％以上であればより好ましい。

［発明の効果］本発明によれば、被測定物内における多重反射による光
の干渉を最小限とすることかでき、極薄フィルム等厚み
がきわめて薄い場合にも、高いＳＺＮ比で高精度の厚み
測定が行なえる。

さらに、本発明によれば、フィルム材上に塗布した接着
剤の塗布膜厚等、多層構造体の各層の層厚の測定が高精
度で行なえるので、ラミネート工程における接着剤の塗
布量や塗布膜厚の管理等に有効に貢献することができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の分光分析の原理的説明図、第２図は第１
図に示す分光分析方式で得られたチャート図、第３図は
測定光を垂直入射させたときのフィルムの吸光度（横軸
）と干渉の幅（縦軸）との関係を示すグラフ、第４図は
本発明の原理的構成を示す図、第５図、第６図は夫々入
射角を偏光角近傍で変化させたときの干渉の幅の大きさ
の変化を示すグラフ、第７図は本発明の実施例の全体概
略説明図、第８図（ａ）、（１〕）、（ｃ）、（ｄ）は
測定光透過信号および参照光透過信号の抽出方式を順次
に示す各波形図、第９図はフィルムの検量線および測定
結果を示すグラフ、第１０図は本発明のいま一つの実施
例の全体概略説明図、＠１１図は多層構造体の一例を示
す断面説明図、第１２図は接着剤の検量線および測定結
果を示すグラフ、第１３図は多層構造体の他の例を示す
断面説明図、＄１４図は受光部の一例を示す概略説明図
、第１５図は偏光度と干渉の幅との関係を示すグラフで
ある。１１・・・フィルム、　１２・・・赤外線光源、１６＋
１７・・・バンドパスフィルタ、２４・・・偏光子、　
２７・・・赤外線検出器、３１・・・サンプルホールド
回路、３２・・・ｌｏｇ比演算回路、　３３・・・厚み演算回
路、３５・・・フィルム、　３６・・・接着剤、３８・
・・フィルム吸光度補正回路。第１図第４図第３図フィルムの吸光度第５図入行ホ（°）第８図第１１図　第１３図第９図第１２図望布ｊ　１０／ｍ”）

Claims

【特許請求の範囲】

（１）厚みを測定すべき被測定物の特性吸収帯に属する
測定光および参照光を含む赤外線を発生する光源と、赤
外線を入射面に平行なＰ偏光己偏光させる偏光子と、Ｐ
偏光を被測定物の偏光角に等しいか、近傍の傾斜角で被
測定物に入射させる手段と、被測定物中を少なくとも一
度通過した測定光および参照光の強度を検出する手段と
、測定光の受光強度と参照先の受光強度とに基づいて特
性吸収帯における吸光度をめ、該吸光度から被測定物の
厚みを算定する手段とを備えてなる赤外線厚み計。
（２）被測定物が、厚みを測定すベト層を含む少なくと
も２層の積層構造体であって、厚みを測定すべき層を構
成する物質の特性吸収帯に属する測定光お上σ参照光を
含む赤外線を発生する光源と、赤外線を入射面に平行な
Ｐ偏光に偏光させる偏光子と、Ｐ偏光を上記厚みを測定
すべ外層の偏光角に等しいか近傍の傾斜角で被測定物に
入射させる手段と、被測定物中を少なくとも一度通過し
た測定光および参照先の強度゛を検出する受光手段と、
これら測定光および参照先の受光強度に基づいて被測定
物による測定光の吸光度をめる手段と、当該吸光度がら
厚みを測定すべ外層がない場合の吸光度を差引いて、当
該層のみの吸光度を得る吸光度の補正手段と、当該層の
吸光度からその厚みを算定する手段とを備えてなる赤外
線厚み計。