JPS60221564A - 薄膜作製装置 - Google Patents
薄膜作製装置Info
- Publication number
- JPS60221564A JPS60221564A JP7668184A JP7668184A JPS60221564A JP S60221564 A JPS60221564 A JP S60221564A JP 7668184 A JP7668184 A JP 7668184A JP 7668184 A JP7668184 A JP 7668184A JP S60221564 A JPS60221564 A JP S60221564A
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- JP
- Japan
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- thin film
- holder
- hole
- mask
- top cap
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、各種金属薄膜の作製装置に関づ−る。
従来の技術
金属薄膜は、素材を真空槽内に置ぎ、真空蒸着あるいは
スパッタリングなどに・よって基板に付着させて製造さ
れる。
スパッタリングなどに・よって基板に付着させて製造さ
れる。
発明が解決しにうとする問題点
この場合、膜厚、組成、構造等の均一性を高めるため、
基板を回転しながら膜作製を行なう必要がある。また、
多数の基板を真空槽内にセットし、真空またはガス雰囲
気を破らずに基板を交換して多数の薄膜を作製すること
ができれば、作業効率の向上と薄膜作製の信頼性の改善
が期待できる。ざら同じように、複数の素材を用い、基
板を移動することにより多層膜を作製することは、新規
材料探索の見地からも可能性に富んだ方法である。
基板を回転しながら膜作製を行なう必要がある。また、
多数の基板を真空槽内にセットし、真空またはガス雰囲
気を破らずに基板を交換して多数の薄膜を作製すること
ができれば、作業効率の向上と薄膜作製の信頼性の改善
が期待できる。ざら同じように、複数の素材を用い、基
板を移動することにより多層膜を作製することは、新規
材料探索の見地からも可能性に富んだ方法である。
問題点を解決するための手段
本発明は以上の要請をすべて満足する装置であって、単
数または複数の薄膜材料発生源を備えた真空槽に円板状
の第１上蓋を設り、該第１上蓋に円形の穴を偏心させて
設け、そこに第２上蓋をし、その第２上蓋の中心より偏
心させた位置に、回転、上下動し得る基板ホルダーを設
けてなることを特徴とＪ゛る薄膜作製装置である。
数または複数の薄膜材料発生源を備えた真空槽に円板状
の第１上蓋を設り、該第１上蓋に円形の穴を偏心させて
設け、そこに第２上蓋をし、その第２上蓋の中心より偏
心させた位置に、回転、上下動し得る基板ホルダーを設
けてなることを特徴とＪ゛る薄膜作製装置である。
実施例
以下、上記本発明を図面に基づいて説明すると、第１図
は実施の一例の断面図で、１は真空槽である。
は実施の一例の断面図で、１は真空槽である。
真空槽１内には、単数または複数の薄膜材料発生源２を
備え、その上部には基板ボルダ−３を設け、基板４を複
数個取付けるようにする。薄膜材料発生源２の直上には
シャッタ５を設け、また、基板ホルダー３の直下にマス
ク６を設けである。マスク６はマスク保持具７に上下移
動可能に取付けられている。
備え、その上部には基板ボルダ−３を設け、基板４を複
数個取付けるようにする。薄膜材料発生源２の直上には
シャッタ５を設け、また、基板ホルダー３の直下にマス
ク６を設けである。マスク６はマスク保持具７に上下移
動可能に取付けられている。
真空槽１の上部には円板状の第１上Ｍ８を設け、該第１
上蓋８には円形の穴９を偏心させて設け、その穴９に第
２上蓋１ｏを設ける。
上蓋８には円形の穴９を偏心させて設け、その穴９に第
２上蓋１ｏを設ける。
その第２上蓋１０の中心より偏−ひさせた位置に前述の
基板ホルダー３を上下動可能に設りである。なお、前述
のマスク保持具７の上端は第２上蓋１０に取付けである
。
基板ホルダー３を上下動可能に設りである。なお、前述
のマスク保持具７の上端は第２上蓋１０に取付けである
。
第１上蓋８、第２上蓋１０の方向の設定、並びに基板ボ
ルダ−３やシャッタ５の位置、回転時期の制御はマイク
ロコンピュータ装置１１に予め組込まれたプログラムに
したがって、自動的に行なうようにするとよい。
ルダ−３やシャッタ５の位置、回転時期の制御はマイク
ロコンピュータ装置１１に予め組込まれたプログラムに
したがって、自動的に行なうようにするとよい。
薄膜材料発生源２はガン型スパッタソースあるいは蒸発
ボートなどを用い、スパッタリングあるいは真空蒸着技
術を適用し得る。
ボートなどを用い、スパッタリングあるいは真空蒸着技
術を適用し得る。
かかる薄膜材料発生源２から原子流を発生させ、該原子
流をシャッタ５、マスク６を通して基板ホルダー３に到
達させ、基板４表面に付着せしめるのであるが、かがる
作用は種々の態様で行なうことができる。
流をシャッタ５、マスク６を通して基板ホルダー３に到
達させ、基板４表面に付着せしめるのであるが、かがる
作用は種々の態様で行なうことができる。
第２図はその一例を示すもので、第１上蓋８の中心Ｐと
第２上蓋１０の中心Ｑとは偏心している。そして、Ｐ点
に基板ボルダ−３の回転中心Ｒをもって来たもので、基
板ホルダー３には外周に沿って多数の基板４をセットし
である。薄膜材料発生源２は２個あり、それぞれの直上
にあけられたマスク３の穴を通して、順次、まｌ〔は交
互に成膜を行ない、単層または多層膜を作製することが
できる。また、２つの薄膜材料発生源２．２の中間位置
にマスク３の穴および基板４の１つを５ってくれば、薄
膜材料発生源２．２を同時に作動させて、基板４上に合
金薄膜を作製覆ることができる。
第２上蓋１０の中心Ｑとは偏心している。そして、Ｐ点
に基板ボルダ−３の回転中心Ｒをもって来たもので、基
板ホルダー３には外周に沿って多数の基板４をセットし
である。薄膜材料発生源２は２個あり、それぞれの直上
にあけられたマスク３の穴を通して、順次、まｌ〔は交
互に成膜を行ない、単層または多層膜を作製することが
できる。また、２つの薄膜材料発生源２．２の中間位置
にマスク３の穴および基板４の１つを５ってくれば、薄
膜材料発生源２．２を同時に作動させて、基板４上に合
金薄膜を作製覆ることができる。
第３図は第１上蓋８と第２上蓋１０の相対位置を変えて
、基板ホルダー３の回転中心Ｒを片方の薄膜材料発生源
２の真上にもってぎた例である。この場合は基板を回転
しながら薄膜の作製ができるもので均一な成膜を得るこ
とができる。
、基板ホルダー３の回転中心Ｒを片方の薄膜材料発生源
２の真上にもってぎた例である。この場合は基板を回転
しながら薄膜の作製ができるもので均一な成膜を得るこ
とができる。
第４図は２つの薄膜材料発生源２．２の中間位置に基板
ホルダー３の回転中心Ｒをもってきた例を示す。このと
き、基板４を基板ホルダー３の中心にセットすれば、基
板４を回転しながら、２つの薄膜材料発生源２，２を同
時に働かせることによって、均一な合金薄膜を作製する
ことができる。また、基板ボルダ−３の外周に複数の基
板４をセットして基板ホルダー３を回転させれば、基板
４は交互に２つの薄膜材料発生源２の上にくるので、多
層膜を作製することができる。この場合、マイクロコン
ピュータ装置１１によりパルスモータ−を用いて基板ホ
ルダー３め回転を制御ずれば、各層の膜厚をそれぞれ制
御゛づることが可能である。
ホルダー３の回転中心Ｒをもってきた例を示す。このと
き、基板４を基板ホルダー３の中心にセットすれば、基
板４を回転しながら、２つの薄膜材料発生源２，２を同
時に働かせることによって、均一な合金薄膜を作製する
ことができる。また、基板ボルダ−３の外周に複数の基
板４をセットして基板ホルダー３を回転させれば、基板
４は交互に２つの薄膜材料発生源２の上にくるので、多
層膜を作製することができる。この場合、マイクロコン
ピュータ装置１１によりパルスモータ−を用いて基板ホ
ルダー３め回転を制御ずれば、各層の膜厚をそれぞれ制
御゛づることが可能である。
以上、代表的な３つの使用例について述べたが、いずれ
のモードの場合でも、マイクロコンピュータ−装置１１
に必要最小限の情報を入力すれば、２つの上蓋の方向を
指示し、コントローラを通じてパルスモータ−を動かし
て、基板ホルダー３の方向、回転のタイミング、スピー
ド、シャッターの開閉のタイミング等を自動的にコント
ロールＪることができる。
のモードの場合でも、マイクロコンピュータ−装置１１
に必要最小限の情報を入力すれば、２つの上蓋の方向を
指示し、コントローラを通じてパルスモータ−を動かし
て、基板ホルダー３の方向、回転のタイミング、スピー
ド、シャッターの開閉のタイミング等を自動的にコント
ロールＪることができる。
発明の効果
本発明は以上のとおり、同一の真空槽を用い、多数の基
板をセットして、雰囲気を破らづ゛に多数の薄膜を作製
Ｊることができ、作業能率の向上と薄膜作製の信頼性が
改善されるばかりでなく、同一の真空槽で、種々の態様
の薄膜形成手段を実施することが可能であるから、目的
に適した真空槽を別々に用意する必要がな（、経済的で
あるばかりか、各種の使い方を複合Ｊることによって、
新しい構成の薄膜を作製１゛ることが可能となる。
板をセットして、雰囲気を破らづ゛に多数の薄膜を作製
Ｊることができ、作業能率の向上と薄膜作製の信頼性が
改善されるばかりでなく、同一の真空槽で、種々の態様
の薄膜形成手段を実施することが可能であるから、目的
に適した真空槽を別々に用意する必要がな（、経済的で
あるばかりか、各種の使い方を複合Ｊることによって、
新しい構成の薄膜を作製１゛ることが可能となる。
第１図は本発明の１実施例の断面図、第２ないし第４図
はその使用態様例の平面図である。 □ １・・・真空槽、２・・・薄膜材料発生源、３・・・旦
板ホルダー、４・・・基板、５・・・シャッタ、６・・
・マスク、 γ・・・マスク保持具、８・・・第１上蓋、９・・・穴
、１０・・・第 ２上蓋、 １１・・・マイクロコンピュータ装置。 特許出願人 新技術開発事業団（ほか１名） 代理人 弁理士 小 松 秀 岳 ｇ＝ ｔ 図
はその使用態様例の平面図である。 □ １・・・真空槽、２・・・薄膜材料発生源、３・・・旦
板ホルダー、４・・・基板、５・・・シャッタ、６・・
・マスク、 γ・・・マスク保持具、８・・・第１上蓋、９・・・穴
、１０・・・第 ２上蓋、 １１・・・マイクロコンピュータ装置。 特許出願人 新技術開発事業団（ほか１名） 代理人 弁理士 小 松 秀 岳 ｇ＝ ｔ 図
Claims (3)
- （１） 単数または複数の薄膜材料発生源を備えた真空
槽に円板状の第１上蓋を設り、該第１上蓋に円形の孔を
偏心させて設け、そこに第２上蓋をし、その第２上蓋の
中心より偏心させた位置に、回転、上下動し得る基板ホ
ルダーを設りてなることを特徴とする薄膜作製装置。 - （２） 第２上蓋には真空槽内に垂下したマスク保持具
を備え、マスクを上下動可能に取付けてなる特許請求の
範囲第（１）項記載のλ９膜作製装置。 - （３） 薄膜材料発生源と基板との間に回転可能なシャ
ッターを設けてなる特許請求の範囲第（１）項ま１ｃは
第（２）項記載の薄膜作製装置。 ４］ 第１上蓋、第２上蓋の方向の設定、基板ホルダー
やシャッターの位置、回転時期を制御するマイクロコン
ピュータ−装置を備えてなる特許請求の範囲第（１）項
ないし第［３１項記載の薄膜作製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59076681A JPH066784B2 (ja) | 1984-04-18 | 1984-04-18 | 薄膜作製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59076681A JPH066784B2 (ja) | 1984-04-18 | 1984-04-18 | 薄膜作製装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60221564A true JPS60221564A (ja) | 1985-11-06 |
| JPH066784B2 JPH066784B2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=13612170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59076681A Expired - Lifetime JPH066784B2 (ja) | 1984-04-18 | 1984-04-18 | 薄膜作製装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH066784B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108624840A (zh) * | 2017-03-22 | 2018-10-09 | 浙江师范大学 | 一种镀膜机 |
| CN114713754A (zh) * | 2022-04-13 | 2022-07-08 | 山东大学 | 一种表面涂层及制备方法和涂层工装、锥齿轮精锻模具 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60200964A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-11 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | ワ−クピ−ス移動装置 |
-
1984
- 1984-04-18 JP JP59076681A patent/JPH066784B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60200964A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-11 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | ワ−クピ−ス移動装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108624840A (zh) * | 2017-03-22 | 2018-10-09 | 浙江师范大学 | 一种镀膜机 |
| CN114713754A (zh) * | 2022-04-13 | 2022-07-08 | 山东大学 | 一种表面涂层及制备方法和涂层工装、锥齿轮精锻模具 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH066784B2 (ja) | 1994-01-26 |
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