JPS60217148A - コーテイングされた製品 - Google Patents

コーテイングされた製品

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JPS60217148A
JPS60217148A JP60064063A JP6406385A JPS60217148A JP S60217148 A JPS60217148 A JP S60217148A JP 60064063 A JP60064063 A JP 60064063A JP 6406385 A JP6406385 A JP 6406385A JP S60217148 A JPS60217148 A JP S60217148A
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hydrogen
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特にプラスチック及び他の比較的軟い基質（
ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）　に対する硬いコーティングに関
する。更に特に本発明は、ダイヤモンド様炭素の保護層
を比較的軟い基質に接着させて、透明で電気絶縁性のコ
ーティングを付与する方法にで金槁やガラス基質上に付
着せしめられてきた。
ここ拠「ダイヤモンド様炭素」とは、並はずれた硬度を
有する、例えばカミソリの刃で切れず、０００スチール
・ウールと摩擦しても傷がつかず、また高屈折率例えば
Ｚ、２．ｏと高電気抵抗とを有する炭素を意味する。化
学結合はグラファイトの８Ｐ２の三角形の結合に相対す
る如き８Ｐｌのダイヤモンド様の結合が主のようである
。ダイヤモンド様炭素膜はＸ線による結晶性パターンを
示しても示さなくてもよい。ダイヤモンド様炭素膜は比
較的低い水素含量を有し、約２９００　ｃａ−’におけ
るＣ−Ｈ結合の伸縮振動による赤外吸収は存在しないか
、比較的弱く、また水素含量は通常の技術、例えば２次
イオン質量分光法（８ＩＭＳ）によって測定した時比較
的低い。付着条件に依存して、炭素を含んでなるより硬
くない膜も金属及びガラス基質上に付着せしめられてき
た。ダイヤモンド様炭素に対比して、これらのフィルム
はカミソリの刃により或いはスチール・ウールでの摩擦
により、容易に傷がつき、低屈稍率例えば＜１．５と比
較的低い電気抵抗を有する。これはダイヤモンド様炭素
膜よりも高水素含量を有し、約２９００ｃｍ−’におけ
るＣ−Ｈ結合伸縮振動による赤外吸収は非常に強く、そ
して水素含量は８ＩＭ８でも比較的高い。
炭化水素ガス、例えばメタンの熱分解はダイヤモンド基
質上に炭素をダイヤモンド形で付着させると報告されて
いるが、特別な証拠は提示されていない（エバーソール
（Ｅｖｅｒｓｏｌｅ）、米国特許第３．０３０．１８７
号、及び米国特許第３．０３０．１８８号）。アイセン
バーブ（Ａｉｓｅｎｂｅｒｇ）　（Ｄ米国特許第３．９
６１．１０３号は、イオン化されたカーボン及びアルゴ
ンを基質に向わさせるために４０ｅＶのエネルギーのイ
オン線を用いたが、結晶学的検討を行なっていない。エ
チレンとアルゴンを含んでなる直流（ｄｃ）プラズマ系
で形成されるイオン衝撃膜はウィットメル（Ｗｈ　ｉ　
ｔｍｅ　ｌ　１　）及びウィリアムソン（Ｗｉ　ｌ　１
　ｉ　ａｍｓ　ｏｎ　）、シン暢ンリラド・フィルムズ
（Ｔｈｉｎ　５ｏｌｉｄ　Ｆｉｌｍｓ）、３５（１９７
６）、２５５頁、に開示されており、この膜は金属陽極
基質（ｍｅｔａｌ　ｃａｔｈｏｄｅｓｕｂｓｔｒａｔｅ
）において硬い炭素を含んでなる。
アセチレンを含んでなるｄｃグロー放電プラズマで形成
される膜は水素化された非晶質炭素を含んでなることが
、メイヤーソン（Ｍｅｙｅｒｓｏｎ）及びスミス（Ｓｍ
ｉｔｈ）、ジャーナル・オン・ノン−クリスタリン・ン
リツズ（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｎｏｎ−Ｃｒｙｓｔａ
ｌｌｉｎｅ　５ｏｌｉｄｓ）、３５及び３６（１９８ｏ
）４３５〜４４０に記述されている。ブタンを１０”ト
ール及び１８０ワツトの電源出力で用いることによりラ
ジオ周波数（ｒｆ）で発生させたプラズマで付着させた
イオン衝撃炭素膜は絶縁性を有することが、エル・ホラ
ラド（Ｌ、Ｈｏ１ｌａｎｄ）、ニー・ケー・プロビジョ
ナル・パテント・アプリケ−ショア　（Ｕ、　Ｋ、Ｐｒ
ｏｖｉｓｉｏｎａｌ　Ｐａｔｅｎｔ　Ａｐｐｌ　ｉ　−
ｃａｔｉｏｎ）第３３７９４号（１９７６）に記述され
ている。ヒラツカ（Ｈｉｒａｔｓｕｋａ）、アコパリ（
Ａｋｏｖａｔｉ）、シｘ　７　（Ｓｈｅｎ）及びヘル（
Ｂｅ　１１　）、ジャーナル・オン・アプライド・ポリ
マー・サイエンス（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ａｐｐｌｉ
ｅｄ　Ｐｏｌｙｍｅｒ８ｃｉｅｎｃｅ）、第２２巻、９
１７〜９２５　（１９７８）、はｒｆグロー放電で発生
せしめたプラズマ中においてメタン、エタン、プロパン
及びｎ−ブタンをアルミニウム又は塩化ナトリウム板上
で重合させ、Ｃ−Ｈ膜を得た。基質のスパッターリング
も、オジャ（Ｏｊｈａ）及びホララド（Ｈｏｌｌａｎｄ
）、ブロク・セブンス・インド・バキューム・コングル
（Ｐｒｏｃ。
７　ｔｈ　Ｉｎｔ、　’Ｖａｃｕｕｍ　Ｃｏｎｇｒ、）
及びサード・インド・コン７・オン・ソリッド・サーフ
ェシズ（３ｒｄ　Ｉｎｔ、Ｃｏｎｆ、ｏｎ　５ｏｌｉｄ
　５ｕｒｆａｃｅｓ）、ビエンナ（Ｖｉｅｎｎａ）、１
９７７．１６６７頁に報告されているように炭素膜を金
、アルミニウム及びシリコン上に形成させることも公知
である。最も容易で、広く適用しつる方法は炭素のイオ
ンビーム付着及び炭化水素気体のｒｆプラズマ分解であ
る。そのような方法は、ボラ（Ｖｏｒａ）及びモラベク
（Ｍｏｒａｖｅｃ）、”ストラクチュラル・インベステ
イゲーション・オン・シンーフィルムズ・オン・ダイヤ
モンドライク・カーボン（Ｓｔｒｕｃｔｕ−ｒａｌ　Ｉ
ｎｖｅｓｔｉｇａｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｔｈ１ｎ　Ｆｉｌｍ
ｓ　ｏｆＤｉａｍｏｎｄｌｉｋｅ　Ｃａｒｂｏｎｓ”、
　ジェ（−７プル・フィス（Ｊ、　Ａｐｐｌ、　Ｐｈｙ
ｓ、　）、５２：１ｏ１６１５１〜６１５７頁（１９８
１）、モラパク（Ｍｏｒａｖｅｃ）及びり−（Ｌｅｅ）
、　”インベスティゲーション・オン・メカニカリー・
ハード・ケミカリ−・イナート・アンチリフレクション
・コーティングズ・フォー・フオトボルタイク・ソーラ
ー・モシュールズ（Ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｉｏｎ　ｏｆ
　ＭｅｃｈａｎｉｃａｌｌｙＨａｒｄ、　Ｃｈｅｍｉｃ
ａｌｌｙ　Ｉｎｅｒｔ　Ａｎｔｉｒｅｆｌｅｃ−目ｏｎ
　Ｃｏａｔｉｎｇｓ　ｆｏｒ　Ｐｈｏｔｏｖｏｌｔａｉ
ｃＳｏｌａｒ　Ｍｏｄｕｌｅｓ”、セリ・コントラフｌ
−（ＳＥＲＩＣｏｎｔｒａｃｔ）第Ｘ８−Ｏ−９０１０
−３−プログレス・レポート（Ｐｒｏｇｒｅｓｓ　Ｒｅ
ｐｏｒｔ）、１９８０年１１月３０日、４頁、及びホラ
ラド（Ｈｏｌｌａｎｄ）及びオジャー１０ｊｈａ）、−
ザ・グロース・オン・カーボン・フィルムズ・クイズ・
ランダム・アトミック・ストラクチュア・フロム・イオ
ン・インパクト・ダメージ・イン・ア・ハイドロカーボ
ン・Ｉｍｐａｃｔ　Ｄａｍａｇｅ　Ｉｎ　ａ　Ｈｙｄｒ
ｏｃａｒｂｏｎＰｌａｓｍａ）”、シン・ソリッド・フ
ィルムズ（Ｔｈｉｎ　５ｏｌｉｄ　Ｆｉｌｍｓ）、５８
．１０７〜１１６頁（１９７９）に議論されている。ボ
ラ及びモラペクに報告されるように、これらの方法で製
造される膜は、ｒｆ比出力付着圧力との比を増大させる
と、軟い（カミソリの刃で容易に傷つく）から硬い（カ
ミソリの刃で傷つきにくい）まで急激に変化することが
観察される。この変化における比の値は約１００ワツト
／トールであった。
現在の技術では、薄い炭素膜が耐火性の基質例えば金属
、がラス及びセラミックに耐摩耗性コーティングとして
成功裏に適用されてきた。しかし同一の膜を、硬さの小
さく、熱安定性の小さい基質例えばアクリル、ポリ塩化
ビニル（ＰＶＣ）、　ボ！Ｊカーボネート及び他のプラ
スチックへ適用しても表面に付着せず、従ってそのよう
な薄い膜の保護コーティングとしての使用は非常に制限
された。
カーボン膜がプラスチック表面から分離する傾向は十分
に理解できないけれど、それは少くとも一部が硬い綻素
膜とプラスチックに対する熱膨張係数の実質的な差のせ
いである：炭素（グラファイト）は１．３〜１．５　Ｘ
　１０−’インチ／インチ／〒の程度の熱膨張係数（Ｃ
ＴＥ）を有し；アクリル、ＰＶＣ及びポリカーボネート
は１０〜５０ＸＩＯ−’インチ／インチ／〒の程度のＣ
ＴＥを有し、そしてソーダ／石灰ガラスは４．８〜５．
ｌＸ１０−’インチ／インチ／’ＦのＣＴＥを有する。
結果として、ダイヤモンド様の炭素膜の、比較的高い膨
張性／収縮性で、柔軟でもある基質、例えばプラスチッ
クへの接着を改良させる手段は保護コーティング技術に
とって非常に興味深い。
今回、基質とダイヤモンド様炭素を含むフィルムとの表
面間に比較約款い、炭素を含んでなる層を介在させるこ
とにより、硬い表面の性質のいずれをも犠牲にしないで
、外側のコーティングの優秀な接着が達成されるという
ことが発見された。
炭化水素気体のラジオ周波数（ｒｆ）のプラズマ分解の
ような付着技術を用いると、２つの僅かに異なった形の
炭素の中間層及び保護層が同一の供給気体を使用して同
じ操作で適用でき、機械的に硬く、電気的に絶縁性の、
化学的に不活性で、そして光学的に透明なダイヤモンド
様炭素の外側表面コーティングをもったコーティングさ
れた基質が提供できる。
従って本発明の目的は、基質特にプラスチック様基質に
対して新規な硬い保護コーティングを提供することであ
る。
本発明の更なる目的は、ダイヤモンド様炭素を含んでな
る付着性の薄い膜を基質、特にプラスチック様基質に適
用する手段を提供することである。
本発明の更なる目的は、透明、電気絶縁性、耐摩耗性及
び耐化学品性である基質特にプラスチック様基質のため
の付着性コーティングを提供することである。
これらの及び他の目的は、 （１１）該基質の少くとも１つの表面に隣り、炭素を含
んでなる比較約款い中間層；及び（ＩＤ　該中間層に隣
り、ダイヤモンド様炭素を含んでなる比較的硬い外側の
保護層、 を含んでなる製品によって達成される。
好適な具体例において、中間層（１１）は炭素及び水素
を含んでなり、厚さが約１００〜５０００Ａであり、そ
してスチールウールとの摩擦で傷をつけることができる
。他の好適な具体例において、該外側の保護層ＯｉＤは
炭素を含んでなり、厚さが約１０００〜２０，０ＯＯＡ
であり、そしてスチール・ウールとの摩擦で傷をつける
ことができない。更なる好適な特徴では該中間層（１１
）は炭素及び水素を含んでなり、厚さが約１００〜５０
００Ａであり、そしてスチール・ウールで傷をつけるこ
とができ、また該外側の保護層ａＩＤは炭素だけ又は炭
素及び水ｘｋｔＪ−１に−７−ｙ！、／ＰＩＡ　Ｍｌ−
４ｐａ１４ｋ　ｆｆ　ｌ’ｌ　／ｌ　／１−、リハｎｎ
ｎλであり、そしてスチール・ウールでの摩擦によって
傷をつけることができず、炭素に対する水素の量が０又
は層Ｑ＋Ｄにおいて層（１１）よりも多くても実質的に
低い。
更に中　炭素を含んでなる第１の比較約款い薄膜を基質
の少くとも１つの表面に付着し、そして （１１）該第１の薄膜の上にダイヤモンド様炭素を含ん
でなる第２の比較的硬い薄膜を付着する ことを特徴とするダイヤモンド様炭素の接着性薄膜を固
体基質に適用するための方法が意図される。
好適な特徴では、基質の表面を、炭化水素気体例えばメ
タン、エタン、プロパン、ブタン、アセチレン、ベンゼ
ンなどの、低ｒｆ出力対圧力比、即ち１００ワツト／ト
ール以下の比におけるｒｆプラズマ分解により、炭素を
厚さ約１００〜５０００Ｘで含んでなる比較約款い中間
層でコーティングし、次いで１００ワット／トール以上
の増大させたｒｆ出力対圧力比において厚さ約１０００
〜２０，０ＯＯＡのダイヤモンド様炭素を含んでなる比
較的硬い層でコーティングする。
本発明の目的に対して、保護の難しい基質は、炭素の硬
い表面コーティングの付着しない、金属、ガラス又はセ
ラミックスと比べて硬い又は比較的硬さの小さい又は柔
軟な材料のいずれかを含む。
そのような基質は一般にプラスチック、特にアクリル、
ポリ塩化ビニル、ポリカーボネートなどを含むが、これ
に限定されるものではない。
図面は、炭素膜を炭化水素気体のラジオ周波数プラズマ
分解によって付着させるための装置を系統的に例示する
。
本発明の保護コーティングされた製品は、炭素を含んで
なる比較約款い及び非常に硬い２つの層を、ダイヤモン
ド様炭素の直接付着させた単一の硬い層との接着的接触
を特徴的に拒絶し又は失なう保護の難しい基質の表面上
に付着させることによって製造される。炭素を含有する
比較約款い層、例えば水素を比較的高濃度で含有する層
を、基質とダイヤモンド様炭素層の間に介在させること
により、硬いコーティングの優秀な接着性を示し且つそ
のような硬い炭素コーティングの優秀な物理性を保有す
る保護コーティングされた基質が得られる。
ここに意図される基質は、種々の方法で、例えば炭素イ
オン線付着又はラジオ周波数プラズマ分解によって適用
される硬い炭素膜との接着的接触を成功裏に保持しない
物質である。そのような材料は塩例えばＮａＣｌ板及び
天然重合体を含む。基質はしばしば硬い炭素／低水素含
量形のものよりも実質的に大きい熱膨張係数を有する。
しかしながら、硬い炭素に近い熱膨張係数を有するが、
本発明に従って比較約款い高水素含有の炭素膜の介在に
よってだけダイヤモンド様炭素膜を接着的に適用しうる
他の材料も意図される。それ故に、本発明の目的に適す
る基質の全範囲を発見するのには何らかの実験が必要で
ある。
特に本発明で意図される基質は、透明な及び不透明なプ
ラスチック、即ちアクリル例えばアクリル酸、メタクリ
ル酸、これらの酸のエステル又はアクリロニドＩＪルの
重合体及び共重合体、特にポリ（メチルメタクリレート
）及びルーサイト■ （Ｌｕｃｉｔｅ）　、７”ｌｚ４．ｆｆ５Ｘ（Ｐｌｅｘ
ｉｇｌａｓ）■及びアク１７．イ）（Ａｃｒｙ…８）■
。ような商。
名で公知の材料；ポリカーボネート特にポリ（ビスフェ
ノール−Ａカーボネート）及びマーロン（Ｍｅｒｌｏｎ
）■ＲＵＬｚ−＋＋７　（Ｌｅｘａｎ）■。ようヶ商品
名で販売されている材料；ポリエステル例えばポリ（エ
チレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレー
ト）など；ポリアミド；ポリイミド；スチレン−アクリ
ロニトリル共重合体：スチレン−アクリロニトリル−ブ
タジェンターポリマー；ポリビニル及びビニリデンハラ
イド重合体及び共重合体、特にポリ塩化ビニル（ｐｖｃ
）、ポリビニルブチレート、ポリエチレンなど、を含む
合成有機重合体である。
本発明によれば、最初に軟い炭素膜が基質の表面に隣っ
て付着せしめられる′。この層は基質と表面層であるダ
イヤモンド様炭素を含んでなる硬い膜との間において、
結合層として働く。この結合層の炭素は普通褐色又は帯
黄色を有するであろうが、可視光にとって透明である。
硬くない基質と硬い外側の、ダイヤモンド様炭素を含ん
でなる膜との間の接着を高める厚さが意図されるけれど
、好ましくは、この結合炭素層の厚さは約１００〜歌い
炭素を含んでなる層に隣っては、保護の、ダイヤモンド
様炭素を含んでなる硬い膜が付着せしめられる。この外
側の膜は、ダイヤモンド様炭素膜を保護の高性能コーテ
ィングとして望ましいものとする硬い、絶縁性の、不活
性な性質に寄与する。好ましくは、このダイヤモンド様
炭素を含んでなる外側の膜は厚さが約１０００〜約２０
，０００Ａであろう。
上述の結合層と外側の硬い層とは同一の材料、即ち水素
含量及び硬さの程度に差はあっても炭素からなるから、
２つの層は炭素を基質上に付着させる条件を変えること
により同一の操作の一部として有利に適用でき、両コー
ティングが付与されるまで基質を取扱う又は操作する必
要がない。
本発明の実施において、薄い炭素膜の付着には他の公知
の方法が使用できるけれど、「グロー放電」としても公
知の炭化水素気体のラジオ周波数でのプラズマ分解が最
も好適な方法である。プラズマに対するエネルギーは容
量性又は誘電性のカップリングによって供給することが
できる。図面で見られるように、代表的な誘電的にカッ
プリングされるｒｆプラズマ反応器、即ち反応管２がｒ
ｆ電力源６に連結されているチューニング・ネットワー
ク・コイル４の軸上にある。電力計８は電力値を監視す
る。コーティングすべき基質ＩＯを熱シンク（ｈｅａｔ
　５ｉｎｋ）　１２対して置き、これを例えば導管１４
ａ及び１４ｂに水を通して冷却する。炭化水素気体例え
ばメタン、エタン、グロバン、ブタン、ベンゼン、アセ
チレンなどは、バルブ及び計量器を通して且つ拡散器１
８を通してタンク１６ａ、１６ｂ又は１６Ｃのいずれか
から導入される。反応管２を真空ポンプ２０で脱気し、
スロットル・バルブ２２を用いて系内の付着圧力を制御
する。炭素及び水素イオン及び電子のプラズマは電極間
で形成され、炭素イオンが熱シンク１２及び基質ｌＯ上
に突き当る。約１００ワツト／トール以下のラジオ周波
数出力と付着圧力の比で、歌い炭素膜が付着せしめられ
る。約１００ワツト／トール以上で硬いダイヤモンド様
炭素膜が付着される。
尚業者は、本発明を制限するのではなくて、その例示の
ために示す次の実施例を考慮するととＫよって本発明の
実施法をより良く理解しよう。
実施例１ アクリライト（Ａ・・ｙｌｉｔ・）■のポリ（メチ−メ
タクリレート）（サイロ・インダストリーズ（Ｃｙｒｏ
　Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ））ノ％“×１“×１“の試料
をキシレン中で２分間超音波できれいにし、次いでイソ
プロパツールでゆすぎ、空気乾燥した。
このプラスチック試料を水冷されたアルミニウムの熱シ
ンクに取りつけ、石英真空管（内径５０藺）中に置いた
。真空を０．１５トールとし、アセチレンの気体を０．
５ＣＣ／分の流速で導入した。１３．５６ＭＨｚ　にお
いて５ワツトのラジオ周波数出力を５分間適用して、厚
さ約７００Ａの炭素を含んでなる比較的歌い膜を形成さ
せた。次いで真空を０．０８トールとし、アセレンｏ、
　ｓ　ｃｃ　７分及び窒素０．１７分の混合気体を供給
した。１３．５６　ＭＨｚ　において２０ワツトのｒｆ
電力は厚さ約１５００１のダイヤモンド様炭素を外側層
として含んでなる硬い膜を生成した。
付着した膜は明視色を有したが、透明であった。
このコーティングされた基質は手持ちの０００スチール
・ウールで摩擦したが、傷を示さなかった。
加ツチ（Ｓｃｏｔｃｈ）■の透明テープを、こ加−ティ
ングされた表面に適用し、その場に圧着し、次いで９０
’　の角度で引き離した；ダイヤモンド様炭素を含んで
なる膜はそのままであり、良好な接着を示した。これに
対し、中間層を付着させてない場合には接着が貧弱であ
った。
実施例２ ポリ塩化ビニルのシートの発“×１”×１“の試料を石
けんと水で洗い、イソプロパツール中で超音波によりき
れいにし、空気乾燥した。次いで試料を図面に示す如き
装置中に入れ、ｒｆ出力３０ワット、真空０．５トール
、及び酸素供給気体の条件で１０分間ラジオ思波数での
グロー放電処理に供した。次いで試料を実施例１におけ
る如くコーティングし、軟い炭素膜上に硬いダイヤモン
ド様炭素膜を付与した。同様の耐摩耗性及びコーティン
グ接着性を示すコーティングされた基質が得られた。
上述の特許及び刊行物は本明細書に参考文献として引用
される。本発明における変化及び改変は上記開示に照ら
して明白になるであろう。例えば付着技術、供給気体の
組成、即ち純粋な炭化水素気体か或いは気体混合物か、
試料の滞電時間、供給速度などは、本発明を実施する際
の特別な必要性に従って変えることができる。しかしな
がらすべてのそのような改変は、特許請求の範囲で定義
される如き本発明の意図する全範囲内に包含される。
【図面の簡単な説明】
薪１ｍは、炭素膜を炭化水素気体のラジオ周波数プラズ
マ分解によって付着させるための装置を概略的に例示す
る。 特許出願人　アメリカ・サイアナミド・カンパニー 驚

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、中　固体の基質； （１１）該基質の少くとも１つの表面に隣り炭素を含ん
    でなる比較的歌い中間層：及び （１１ｐ　該中間層に隣り、ダイヤモンド様炭素を含ん
    でなる比較的硬い外側の保護層、を含んでなる製品 ２、該中間層（１１）は炭素及び水素を含んでなり、厚
    さが約１００〜５０００Ａであり、そしてスチール・ウ
    ールとの摩擦で傷をつけることができる、特許請求の範
    囲第１項記載の製品。 ３、該外側の保護層呻は炭素を含んでなり、厚さが約１
    ０００〜２０，０ＯＯＡであり、そしてスチール・ウー
    ルとの摩擦で傷をつけることができない特許請求の範囲
    第１項記載の製品。 ４６該中間層（１１）は炭素及び水素を含んでなり、厚
    さが約１００〜５０００Ｘであり、そしてスチール・ク
    ールで傷をつけることができ、また該外側の保護Ｍ　（
    ｉｉｉ）は炭素及び水素を含んでなり、厚さが約１００
    ０〜２０，０ＯＯＡであり、そしてスチール・ウールで
    の摩擦によって傷をつけることができない、炭素に対す
    る水素の量がＯ又は層０１１）において層（１１）より
    も実質的に低い、特許請求の範囲第１項記載の製品。 ５、該基質中がプラスチックからなる特許請求の範囲第
    １項記載の製品。 ６、該プラスチックがアクリル、ポリカーボネート、ポ
    リエステル、ポリアミド、ポリイミド、スチレン−アク
    リロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−
    ブタジェンターポリマー、及びビニルハライド重合体か
    らなる群から選択される合成有機重合体である、特許請
    求の範囲第５項記載の製品。 ７、該合成有機重合体が透明である特許請求の範囲第６
    項記載の製品。 ８、該合成有機重合体がポリ（メチルメタクリレート）
    、ポリカーボネート、及びポリ塩化ビニルからなる群か
    ら選択される特許請求の範囲第７項記載の製品。 ９、（＋）　ダイヤモンド様炭素よりも実質的に大きい
    熱膨張係数を有する固体の基質；（１１）該基質の少く
    とも１つの表面に隣る比較的軟い炭素の中間層；そして （ｉｉ＋）　該中間の結合層に隣り、該中間層によって
    該基質に接着的に結合された、ダイヤモンド様炭素の比
    較的硬い外側の保膜層、 を含んでなる保護コーティングされた製品。 １０、該中間層（１１）は、炭素及び水素を営んでなり
    、厚さが約１００〜５ｏｏｏＸであり、そしてスチール
    ・クールとの摩擦によって傷をつけることができる、特
    許請求の範囲第９項記載の製品。
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