JPS60215591A - 輻射体 - Google Patents
輻射体Info
- Publication number
- JPS60215591A JPS60215591A JP7027584A JP7027584A JPS60215591A JP S60215591 A JPS60215591 A JP S60215591A JP 7027584 A JP7027584 A JP 7027584A JP 7027584 A JP7027584 A JP 7027584A JP S60215591 A JPS60215591 A JP S60215591A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- coating
- radiator
- particles
- radiant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Gas Burners (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は燃焼暖房器、電気暖房器、加熱調理器等の輻射
体に関するものである。
体に関するものである。
従来例の構成とその問題点
燃焼、電気暖房器、加熱調理器を熱伝達の方法で区別す
ると対流型と輻射型の二つに分けることができる。対流
型の暖房は室内の空気全体を対流させることによる全体
的な暖房が可能で、それに対し輻射型は空気の流れを変
えるというようなことがないので局所的な暖房や、調理
の方面で利用２ヘーン されている。
ると対流型と輻射型の二つに分けることができる。対流
型の暖房は室内の空気全体を対流させることによる全体
的な暖房が可能で、それに対し輻射型は空気の流れを変
えるというようなことがないので局所的な暖房や、調理
の方面で利用２ヘーン されている。
従来の輻射型の暖房器又は調理器では、輻射体として金
属、セラミックスなどが使われ、セラミックス輻射体と
しては、セラミックスが燃焼バーナであり、かつ輻射体
となっているシュバンクバーナといわれるものと、金属
基材上にＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２等を溶射してセラミック
スの被膜を造ったものが代表的である。
属、セラミックスなどが使われ、セラミックス輻射体と
しては、セラミックスが燃焼バーナであり、かつ輻射体
となっているシュバンクバーナといわれるものと、金属
基材上にＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２等を溶射してセラミック
スの被膜を造ったものが代表的である。
これらの輻射体で問題となるのは、まず金属の場合、赤
外線輻射率が低く輻射効率が悪いこと、シュバンクバー
ナの場合、バーナ表面の炎でセラミックスからの輻射が
さえぎられるということ、金属基材上にセラミックスを
溶射した場合、膜厚が数１００μｍと厚すぎて、熱衝撃
に弱いということである。
外線輻射率が低く輻射効率が悪いこと、シュバンクバー
ナの場合、バーナ表面の炎でセラミックスからの輻射が
さえぎられるということ、金属基材上にセラミックスを
溶射した場合、膜厚が数１００μｍと厚すぎて、熱衝撃
に弱いということである。
発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、赤外線の輻
射率が高く、耐熱性のすぐれた輻射体を提供することを
目的とする〇 発明の構成 ３ − 上記目的を達成するため、本発明の輻射体は、金属、セ
ラミックス、ガラスのうちいずれか一種の基材上にわず
かに不純物を含んだＳｉＣと、Ｔｉ０２粒子から成る被
膜を形成したものであり、光学的には’ｒｉｏ２ＴｉＯ
２粒子が空気やＳｉＣに比べてかなり大きいために被膜
中のＴｉＯ２粒子で赤外線が多重散乱し吸収され赤外線
の輻射率が高くなると同時に、基材と被膜との熱膨張率
が比較的近いので熱衝撃に優れる。
射率が高く、耐熱性のすぐれた輻射体を提供することを
目的とする〇 発明の構成 ３ − 上記目的を達成するため、本発明の輻射体は、金属、セ
ラミックス、ガラスのうちいずれか一種の基材上にわず
かに不純物を含んだＳｉＣと、Ｔｉ０２粒子から成る被
膜を形成したものであり、光学的には’ｒｉｏ２ＴｉＯ
２粒子が空気やＳｉＣに比べてかなり大きいために被膜
中のＴｉＯ２粒子で赤外線が多重散乱し吸収され赤外線
の輻射率が高くなると同時に、基材と被膜との熱膨張率
が比較的近いので熱衝撃に優れる。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について、図面に基づいて説明
する。
する。
図面において、金属、セラミックス、ガラスのうちいず
れか一種の材料でなる基材１上に、ＳｉＣ２とＴｌＯ２
粒子３とで成る被膜が形成され、このＳｉＣにはＡｌ２
Ｏ３，５１０２、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ｂ２０等の酸化物の
うち少くとも一種以上を不純物として含む。この構成の
輻射体は各種暖房器、加熱調理器に応用できる。基材１
は使用する場所等に応じて加工、成形しておけばよい。
れか一種の材料でなる基材１上に、ＳｉＣ２とＴｌＯ２
粒子３とで成る被膜が形成され、このＳｉＣにはＡｌ２
Ｏ３，５１０２、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ｂ２０等の酸化物の
うち少くとも一種以上を不純物として含む。この構成の
輻射体は各種暖房器、加熱調理器に応用できる。基材１
は使用する場所等に応じて加工、成形しておけばよい。
前記ＴｉＯ２粒子の粒子径は、平均して０．２５μｍ〜
０．３μｍが好ましく、前記被膜の膜厚は平均１５μｍ
前後が適している。全被膜体積に占める全Ｔｉ○２粒子
体積゛の割合は７０％以下が適している。
０．３μｍが好ましく、前記被膜の膜厚は平均１５μｍ
前後が適している。全被膜体積に占める全Ｔｉ○２粒子
体積゛の割合は７０％以下が適している。
上記構成による作用について説明する。例えば基材が金
属の場合では、基材だけの赤外線の輻射率は０．１〜０
．２であるが、ＳｉＣとＴｌＯ２粒子から成る被膜を基
材上に形成すると赤外線の輻射率が平均して０，８〜０
．９となる。特に波長７μｍ以上では約０．９になる。
属の場合では、基材だけの赤外線の輻射率は０．１〜０
．２であるが、ＳｉＣとＴｌＯ２粒子から成る被膜を基
材上に形成すると赤外線の輻射率が平均して０，８〜０
．９となる。特に波長７μｍ以上では約０．９になる。
これは、前記被膜を設けたことで、前記基材表面の光学
的な反射を減少させ、かつ図面に示すように、入射光４
が被膜中のＴｉ０２粒子の表面で反射（拡散反射及び整
反対を含む）され、さらにその反射光５が他のＴｉＯ２
粒子表面で反射されるという多重散乱現象で、入射光が
被膜によく吸収されるためである。
的な反射を減少させ、かつ図面に示すように、入射光４
が被膜中のＴｉ０２粒子の表面で反射（拡散反射及び整
反対を含む）され、さらにその反射光５が他のＴｉＯ２
粒子表面で反射されるという多重散乱現象で、入射光が
被膜によく吸収されるためである。
また前記基材１は、それが置かれる熱的条件（温度８０
０℃以上）下では、熱による劣化（酸化等）が著しく、
外観そして機器の寿命にかなり問題があるが、基材１上
に被膜を設けると基材１５ベー。
０℃以上）下では、熱による劣化（酸化等）が著しく、
外観そして機器の寿命にかなり問題があるが、基材１上
に被膜を設けると基材１５ベー。
の酸化の速度を鈍化させ、かつ基材１及び被膜の熱膨張
係数がそれほど違わないことから熱衝撃のおこる環境に
も耐え得る。
係数がそれほど違わないことから熱衝撃のおこる環境に
も耐え得る。
このように本実施例によれば、輻射率が０．８〜０．９
と高いために、輻射効率の高い輻射暖房を行うことがで
きて、同時に暖い温感が得られ、また調理器に応用すれ
ば、調理時間の短縮化が図れる。
と高いために、輻射効率の高い輻射暖房を行うことがで
きて、同時に暖い温感が得られ、また調理器に応用すれ
ば、調理時間の短縮化が図れる。
また、耐熱、耐熱衝撃にすぐれているため、機器の長寿
命化になる。
命化になる。
次に、本発明による輻射体の製造方法の一実施例につい
て簡単に説明する。ＳｉＣの原料物質としてボロシロキ
サン樹脂を主成分とする有機炭化ケイ素重合体を用い、
これをトルエン等の有機溶剤と混合し、さらにＴｉ０２
粒子を混入する。これを撹拌機で数時間撹拌した後、基
材上に吹き付は塗装する。乾燥は３５０°Ｃで３０分、
７５０°Ｃで３０分きする。
て簡単に説明する。ＳｉＣの原料物質としてボロシロキ
サン樹脂を主成分とする有機炭化ケイ素重合体を用い、
これをトルエン等の有機溶剤と混合し、さらにＴｉ０２
粒子を混入する。これを撹拌機で数時間撹拌した後、基
材上に吹き付は塗装する。乾燥は３５０°Ｃで３０分、
７５０°Ｃで３０分きする。
発明の効果
以上のように本発明の輻射体によれば、輻射率が０．８
〜０．９と高く、かつ耐熱性、耐熱衝撃性に６ ページ 優れている。
〜０．９と高く、かつ耐熱性、耐熱衝撃性に６ ページ 優れている。
したがって暖房装置に適用すれば、輻射効率の高い輻射
暖房が得られ、暖い温感が得られる。また、調理器に適
用すれば調理時間が短縮される。
暖房が得られ、暖い温感が得られる。また、調理器に適
用すれば調理時間が短縮される。
さらに、機器の長寿命化が図れるなどの効果を有する。
図面は本発明の一実施例による輻射体の一部断面図であ
る。 １ ・・・・基材、２・・−８ｉＣ，３−・・・Ｔｉ０
２粒子。
る。 １ ・・・・基材、２・・−８ｉＣ，３−・・・Ｔｉ０
２粒子。
Claims (1)
- 金属、セラミックス、ガラスのうちいずれか一種の基材
上に、Ａｌ２Ｏ３，５ｉ０２、ＭｇＯ１Ｃａ○、Ｂ２０
等の酸化物のうち少くとも一種以上を不純物として含
むＳｉＣと、ＴｉＯ２粒子とで成る被膜を形成した輻射
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7027584A JPS60215591A (ja) | 1984-04-09 | 1984-04-09 | 輻射体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7027584A JPS60215591A (ja) | 1984-04-09 | 1984-04-09 | 輻射体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60215591A true JPS60215591A (ja) | 1985-10-28 |
Family
ID=13426796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7027584A Pending JPS60215591A (ja) | 1984-04-09 | 1984-04-09 | 輻射体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60215591A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62242717A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-23 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ラジアントチユ−ブ形式の加熱装置 |
| JPS6383508A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-14 | Sharp Corp | 石油スト−ブ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5239258A (en) * | 1975-09-22 | 1977-03-26 | Suzuki Tekkosho:Kk | Apparatus for feeding sheet-like matters |
| JPS5862437A (ja) * | 1981-10-09 | 1983-04-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 赤外線放射複合体 |
-
1984
- 1984-04-09 JP JP7027584A patent/JPS60215591A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5239258A (en) * | 1975-09-22 | 1977-03-26 | Suzuki Tekkosho:Kk | Apparatus for feeding sheet-like matters |
| JPS5862437A (ja) * | 1981-10-09 | 1983-04-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 赤外線放射複合体 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62242717A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-23 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ラジアントチユ−ブ形式の加熱装置 |
| JPS6383508A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-14 | Sharp Corp | 石油スト−ブ |
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