JPS60251322A - 輻射体 - Google Patents
輻射体Info
- Publication number
- JPS60251322A JPS60251322A JP10582584A JP10582584A JPS60251322A JP S60251322 A JPS60251322 A JP S60251322A JP 10582584 A JP10582584 A JP 10582584A JP 10582584 A JP10582584 A JP 10582584A JP S60251322 A JPS60251322 A JP S60251322A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- particles
- borosiloxane resin
- base material
- sic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24C—DOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
- F24C15/00—Details
- F24C15/24—Radiant bodies or panels for radiation heaters
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は暖房器や調理器の赤外線輻射体に関する。
従来例の構成とその問題点
従来、暖房器や調理器の赤外線輻射体には一例として、
金属の成形体、金属基材の上にセラミックス被膜をプラ
ズマ溶射で形成したもの、セラミックスバルクの成形体
を使っている。
金属の成形体、金属基材の上にセラミックス被膜をプラ
ズマ溶射で形成したもの、セラミックスバルクの成形体
を使っている。
このような輻射体は、８００℃位の高温環境で使用され
るので、熱による劣化は避けられない。特に金属は５熱
劣化が激しくて機器の寿命に大きな影響を与えている。
るので、熱による劣化は避けられない。特に金属は５熱
劣化が激しくて機器の寿命に大きな影響を与えている。
一方加熱と冷却の熱衝撃に対しては、金属基材上にセラ
ミックス被膜を設けたものが、膜がはくりするという欠
点があり、セラミックスの膜が緻密であれはあるほど、
又膜厚が厚ければ厚いほど膜のはくりが発生しやすい。
ミックス被膜を設けたものが、膜がはくりするという欠
点があり、セラミックスの膜が緻密であれはあるほど、
又膜厚が厚ければ厚いほど膜のはくりが発生しやすい。
、−セラミックスバルクの成形体は耐熱、耐熱衡撃につ
いては問題はない。
いては問題はない。
次に、輻射体の赤外線輻射率は、金属は０．１５又、使
用する場所に応じた形にするための成形性は金属は問題
ないが、セラミックス被膜を複雑な形状の金属基材に対
して形成するのは困難で、セラミックスバルクはもろい
ために薄い形状は困難であるし、複雑な形状も無理であ
る。
用する場所に応じた形にするための成形性は金属は問題
ないが、セラミックス被膜を複雑な形状の金属基材に対
して形成するのは困難で、セラミックスバルクはもろい
ために薄い形状は困難であるし、複雑な形状も無理であ
る。
次に、各種輻射体の製造コストであるが、金属の成形体
はそれほど高くないが、プラズマ溶射、セラミックスバ
ルクになると高い。
はそれほど高くないが、プラズマ溶射、セラミックスバ
ルクになると高い。
発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、耐熱性、耐
熱衡撃性に優れ、赤外線の輻射率が高く成形に問題がな
く、比較的低コストの輻射体を提供することを目的とす
る。
熱衡撃性に優れ、赤外線の輻射率が高く成形に問題がな
く、比較的低コストの輻射体を提供することを目的とす
る。
発明の構成
上記目的を達成するために本発明の輻射体は、金属、セ
ラミックのいずれかの基材上に、ＳｉＣ。
ラミックのいずれかの基材上に、ＳｉＣ。
ＴｉＯ２のいずれか一方の粒子さ、ボロシロキサン５ｉ
０２ 、 Ａｌ２Ｏ３のいずれか一方の酸化物粒子と、
ボロシロキサン樹脂の硬化体とから成る被膜を設け、前
記被膜を輻射面とする構成である。
０２ 、 Ａｌ２Ｏ３のいずれか一方の酸化物粒子と、
ボロシロキサン樹脂の硬化体とから成る被膜を設け、前
記被膜を輻射面とする構成である。
前記構成によると、被膜が金属よりも耐熱性に優れてお
り、金属基材の熱劣化を防止する一方、被膜が熱衡撃に
柔軟なため、熱衡撃による膜のは（りが発生しにくい。
り、金属基材の熱劣化を防止する一方、被膜が熱衡撃に
柔軟なため、熱衡撃による膜のは（りが発生しにくい。
又、酸化物粒子やボロシロキサン樹脂硬化体が光学的に
赤外線輻射率を０．８〜０．９と高くする。
赤外線輻射率を０．８〜０．９と高くする。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について、図面に基づいて説明
する。
する。
図は本発明による輻射体の一実施例の部分断面図である
。図において金属基材）１）上に、ＳｉＣかＴｉＯ２の
いずれか一方の粒子２と、ボロシロキサン樹脂硬化体３
とから成る被膜が設けてあり、力の酸化物粒子５とボロ
シロキサン樹脂の硬化体３とから成る被膜を設けている
。
。図において金属基材）１）上に、ＳｉＣかＴｉＯ２の
いずれか一方の粒子２と、ボロシロキサン樹脂硬化体３
とから成る被膜が設けてあり、力の酸化物粒子５とボロ
シロキサン樹脂の硬化体３とから成る被膜を設けている
。
以下上記構成における作用について説明する。
ボロシロキサン樹脂は一例として次式の様な構造をもち
、常温ではトルエン、キシレンといった有機溶剤に溶け
るなどの有機の性質が大である。前記ボロシロキサン樹
脂を６００℃以上に加熱するとフェニル基などの有機分
が分解蒸発して残置は、Ｓｔ、Ｂ、Ｏの３元素から成る
無機質のボロシロキサン樹脂硬化体となる。このように
してできるボロシロキサン樹脂硬化体は耐熱温度が１０
００℃以上と高く、金属基村上に被膜を形成することで
金属の熱劣化を防止できる。
、常温ではトルエン、キシレンといった有機溶剤に溶け
るなどの有機の性質が大である。前記ボロシロキサン樹
脂を６００℃以上に加熱するとフェニル基などの有機分
が分解蒸発して残置は、Ｓｔ、Ｂ、Ｏの３元素から成る
無機質のボロシロキサン樹脂硬化体となる。このように
してできるボロシロキサン樹脂硬化体は耐熱温度が１０
００℃以上と高く、金属基村上に被膜を形成することで
金属の熱劣化を防止できる。
またボロシロキサン樹脂硬化体は、ボロシロキサン樹脂
の有機分が分解蒸発した跡に多数の空孔をもち、急激な
熱衡撃による被膜の膨張収縮を前記空孔で吸収緩和する
ことができるので、熱衡撃による膜のばくりか発生しに
くい。本実施例によれば、１０００°Ｃの雰囲気から水
温に急激に冷却しても膜のはぐりはなく、この熱サイク
ル全１０回くり返しても結果は同様であった。
の有機分が分解蒸発した跡に多数の空孔をもち、急激な
熱衡撃による被膜の膨張収縮を前記空孔で吸収緩和する
ことができるので、熱衡撃による膜のばくりか発生しに
くい。本実施例によれば、１０００°Ｃの雰囲気から水
温に急激に冷却しても膜のはぐりはなく、この熱サイク
ル全１０回くり返しても結果は同様であった。
次に光学的作用について説明する。
物質に光を照射すると、光の反射、透過、吸収がおこる
。反射光、透過光、吸収光の各々の入射光に対する強度
比は、反射率ｔｒｉ、透過率（ｔ）、吸収率（８Ｌ）に
なり、ｒ、ｔ、ａの和は１になる。
。反射光、透過光、吸収光の各々の入射光に対する強度
比は、反射率ｔｒｉ、透過率（ｔ）、吸収率（８Ｌ）に
なり、ｒ、ｔ、ａの和は１になる。
１ ＋ ａ ＋ ｔ ＝ １
キルヒホッフ則より吸収率ｆａｔと輻射率（ε）は等し
く、本実施例の様に可視光線や赤外線について透過がな
い場合には１＝０であるから、 ｒ＋ａ＝ｘ＋ｅ＝１ 、ε＝ａ＝１−ｒである。よって
、吸収率（輻射率）を高くするには反射率を低くすれば
よい。ところが金属は一般に反射率＋ｒｌが高いので輻
射率（ε）が低い。
く、本実施例の様に可視光線や赤外線について透過がな
い場合には１＝０であるから、 ｒ＋ａ＝ｘ＋ｅ＝１ 、ε＝ａ＝１−ｒである。よって
、吸収率（輻射率）を高くするには反射率を低くすれば
よい。ところが金属は一般に反射率＋ｒｌが高いので輻
射率（ε）が低い。
また、本実施例のようを構成においては、被膜中の粒子
で光が散乱されるが、散乱現象を有効的に利用すれば輻
射率（ε）を高くすることができる。例えば、光を散乱
しやすい粒子で散乱させ、この散乱光を、光を吸収しや
すい粒子に吸収させるということである。
で光が散乱されるが、散乱現象を有効的に利用すれば輻
射率（ε）を高くすることができる。例えば、光を散乱
しやすい粒子で散乱させ、この散乱光を、光を吸収しや
すい粒子に吸収させるということである。
本実施例によると、Ａｌ２Ｃ）３． ＳｉＯ２は赤外線
を散乱し、Ｆｅ２０３２ＭｎＯ２，Ｃｕｏが、その散乱
光を吸収する。特に波長３〜６ｐｍの赤外線を吸収する
。ＳｉＣは波長２〜Ｅ３ｐｍの赤外線の反射率が低く、
輻射率を高めるのに有効である。ま＊ＳｉＣやＴ ｉ
Ｏ２は屈折率が、各々３．３．２．８と高く、金属基材
上にＳｉＣ，ＴｉＯ２を含む被膜を設けることで赤外線
をＳｉＣ，ＴｉＯ２が散乱し、さらに上層のＦｅ２Ｏ３
、ＭｎＯ２、Ｃｕ Ｏで、散乱光を吸収できると同時に
、赤外線を金属基材まで透過させないので、金属基材に
よる赤外線の反射を防止できる。このようにして、赤外
線の吸収率（輻射率）を高めることができる。
を散乱し、Ｆｅ２０３２ＭｎＯ２，Ｃｕｏが、その散乱
光を吸収する。特に波長３〜６ｐｍの赤外線を吸収する
。ＳｉＣは波長２〜Ｅ３ｐｍの赤外線の反射率が低く、
輻射率を高めるのに有効である。ま＊ＳｉＣやＴ ｉ
Ｏ２は屈折率が、各々３．３．２．８と高く、金属基材
上にＳｉＣ，ＴｉＯ２を含む被膜を設けることで赤外線
をＳｉＣ，ＴｉＯ２が散乱し、さらに上層のＦｅ２Ｏ３
、ＭｎＯ２、Ｃｕ Ｏで、散乱光を吸収できると同時に
、赤外線を金属基材まで透過させないので、金属基材に
よる赤外線の反射を防止できる。このようにして、赤外
線の吸収率（輻射率）を高めることができる。
次に本実施例の輻射体の成形性について説明する。本発
明による輻射体は基材が少々複雑な形状であっても塗装
方式で、基材上に被膜を形成できて、しかも膜厚の管理
がそれほど困難でないことから、成形性には比較的すぐ
れている。
明による輻射体は基材が少々複雑な形状であっても塗装
方式で、基材上に被膜を形成できて、しかも膜厚の管理
がそれほど困難でないことから、成形性には比較的すぐ
れている。
以下、本実施例による輻射体の製造法の一例について説
明する。
明する。
平均粒子径が０．３ ｐ ｍ前後のＳｉＣ粒子とボロシ
ロキサン樹脂（例えば昭和電線電纜（株）のＳＭＰ−３
２）、！：、トルエン〒８を第１表の組成で配合、攪拌
し塗料化した。（以下、塗料１という） 第１表 次に平均粒子径がＯｏ−３ｆｉ＠後のＡ Ｉ２０３ と
Ｆ ｅ ２０３．ＭｎＯ２、ＣｕＯの粒子とボロシロキ
サン樹脂（前記ＳＭＰ−３２）とトルエンヨ基暴↓を第
２表の組成で配合、攪拌し塗料化した。（以下、塗料２
という） 第 ２ 表 まず、・ステンレス基村上に塗料１を塗布し、その後、
塗料２を塗布した。これ’１３００℃で３０分、７５０
℃で３０分加熱した。このようにして造られた輻射体の
膜厚は１５〜２０ｆｉｍで、被膜の下層（塗料１による
もの）の膜厚と上層（塗料２によるもの）の膜厚はほぼ
等しいが厳密に等しい必要はない。１５〜２Ｑ／’ｍの
膜厚で波長２〜６１ｍの輻射率が０．６−０．７、波長
６−３０ ｆｉｍで約０．９であった。ステンレスだけ
の場合、波長２〜３０μｍで輻射率は約０．１５である
から、本実施例により赤外線の高輻射体が得られた。
ロキサン樹脂（例えば昭和電線電纜（株）のＳＭＰ−３
２）、！：、トルエン〒８を第１表の組成で配合、攪拌
し塗料化した。（以下、塗料１という） 第１表 次に平均粒子径がＯｏ−３ｆｉ＠後のＡ Ｉ２０３ と
Ｆ ｅ ２０３．ＭｎＯ２、ＣｕＯの粒子とボロシロキ
サン樹脂（前記ＳＭＰ−３２）とトルエンヨ基暴↓を第
２表の組成で配合、攪拌し塗料化した。（以下、塗料２
という） 第 ２ 表 まず、・ステンレス基村上に塗料１を塗布し、その後、
塗料２を塗布した。これ’１３００℃で３０分、７５０
℃で３０分加熱した。このようにして造られた輻射体の
膜厚は１５〜２０ｆｉｍで、被膜の下層（塗料１による
もの）の膜厚と上層（塗料２によるもの）の膜厚はほぼ
等しいが厳密に等しい必要はない。１５〜２Ｑ／’ｍの
膜厚で波長２〜６１ｍの輻射率が０．６−０．７、波長
６−３０ ｆｉｍで約０．９であった。ステンレスだけ
の場合、波長２〜３０μｍで輻射率は約０．１５である
から、本実施例により赤外線の高輻射体が得られた。
このように塗装方式で造られる輻射体は、従来のプラズ
マ溶射によるものやセラミックバルクに比べて低コスト
でできる。
マ溶射によるものやセラミックバルクに比べて低コスト
でできる。
発明の効果
以上のように本発明によれは次の効果を得ることができ
る。
る。
（１）被膜の耐熱性、耐熱衡撃性が金属よりも優れてい
るので機器の長寿命化が図れる。
るので機器の長寿命化が図れる。
（お 赤外線の輻射率が高いので、高効率で輻射加熱が
できる。
できる。
（３）塗装方式であるから、成形性がよいし、製造コス
トも安くなる。
トも安くなる。
図面は本発明の一実施例の部分断面図である。
１・−・基材、２・・ＳｉＣ又はＴ ｉ Ｏ２粒子、３
・・・・・ポロシロキサン樹脂硬化体、４・・・・・Ｆ
ｅ２０３Ｍｎ０２．ＣｕＯ粒子、５−− Ｓ ｉ Ｏ
２又はＡ １２０３粒子。
・・・・・ポロシロキサン樹脂硬化体、４・・・・・Ｆ
ｅ２０３Ｍｎ０２．ＣｕＯ粒子、５−− Ｓ ｉ Ｏ
２又はＡ １２０３粒子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 金属、セラミックのいずれかの基材上に、Ｓ、ｉＣ。 ＴｉＯ２のいずれか一方の粒子と、ポロシロキサくＳ
ｉ ０２ 、 Ａ １２０３ のいずれか一方の酸化物
粒子と、ボロシロキサン樹脂の硬化体上から成る被膜を
設け、前記被膜を輻射面とした輻射体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10582584A JPS60251322A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | 輻射体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10582584A JPS60251322A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | 輻射体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60251322A true JPS60251322A (ja) | 1985-12-12 |
Family
ID=14417833
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10582584A Pending JPS60251322A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | 輻射体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60251322A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0260683A2 (en) * | 1986-09-19 | 1988-03-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Coating composition for ir radiation heating |
| JPS6384675A (ja) * | 1986-09-27 | 1988-04-15 | Yoshio Ichikawa | 赤外線放射塗膜 |
| JP2016216729A (ja) * | 2016-06-28 | 2016-12-22 | エスシージー ケミカルズ カンパニー，リミテッド | 高放射率コーティング組成物およびその製造プロセス |
-
1984
- 1984-05-25 JP JP10582584A patent/JPS60251322A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0260683A2 (en) * | 1986-09-19 | 1988-03-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Coating composition for ir radiation heating |
| JPS6384675A (ja) * | 1986-09-27 | 1988-04-15 | Yoshio Ichikawa | 赤外線放射塗膜 |
| JP2016216729A (ja) * | 2016-06-28 | 2016-12-22 | エスシージー ケミカルズ カンパニー，リミテッド | 高放射率コーティング組成物およびその製造プロセス |
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