JPS60211673A - 磁気テ−プのガイドおよびその製造方法 - Google Patents

磁気テ−プのガイドおよびその製造方法

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JPS60211673A
JPS60211673A JP6789384A JP6789384A JPS60211673A JP S60211673 A JPS60211673 A JP S60211673A JP 6789384 A JP6789384 A JP 6789384A JP 6789384 A JP6789384 A JP 6789384A JP S60211673 A JPS60211673 A JP S60211673A
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JP
Japan
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guide
magnetic tape
layer
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base layer
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JP6789384A
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Masaji Fukushima
福島 正次
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は磁気テープのガイドおよびその製造方法に係
り、特に磁気テープの記憶を破壊したりテープ面を損う
ことなく加工性が良好でコストの低置な磁気テープのガ
イドおよびその製造方法に関する。
[発明の技術的背景] 情報を磁気的に記憶する装置としては、磁気テープ記憶
装置、磁気ディスク記憶装置などがある。
これら記憶装置は、例えば磁気テープ記憶装置において
は、磁気ヘッドに磁気テープを接触走行させ、情報の書
込み、読出しを行っている。このとき、情報を正確に書
込み・読出すために、磁気ヘッドに対して磁気テープの
情報面を正確に位置させ、走行させなければならない。
そこで、走行する磁気テープを案内し安定させるために
、磁気テープを収納したケースと磁気ヘッドを設けた装
置本体とにそれぞれガイドを設けている。
このガイドには磁気テープが接触走行するので、磁気テ
ープの記憶を破壊したりテープ表面をFMうことのない
ように、非磁性・非帯電性の月質からなり、また所要の
硬度を有するとともに表面処理も精密でなければならな
い。このため、従来はステンレス鋼(例えば5US31
6等)を旋盤などでガイドの概要寸法に切断加工し、次
いで心なし研削盤で順次に複数回研削することにより、
所要外径に成形し、しかる後に超仕上盤で表面処理を精
密に仕上げてガイドを製造していた。
[背景技術の問題点] ところが、ステンレス鋼は材質が硬いので切断や研削な
どの加工性が悪い。このため、従来のガイドの製造に際
しては、加工行程に多くを要し、また材料自体もけっし
て安価とは言えないため、コストを低下できない不都合
を有していた。
[発明の目的] そこでこの発明は、従来と同様に磁気テープの記憶を破
壊したりテープ表面を損うことのないガイドであって加
工性が良好でコストの低置な磁気テープのガイ)−およ
びその製造方法を実現することを目的とする。
[発明の構成] この目的を達成するためにこの発明は、走行する磁気テ
ープを案内すべく、非磁性および非帯電性の軟質基層と
、非磁性および非帯電性の硬質表層と〜この硬質表層の
精密仕上げした表面とから構成したことを特徴とする。
さらにまた、非磁性および非帯電性の軟質基層を所定形
状に形成し、次いでこの軟質基層に非磁性および非帯電
性の硬質表層を形成し、しかる後にこの硬質表層の表面
を精密仕上げすることを特徴としている。
[発明の実施例] 次に、この発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する
。第1〜2図は、ビデオカセットケース内の磁気テープ
を示すものである。図において、2はカセ・ノドのケー
ス、4・6はリール、8・10は巻取軸、12は磁気テ
ープである。磁気テープ12は、たとえば一方のリール
4から他方のり−ル6に巻取られる間に、磁気ヘッド(
図示せず)に情報面を接触走行させ、情報の書込み・読
出しを行う。このとき、走行する磁気テープ12を安定
させるために、ケース2にはガイドGを設&Jている。
図示例では、一方のり−ル4側に近接させて、回転する
円筒状のガイドローラ14とケース2に固定された円筒
状のガイド筒16とを設りている。他方のリール6側に
近接させて、ケース2に固定された中実のガイド軸18
とこのガイ1−軸18間に磁気テープ12を挾持するテ
ープ押え20とケース2に固定された円筒状のガイド筒
22とを設けている。磁気テープ12は、これら各ガイ
ド14〜22に接触して走行する。
前記リール4側のガイド筒16とリール6側のガイド@
22とは、第1図に示す如く磁気テープ12をケース2
の前面側に保持させ、図示しない磁気ヘッドに正確に情
報面を位置させる。なお、図示しないが、これら各ガイ
ド14〜22と同様に、磁気ヘッドを設けた装置本体側
にもガイドを設けている。
この発明によるガイドGの一例を、第3〜5図に示す。
第3図はガイド筒16・22の部分断面側面図、第4図
はガイド軸18の部分断面側面図である。第5図に示す
如く、ガイドGは非磁性および非帯電性の軟質基NFと
、やはり非磁性で非帯電性の硬質表層Cとからなり、こ
の硬質表層Cを精密仕上げして滑かにした表面Sとから
構成している。
前記軟質基層Fは、°例えばアルミニウムや真鍮など非
鉄金属やプラスチック、セラミック、ガラス等からなる
。また、前記硬質表NCは、例えばニッケル、クローム
、亜鉛等をメッキ処理し、あるいは、軟質基NFの表層
を硬化処理、例えばアルミニウム表面に酸化アルミニウ
ムの皮膜を形成してもよい。この硬質表層Cの表面Sを
滑らかに精密仕上げすることにより、従来と同様に接F
+11:走行する磁気テープ12の記憶を破壊したりテ
ープ面を損うことのないガイド°Gが実現され、加工性
が良好でコストを低廉化し得る。また、例えばアルミニ
ウム等軽量の軟質基層によれば、回転するガイドであれ
ば慣性を軽減してテープの起動停止に迅速に応動させる
ことができる。
次に、この発明の製造方法を説明する。第6図は、この
発明の製造方法の第1実施例を示すものである。この実
施例では、軟質基層Fをアルミニウムとし−、硬質表層
Cをニッケルとする。まず、(a)図の如くアルミニウ
ムよりなる軟質基NFを旋盤やカッタ等により例えば第
3・4図に示すガイドGの所定形状に形成する。この場
合に、従来の如く心なし研削盤による大なる削り代を要
せず、仕上げ代に近い寸法に形成してよい。
次いで、(b)図の如く軟質基層Fにニッケルよりなる
硬質表層Cを形成する。このニッケルによる硬質表層C
の形成については、例えばカニゼン法による無電解、メ
ッキ等により形成する。
この後に、超仕上盤あるいは心なし研削盤により硬質表
層Cを研削し、(C)図の如く表面Sを滑かに精密仕上
げする。
これにより、ガイド−Gの表面Sに接触する磁気テープ
12ば、軟質基層F、硬質表層Cとも非磁性および非帯
電性のアルミニウムとニッケルであるので従来と同様に
磁気テープ12の記憶を破壊することがない。また、硬
質表icの表面を市かに仕上げであるので、磁気テープ
12の面を損うこともない。しかも、ガイドGの加工は
軟質基層Fにより加工性が良好であり、従来の如く心な
し研削盤で複数回に渡り所要外径にまで研削する必要も
な(、加工行程数を減少させてコストダウンを図ること
ができる。さらに、回転するガイドであれば慣性を軽減
してテープの起動停止に迅速に応動させることができる
なお、軟質基NFをガイドGの所定形状に形成した際に
、その表面が充分に滑かに形成してあれば、無電解メッ
キによるニッケルの硬質表層Fはその表面Sも滑かに形
成されるので表面Sを精密仕上げする行程を省略でき、
更なるコストダウンを図ることができる。
第7図は、この発明の製造方法の第2実施例を示すもの
である。この実施例では、軟質基層F、硬質基層Cとも
アルミニウムとしている。まず、<a>図の如くアルミ
ニウムよりなる軟質基層Fを旋盤等によりガイドGの所
定形状に形成する。
次いで、(b)図の如くこの軟質基層Fに酸化アルミニ
ウムの皮膜を形成し耐食性とかたさを高め、硬質表層C
を形成する。その後、この硬質表層Cを超仕上盤等で研
削し、(c)図の如く表面Sを湯かに精密仕上げする。
この第2実施例の製造方法によれば、単一の材料でガイ
ドGを製造でき、加工時には材質が軟がいので製造加工
が容易になり、表層の剥落等のおそれもなく、さらなる
コストダウンを図ることができる。
第8図は、この発明の製造方法の第2実施例を示すもの
である。この実施例では、軟質基層Fをプラスデックと
している。まず、(a) 図の如くプラスチックよりな
る軟質基層FをガイドGの所定形状に、例えば射出成形
等により形成する。次いで、(b)図の如く軟質基層F
に無電解メッキ等によりニッケルよりなる硬質表層Cを
形成する。
この硬質表層Cを超仕上げ盤等により研削し、(c)図
の如く表面Sを滑かに精密仕上げする。
この第3実施例によれば、軟質基層Fをプラスチックと
したことにより金属よりなる軟質基NFよりも容易に成
形加工することができ、材料自体が安価なこともあり、
よりコストの低置なガイドG−t−製造しうる。
なお、この発明によるガイドGは、この実施例に例示さ
れる材質や加工処理手段により限定されるものではない
。例えば、軟質基層Fとしては、アルミニウムやプラス
チックのほか、真鍮や銅などの非鉄金属やガラス、セラ
ミック等の非金属などが挙げられる。また、硬質表層C
としては、ニッケルのほか、クロームや亜鉛等が挙げら
れる。
この表層の処理手段としては、無電解メッキなど各種メ
ッキ処理やいわゆるアルマイト処理などの硬化処理、さ
らにクロームの拡散被覆などが挙げられる。表面Sを滑
かに精密に仕上げる手段としては、超仕上盤や心なし研
削盤、あるいは八ツ仕上げでもよい。なお、前述の如く
軟質基FiFの形成に際し、その表面が充分滑かであれ
ば、表面Sの研削行程を省略し得る。また、ガイドGの
所定形状に形成した軟質基層Fの表面を先に研削して滑
かにし、次いで5硬質表層Fを無電解ニッケルメッキに
より形成してもよい。
[発明の効果コ このようにこの発明によれば、非磁性および非帯電性の
軟質基層と硬質表層とからなるので、磁気テープの記憶
を破壊することがなく、さらに硬質表層の表面は滑かな
ので磁気テープ面を損うこともない。また、加工時には
軟質基層によりガイドの所定形状に容易に加工すること
ができ、さらに軟質基層を例えばアルミニウム等とする
ことにより加工行程数の減少と相俟って、加工性が良好
でコストの低度な磁気テープのガイドおよびその製造方
法を実現し得る。また、回転するガイドであれば慣性を
軽減してテープの起動停止に迅速に応動させることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
図はこの発明の実施例を示し、第1・2図はビデオカセ
7+−の磁気テープの平面図と正面図、第3・4図はガ
イド筒とガイド軸との部分断面正面図、第5図は第4図
の矢視■の拡大断面図、第6図(a)(b)(c)はガ
イドの製造方法の第1実施例を順次に示す拡大断面図、
第7図(a)(b)(C)はガイ1−の製造方法の第2
実施例を順次に示す拡大断面図、第8図(a)(b)(
c)はガイドの製造方法の第3実施例を順次に示す拡大
断面図である。 図において、2はカセットのケース、4・6はリール、
8・10はテープ軸、12は磁気テープ、14はガイド
ローラ、16・22はガイド筒、18はガイド軸、Gは
ガイド、Fは軟質基層、Cば硬質表層、Sは表面である
。 代理人 弁理士 西 郷 義 美 代理人 弁理士 原 1)幸 男 第1図 第2図 第6図 第7図 第δ図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■、走行する磁気テープを案内すべく、非磁性および非
    帯電性の軟質基層と、非磁性および非帯電性の硬質表層
    と、この硬質表層の精密仕上げした表面とから構成した
    ことを特徴とする磁気テープのガイ]−0 2、非磁性および非帯電性の軟質基層を所定形状に形成
    し、次いでこの軟質基層に非磁性および非帯電性の2質
    表層を形成し、しかる後にこの硬質表層の表面を精密仕
    上げすることを特徴とする磁気テープのガイドの製造方
    法。
JP6789384A 1984-04-05 1984-04-05 磁気テ−プのガイドおよびその製造方法 Pending JPS60211673A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JPH01223683A (ja) * 1988-03-03 1989-09-06 Sanshin Kogyo Kk テープガイドの製造方法
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