JPS6043210A - 磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く産業上の利用分野〉 本発明は、イオンビーム照射により、加工変僅の少ない
高精度ギャップを形成してなる｛６気へノド及びその製
造方法に関する。

〈従来技術〉 従来、Ｃ形コアを組合わせて構成される｛市気ヘッドは
、Ｃ形コアを砥石、研ｊ話月により切削加工をしていた
ために、作業工数が多くて作業性が急く、良好な加工精
度が得られなかった。

そこで、上述した欠点を解決する手段として、レーザー
加工や放電加工も考えら力，るが、必ｆ９　１精度が得
られにくく、精度を追求するとヘッドのコスト高を招く
ことＫより、はとんど実用化されていないのが現状であ
る。

〈問題点を解決するための手段〉 本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであり、Ｃ
形コアの組合わせで構成される磁気ヘッドにおいて、上
記Ｃ形コアの少なくともギャップ突き合わせ部分がイオ
ンビーム照射によって、加である。

〈実施例〉 以下、本発明による実施例を添付した図面に基づいて詳
細に説明する。

ｕ！；　１図ないし第７図は、本発明による一実施例で
ある製造工程を示す斜視図であり、ここでは薄膜製造法
による磁気ヘッドについて説明する。

上記薄膜製造法とは、メッキ、蒸着、スパッタリング、
その他化学反応炉を用いて気相から成長させる方法であ
り、磁気記録媒体の対向面で、磁気回路を構成する磁性
材料の厚さを磁気ヘッドの　゛必要とされるトラック幅
としてなる磁気ヘッドにおいて、ギャップは磁気記録媒
体の摺動方向と略直交するように配置される。

に、膜厚が磁気ヘッドのトラック幅に対応するように磁
性体膜２を固着する。

上記磁性体膜２は、パーマロイ、センダスト等の金属性
磁性材料や、フェライトなどの酸化物磁性材料、或いは
アモルファス磁性体で成形さ・１１．ている。

ここで、上記アモルファス磁性体は、鉄、コバルト、ニ
ッケルの三元系遷移全組成分とケイ素、ホウ素等の半金
属成分とからなる金に４６湯全超え３、冷して非晶化し
た非晶質合金であり、透磁率、保磁力、残留密度などは
ほとんど−定で変化せず、外部応力に対して不感である
とと本に、硬度がイ１テく、耐摩耗性が良好々磁気ヘッ
ドＨ料である。

上記磁性体膜２土に、Ｃ形コア等の磁気回路」′体に必
要とされる形状のみを残すように加工を行ない、上記磁
気回路半休のギャップを形成する突き合わせ部分の切断
研磨加工を行なうために、加工部Ｍｊｇ！３が印刷、蒸
着などの手段によって付着される。

つぎに、上記加工保護膜３によって形成された加工部分
が第３図ないし第４図に示すように、イオンビーム照射
によって切断加工される。この時加工保饅膜３は、必要
とされる加工部分以外をイオンビーム照射から保護する
だめのものである。

なお、ここで磁気回路半休を形成する切断加工と、上記
磁気回路半体上のギャップ４の突き合わせ部分の切断研
磨加工とを同時にイオンビーム照射ｆよって行なうこと
も可能であり、ギャップ４の突き合わせ部分の平担度は
必要とされるギャップ長のＡＯ以下の凹凸であれば、イ
オンビーム照射による加工が最適である。

４ｆｃ、上記切断加工に使用されるイオンビーム照射と
は、例えばアルゴンガスガとを高真空中に導入し、数Ｋ
Ｖ以下の電圧でイオン化、加速し、被加工物に照射する
ものであり、加工変質が少なく、精度の良い加工面が形
成されることから多方面に使用されている。

−４、磁ｆｉヘッドのギャップが磁気記録媒体の走行方
向に対して直角以外の角度、す寿わちアジマス形式に成
形する必要がある場合には、照射するイオンビームと磁
性体膜との相対的な角度をＤ１定の角度にすることによ
って得られる。

つぎに、上述したように加工されたＣ形コア等の磁気回
路半休にギヤツブｆ構成するには、第５図に示すように
、必要とされるギャップ長に相当する厚さの酸化ケイ素
等で成形された非磁性体５を上記加工済磁気回路半休の
Ｒ［定位置に蒸丞、スパッタリング等により付着させる
。

その後、第６図に示すように、残る磁気回路−′４つ体
６を少なくともギャップ突き合わせ部分では、ギャップ
を構成する非磁性体５？介して対向させて固着される。

このとき、二つの磁気回路半休どうしの後部の接合は磁
気特性を損うことのないように、充分に磁気的に題な接
合が行なわれるように考慮される。

土述したように、固着された後、突き合わされた磁気回
路半休を非磁性体基板１ごと切断し、磁気記録媒体の走
行面を研磨加工し、所定の位置にコイル７を巻回して磁
気ヘッドを製造するものである。

上記実施例では、磁気回路を構成する磁性相料２の厚さ
を磁気ヘッドのトラック幅とする形式について詳述した
が、第８図に示すように、非磁性基板１上に基板平面と
平行にギャップを形成する構造の磁気ヘッドにおいて、
高精度のギャップ突き合わせ面を要する場合にもイオン
ビーム照射による加工を行なうことによって形成するこ
とができる。

すなわち、げφ、磁気記録媒体走行方向矢印ａに対して
、ギャップｂを形成する場合、このギャップｂの面を一
方の磁気回路半休を形成する磁性体膜２にイオンビーム
照射によって加工した後、残りの磁気１１川路半体６ｆ
重ねて蒸着などにより付着さぜ、コイル７を巻回して磁
気ヘッドを製造するものである。

第９図ないし第１０図は、漕欣法によらない他の実施例
であり、一般の単結晶体であるパーマロイ、センダスト
、フェライト、アモルファス磁性体々どによるバルク状
の磁気ヘッドであり、バルク状のＣ形磁性体１０．１１
のギャップ突き合わせ面１０ａ、ｌ’ｌａ及び閉回路形
成ＨＢｉｏｂ、ｉｌｂをイオンビーム照射によって加工
した場合を示すものであシ、高精度の加工歪のない面を
つくることができる。

〈効　果〉 以上詳細に説明したように、本発すＩＫよる磁気ヘッド
及びその製造方法によれば、従来のレーザー加工や放電
加工と異なり、平−１ｉ４であり、しかも均一な加工面
が形成される等力１１工稜度が良好なため、特に小型の
録画−、ラドを大量に生産することができる。

号だ、寸法精度が良好なために、イ１％気的４Ｎ′トも
向上し、特に小型８ミリビデオの回転ヘッド碧に使用す
るのに適している。

さらに、上記磁気ヘッドを構成する磁性体をアモルファ
ス磁性制料にて成形すれに１、優れた電磁変換信性を生
かした高能率の磁気ヘッドとなり、１す、その耐摩耗性
を生かすことによってテープ走行面の摩耗が少ないので
磁気ヘッドの寿命が延びる等の効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第７図は、本発明による一実施例を示す磁
気ヘッドの製造工程図、第８図は本発明による他の実施
例を示す磁気ヘッドの斜視図、第９図ないし第１０図は
本発明による他の実施例を示す磁気ヘッドの斜視図であ
る。 ■・・・・・非磁性体基板、２・・・・・・磁性体膜、
３・・・・・加−１−保縛膜、４・・・・ギャップ、５
・・・・非磁性体、６・・・・磁気回路半休、７・・・
・・・コイル牛１　許　出　願　人　ティーディーケイ
株式会社代理人　弁理士　佐　藤　英　昭 ＝」−／□□□ 〕栄２菖 眉−５（イ） 斗４（舶 ／　噂 −牙６（イ） プ／θ必 手続袖正書（自発） 昭和５８年　９月１０日 昭（ｕ　５．８年　特　許願第１４１６　＋５す２　発
明の名称　磁気ヘッド及びその製造方法３　補正をする
者 ＋１１（′１との関係　特許出願人 ４代理人 ８、　？ｉｌｉ止の内容 別紙の通シ 〔補正の内容〕 明細書第４頁第１７行妬「磁ツバ残留臂）度などはほと
んど一定で変化せず、」とある記載を、［磁力などはほ
とんど」 と補正する。 一以　−）−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１１Ｃ形コアを組合わせた磁気回路であって、上記Ｃ
   形コアの少なくともギャップ突き合わせ部分がイオンビ
   ーム照射による加工面を有するコトｔ％徴とする磁気ヘ
   ッド。 （２）Ｃ形コアを組合わせた磁気回路であって、上記Ｃ
   形コアの少なくともギャップ突き合わせ部分をイオンビ
   ーム照射によりカロエしたことを特徴とする磁気ヘッド
   の製造方法。 （：３）　上記Ｃ形コアが加工保護膜、磁性体膜、及び
   非磁性体基板により形成されたことを特徴とする請求の
   範囲第（υ項記載の磁気ヘッド。 （４）上記Ｃ形コアが加工保穫膜、磁性体膜、及び非磁
   性体基板により形成されることを特徴とする特ｒｆｊ％
   求の範囲第（２１項記載の磁気ヘッドの製造方法。 （５）　上記Ｃ形コアの磁性体膜が薄膜製造法によ（６
   ）上記Ｃ形コアの磁性体膜がアモルファス磁性材相にて
   形成されたことを特徴とする特許の範囲第（３）項記載
   の磁気ヘット。 （７）上記Ｃ形コアの磁性体膜かアモルファス脩