JPS6018961B2 - 光学ストライプフイルタの製造方法 - Google Patents

光学ストライプフイルタの製造方法

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JPS6018961B2
JPS6018961B2 JP52154018A JP15401877A JPS6018961B2 JP S6018961 B2 JPS6018961 B2 JP S6018961B2 JP 52154018 A JP52154018 A JP 52154018A JP 15401877 A JP15401877 A JP 15401877A JP S6018961 B2 JPS6018961 B2 JP S6018961B2
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JP
Japan
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filter
glass substrate
etching
manufacturing
stripe
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JP52154018A
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JPS5485741A (en
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航作 矢野
慎司 藤原
治 江口
栄一郎 田中
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学ストライプフィル夕の製造方法に関する。
現在、光学ストライプフィル夕とi,してダィクロィツ
クフィル夕が良く用いられる。これは耐熱性退色性、経
時変化、透過率などが優れていることによる。このダイ
クロイツクフイル夕をストライプ化する方法として、ホ
トェッチングを用いて化学的にフィル夕をエッチングし
てストライプ化する方法、リバースエッチング法でスト
ライプ化する方法などが知られている。ここでトイb学
的にフィル夕をエッチングする方法はフィルタが多層構
造のためエッチング液の選択と、ストライプ形状の精度
に問題がある。この点、リバ・‐スェツチング法ではリ
バースエッチング材料に.1ッチングし易い金属を使用
でき、フィル夕のストライプ化が精度よくできる。リバ
ースエッチング法を用いたダイクロイツクストライプフ
ィル夕の形成は、従来ガラス基板上に設けられたCr,
Ag,Cu,Auなどの金属薄膜上にレジストを塗布し
、所定パターンを作成する。
そして、金属薄膜のエッチングを行ない、レジストも除
去する。次にガラス基板及び金属薄膜上にダィクロィツ
クフィル夕を形成し、金属エッチング液に浸糟させると
金属薄膜及びその上部のダイクロィツクフィル夕が除去
され、ダィクロイックストライプフィルタが得られる。
ここで問題となるのはリバースエッチングが長時間に及
ぶと、ガラス基板とフィル夕材料に影響を与え、特にガ
ラス基板とフィルタ表面の変色とそれに伴なう分光特性
の低下などの問題点があった。本発明は上記問題重点を
解決できた光学ストライプフィル夕の製造方法を提供す
るものである。
以下、本発明の一実施例を第1図を用いて説明する。第
1図aに示すようにガラス基板1上に金属薄膜として銅
薄腰2を形成し、第1図bで示すようにレジスト3を塗
布し、フオトェッチングで第1図cに示すように銅簿膜
2をストライプ状にする。
次にこの基板を真空中あるいは不活性ガスなどのIJバ
ースエッチング材料が酸化しない状態真で熱処理された
ガラス基板1と鋼薄膜2上にダィクロィツクフイル夕4
を形成後、銅薄膜2のエッチング液として塩化第2鉄水
溶液中に浸潰し、銅薄膜とその上のフィル夕4を除去し
、第1図eで示されるダィクロィックストライプフィル
タを得る。以上のように熱処理して製作されたダイクロ
イツクストライプフイルタのリバースエッチングでの浸
濃時間と熱処理温度との関係を第2図に示した。
図中0は本賜の方法によるもの、×は熱処理工程のない
従来の方法によるものである。この図から明らかなよう
に、本発明によれば、リバースエッチングの時間が著し
く短縮された。
また、そのときの熱処理温度は350℃以上で良好であ
るが、50ぴ0以上で行なうと熱歪が大きく、C渡肇膜
の剥離があった。このことから、35ぴ○〜450℃が
特に有効であった。本発明は上述のように熱処理工程を
備えることで、ガラス基板とフィル夕のりバースエッチ
ングにおける変質で分光特性が低下するという従来の問
題点を除去することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図a〜eは従来の光学フィル夕の形成方法を示す工
程図、第2図は本発明での一実施例を行なったときのI
Jバースエッチングの時間を従来例でのりバースエッチ
ング時間で規格化し、熱処理温度とともに示す図である
。 1・・・・・・ガラス基板、2・・・・・・鋼薄膜、3
・・・・・・レジスト、4……フイルタ。 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ガラス基板上にストライプ金属パターンを形成する
    工程と、前記ガラス基板に真空中もしくは不活性ガス中
    で350℃〜450℃で熱処理を施す工程と、前記スト
    ライプ金属および露出したガラス基板上に光学フイルタ
    を蒸着する工程と、前記ストライプ金属をエツチングに
    より溶解する工程とを具備した光学ストライプフイルタ
    の製造方法。
JP52154018A 1977-12-20 1977-12-20 光学ストライプフイルタの製造方法 Expired JPS6018961B2 (ja)

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JPS6270037A (ja) * 1985-09-25 1987-03-31 福山パ−ル紙工株式会社 耐熱容器成形用の複合シ−ト
JPS6442213U (ja) * 1987-09-04 1989-03-14

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