JPS60187922A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS60187922A JPS60187922A JP4129784A JP4129784A JPS60187922A JP S60187922 A JPS60187922 A JP S60187922A JP 4129784 A JP4129784 A JP 4129784A JP 4129784 A JP4129784 A JP 4129784A JP S60187922 A JPS60187922 A JP S60187922A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicone
- substrate
- polymer
- recording medium
- graft polymer
- Prior art date
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- Granted
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- Lubricants (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は基体上に真空蒸着、イオンプレーティンダ、ス
パッタリング又はメッキ法等により設けた強磁性金属薄
膜上及び又は基体の裏面上に潤滑被稼層を・形成させて
々る表面改質された磁気記録媒体に関するものである。
パッタリング又はメッキ法等により設けた強磁性金属薄
膜上及び又は基体の裏面上に潤滑被稼層を・形成させて
々る表面改質された磁気記録媒体に関するものである。
その目的どするところは記録媒体とし7て強磁性金属薄
膜を使用する磁気記録媒体の走行安定性:耐久性および
耐食性を改善する事にある。近年、強磁性全域粉末をバ
インダーとともに基体上に塗布乾燥し7てつくられた磁
気記録媒体に代って、更Itf論、悴q会fを読棚1四
赫梧lf傭yhイ1八入胎廠梧9奈膓1信膜の磁性層を
基体上に蒸着、スパッタリング等によって被着形成り、
た磁気記録媒体が、オーディオ録音、ビデオ録画および
8Xビデオ録画用テーフをはじめ、垂直磁気記録、光磁
気ディスク笠σ)h[)録メモリーと1で特に注目され
て来ている。
膜を使用する磁気記録媒体の走行安定性:耐久性および
耐食性を改善する事にある。近年、強磁性全域粉末をバ
インダーとともに基体上に塗布乾燥し7てつくられた磁
気記録媒体に代って、更Itf論、悴q会fを読棚1四
赫梧lf傭yhイ1八入胎廠梧9奈膓1信膜の磁性層を
基体上に蒸着、スパッタリング等によって被着形成り、
た磁気記録媒体が、オーディオ録音、ビデオ録画および
8Xビデオ録画用テーフをはじめ、垂直磁気記録、光磁
気ディスク笠σ)h[)録メモリーと1で特に注目され
て来ている。
しかし、この金属磁性層は空気中の酸素、水分等によっ
て腐食し易く、また磁気ヘッド、ドラノ、およびボスト
等との接触走行によす塵耗L2易い。
て腐食し易く、また磁気ヘッド、ドラノ、およびボスト
等との接触走行によす塵耗L2易い。
そこで該テープの表面に対し電磁変換特性を低重させる
ことなく、耐食性、剛摩耗性を向−1−さぜると共に、
低摩擦性で薄く均一な厚さを有し、かつ強固々密着力と
平面性を何カするととが可能な、潤滑性表面処理剤と処
理方法について多くの研究開発がなされている。
ことなく、耐食性、剛摩耗性を向−1−さぜると共に、
低摩擦性で薄く均一な厚さを有し、かつ強固々密着力と
平面性を何カするととが可能な、潤滑性表面処理剤と処
理方法について多くの研究開発がなされている。
従来提案されている方法のひとつと17で、金属薄膜表
面との吸着等を利用して、潤滑剤(高級脂肪酸及びその
塩類、脂肪酸アマイドおよびフッ素系界面活性剤等)、
ワックス、およびシリコーン系オイル、フッ素系オイル
等の処理剤を塗布する方法も提案されているが、この方
法でに、磁’lfL”、7ずり取られたりして、その効
果を長く持続させることは困難である。
面との吸着等を利用して、潤滑剤(高級脂肪酸及びその
塩類、脂肪酸アマイドおよびフッ素系界面活性剤等)、
ワックス、およびシリコーン系オイル、フッ素系オイル
等の処理剤を塗布する方法も提案されているが、この方
法でに、磁’lfL”、7ずり取られたりして、その効
果を長く持続させることは困難である。
又磁性体自体の合金化により高硬度にしたり、他金属膜
やケイ素化合物等の無機化合物の膜を蒸着やスパッタリ
ング等の方法により形成させ、高硬度で耐食性を有する
被膜を得る方法が提案されているが、この方法は、耐食
性および耐摩耗性等の改善に効果はあるけれど、密着力
は往々にして不十分であり、一方高硬度のため急速に記
録媒体およびトランシ=−サーの破壊を生ずる等の問題
どともに、複雑な処理を必要と[7、コス]・的に高価
となり、満足のいく結果は得られていない。
やケイ素化合物等の無機化合物の膜を蒸着やスパッタリ
ング等の方法により形成させ、高硬度で耐食性を有する
被膜を得る方法が提案されているが、この方法は、耐食
性および耐摩耗性等の改善に効果はあるけれど、密着力
は往々にして不十分であり、一方高硬度のため急速に記
録媒体およびトランシ=−サーの破壊を生ずる等の問題
どともに、複雑な処理を必要と[7、コス]・的に高価
となり、満足のいく結果は得られていない。
別の方法として磁性層の表面又は基体の裏面を、ウレタ
ン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂お
よび放射線、紫外線硬化型樹脂等の高分子物質で被覆す
る事が多く提案されている。
ン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂お
よび放射線、紫外線硬化型樹脂等の高分子物質で被覆す
る事が多く提案されている。
これは低摩擦性、耐食性および耐久性等において、一時
的に効果があるが、スペーシングロスト称スる電磁変換
特性の低下をもたらすことを考慮すれば、高分子物質被
膜はたかだか500X、望ましくは200X程度の膜厚
で均一平滑な平面性を有しなければならない。ところが
かかる膜厚では完全に水分の浸入を防止する事は困蛯で
あり、耐摩耗性、耐薬品性の点で難点がある。′まだ公
知の高分子物質の塗布による表面処理では出力変動の少
ない均一な薄膜を形成することは困難である。
的に効果があるが、スペーシングロスト称スる電磁変換
特性の低下をもたらすことを考慮すれば、高分子物質被
膜はたかだか500X、望ましくは200X程度の膜厚
で均一平滑な平面性を有しなければならない。ところが
かかる膜厚では完全に水分の浸入を防止する事は困蛯で
あり、耐摩耗性、耐薬品性の点で難点がある。′まだ公
知の高分子物質の塗布による表面処理では出力変動の少
ない均一な薄膜を形成することは困難である。
又基体裏面についても、テープ鳴き、走行安定性および
耐久性を向上させる為に耐摩耗性、潤滑性の付与が強く
要求され、非磁性体金部、A 4 (* u /Ag等
の金属層を形成させたり、滑剤を含崩シ、た高分子層を
形成させたりして、バノクコーI一層を施すことが提案
されている。
耐久性を向上させる為に耐摩耗性、潤滑性の付与が強く
要求され、非磁性体金部、A 4 (* u /Ag等
の金属層を形成させたり、滑剤を含崩シ、た高分子層を
形成させたりして、バノクコーI一層を施すことが提案
されている。
しかしいずれにしても、従来技術によれば強磁性金属薄
膜の保護層として又、基体の裏面処理剤とし7て未だ満
足なるものは得られていない。
膜の保護層として又、基体の裏面処理剤とし7て未だ満
足なるものは得られていない。
本発明者らは従来より提案された公知の方法の欠点を克
服すべく鋭意研究した結果、本発明に到達したものであ
る。
服すべく鋭意研究した結果、本発明に到達したものであ
る。
本発明の目的は−F述した従来技術の諸欠点を解消し、
基体上に真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリ
ング又はメッキ法等により設けた強磁性金属薄膜の磁性
層表面及び又は基体の裏面上に、電磁変換特性を低下さ
せることなく、低摩擦性で1制摩耗性および面4食性に
優れた均一な保饅膜を設けてなる磁気記録媒体を提供せ
んとするものである。
基体上に真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリ
ング又はメッキ法等により設けた強磁性金属薄膜の磁性
層表面及び又は基体の裏面上に、電磁変換特性を低下さ
せることなく、低摩擦性で1制摩耗性および面4食性に
優れた均一な保饅膜を設けてなる磁気記録媒体を提供せ
んとするものである。
庫発明に係る磁気記録媒体の一例は、ポリエチレンテレ
フタレートフィルム(以下PETフイA−ムと称−〕°
る。)ポリイミドフィルム又dポリアミドフィルム等、
或いはポリカーボネート板、アクリル樹脂板又はガラス
板等の如き基体上に、真空蒸着、イオンブレーティング
、スパッタリング又はメッキ法等により、Fe、 0o
INi、 Or、 Ga、(1□6等をr↓じめとした
磁性を有した金属層・又はこれらを主成分とする合金の
強磁性金属薄膜を磁性層としで設けた後、その表面又は
基体の裏面に、シリコ−・ン糸グラフトポリマー・単独
で若しくけ他の表る。
フタレートフィルム(以下PETフイA−ムと称−〕°
る。)ポリイミドフィルム又dポリアミドフィルム等、
或いはポリカーボネート板、アクリル樹脂板又はガラス
板等の如き基体上に、真空蒸着、イオンブレーティング
、スパッタリング又はメッキ法等により、Fe、 0o
INi、 Or、 Ga、(1□6等をr↓じめとした
磁性を有した金属層・又はこれらを主成分とする合金の
強磁性金属薄膜を磁性層としで設けた後、その表面又は
基体の裏面に、シリコ−・ン糸グラフトポリマー・単独
で若しくけ他の表る。
本発明においては磁性層を設けた後、所要にV、、じて
該磁性層の耐久性および密着性を向」ニさせるため、磁
性層表面上又は基体の裏mr vc、高分−イ化合物、
無機化合物(Sins等)婢の形成および磁性体自体の
合金化等の1地処理を施して下地層を形成させ、ついで
叫滑被棲層を形成させてもよい。
該磁性層の耐久性および密着性を向」ニさせるため、磁
性層表面上又は基体の裏mr vc、高分−イ化合物、
無機化合物(Sins等)婢の形成および磁性体自体の
合金化等の1地処理を施して下地層を形成させ、ついで
叫滑被棲層を形成させてもよい。
本発明によれは、磁性層表面に耐摩耗性、潤滑性、磁性
層の耐食性、磁性層との密光性に優fまたトノプコ−1
・層を形成でき、又基体裏面には面IJ譬耗性、潤滑性
、基体との密着性に優わだバフクコ−1層を形成できる
。このようにしこ形成した保腹膜は磁性層に悪影響を及
はさず、電磁変換特例を低下させることがなく、低摩擦
性で耐食1り、お1び耐摩耗性等が優れているので、走
行安定性および耐久性に優れた磁気記録媒体が提供さt
lる、。
層の耐食性、磁性層との密光性に優fまたトノプコ−1
・層を形成でき、又基体裏面には面IJ譬耗性、潤滑性
、基体との密着性に優わだバフクコ−1層を形成できる
。このようにしこ形成した保腹膜は磁性層に悪影響を及
はさず、電磁変換特例を低下させることがなく、低摩擦
性で耐食1り、お1び耐摩耗性等が優れているので、走
行安定性および耐久性に優れた磁気記録媒体が提供さt
lる、。
本発明で用いられるシリコーン糸グラフlポリマーは、
マクロモノマー法によって製造されたものが好適である
。
マクロモノマー法によって製造されたものが好適である
。
うな各種の製法があり、それらのいずれによるものも使
用できる。
用できる。
製法の一例は、下記一般式(A)で示される環状シロキ
サンをアニオン重合してなるリビングポリマーと下記一
般式(11)で示されるラジカル重合性シリコーン化合
物との反応生成物であるラジカル重合性直鎖シリコーン
高分子モノマー(シリコーンマクロモノマーと称する)
をラジカル重合性モノマーとラジカル重合させることに
より、シリコーン糸グラフトポリマーを得る方法である
(%m昭58−.1120号)。
サンをアニオン重合してなるリビングポリマーと下記一
般式(11)で示されるラジカル重合性シリコーン化合
物との反応生成物であるラジカル重合性直鎖シリコーン
高分子モノマー(シリコーンマクロモノマーと称する)
をラジカル重合性モノマーとラジカル重合させることに
より、シリコーン糸グラフトポリマーを得る方法である
(%m昭58−.1120号)。
1
ま
たたし、it、はメチル基、エチル基又はフェニル基で
あり、Pit3又は4である。
あり、Pit3又は4である。
(B) ル2
■
(用−000(IJ)J* +2+o入0l−Is O
Hm OHr 8 i (Rへ一11 ltn ただし、R寞は水素又はメチル基mは0又1↓1、R,
、It4はメチル基、エチル基又はフェニル基、nは1
〜3の整数であり、tはm = (lの場合0〜2の整
数、m=1の場合2である3゜ 上記環状シロキサンの7′ニオン和合は常法に従、って
行なえばよく、公知のアニオン重合開始剤を用い、塊状
重合法又は溶液重合法により容易に行うことができる。
Hm OHr 8 i (Rへ一11 ltn ただし、R寞は水素又はメチル基mは0又1↓1、R,
、It4はメチル基、エチル基又はフェニル基、nは1
〜3の整数であり、tはm = (lの場合0〜2の整
数、m=1の場合2である3゜ 上記環状シロキサンの7′ニオン和合は常法に従、って
行なえばよく、公知のアニオン重合開始剤を用い、塊状
重合法又は溶液重合法により容易に行うことができる。
一般式(A)で示される環状シロキサンの例と1では、
ヘギザメチルシクロトリシロキーリ゛ン、オクタメチル
シクロテトラシロキザン、ヘキザエチルンクロトリシロ
キサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、ヘキザ
フェニルシクロトリシロギザン、オクタフェニルシクロ
テトラシロキサ/があけられるが、このうちへキサメチ
ルシクロl−リシロキザン及びオクタメチルシフロチI
・ラシロキザンがコスト、アニオン重合の容易さの点で
特V(好ましい。アニオン重合開始剤としては、有機リ
チウム化合物、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ア
ルコキシド、アルカリ金属シラル−ト等の公知のものが
あけられるが、これらのうち有機リチウム化合物が特に
好ましい。アニオン重合により得られるリビングポリマ
ーの分子量はシリコーンマクロモノマーの分子量を支配
するものであり、環状シロキャンと開始剤のモル比によ
り調節され、開始剤/環状シロキサンのモル比は0.0
1〜0.2が好゛まり、い。001未満ではシリコーン
マクロモノマーが極めて高分匍(2万以上)となり、0
.2を越えるとシリコーンマクロモノマーが極めて低分
子fit(l、ooo以下)となりやすい。シリコーン
マクロモノマーの分子量としては、1.00 (1〜Z
O,(] 00が好ましい。該分子量−が1000未
満ではシリコーンの効果即ち捩水、撥油性、低岸擦性が
低F’L、20,000を越えると得られるシリコーン
糸クラフト共重合体がオイル秋となりやすく、精製がむ
ずかしくなる。
ヘギザメチルシクロトリシロキーリ゛ン、オクタメチル
シクロテトラシロキザン、ヘキザエチルンクロトリシロ
キサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、ヘキザ
フェニルシクロトリシロギザン、オクタフェニルシクロ
テトラシロキサ/があけられるが、このうちへキサメチ
ルシクロl−リシロキザン及びオクタメチルシフロチI
・ラシロキザンがコスト、アニオン重合の容易さの点で
特V(好ましい。アニオン重合開始剤としては、有機リ
チウム化合物、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ア
ルコキシド、アルカリ金属シラル−ト等の公知のものが
あけられるが、これらのうち有機リチウム化合物が特に
好ましい。アニオン重合により得られるリビングポリマ
ーの分子量はシリコーンマクロモノマーの分子量を支配
するものであり、環状シロキャンと開始剤のモル比によ
り調節され、開始剤/環状シロキサンのモル比は0.0
1〜0.2が好゛まり、い。001未満ではシリコーン
マクロモノマーが極めて高分匍(2万以上)となり、0
.2を越えるとシリコーンマクロモノマーが極めて低分
子fit(l、ooo以下)となりやすい。シリコーン
マクロモノマーの分子量としては、1.00 (1〜Z
O,(] 00が好ましい。該分子量−が1000未
満ではシリコーンの効果即ち捩水、撥油性、低岸擦性が
低F’L、20,000を越えると得られるシリコーン
糸クラフト共重合体がオイル秋となりやすく、精製がむ
ずかしくなる。
シリコーンマクロモノマーけ、上記のようにして得られ
たりピングポリマーと一般式(11)で示されるラジカ
ル重合性シリコーン化合物を反応(リビング■合停正反
応)することにより得ることができる。該反応1両者を
混合することにより容易に行なわれる。
たりピングポリマーと一般式(11)で示されるラジカ
ル重合性シリコーン化合物を反応(リビング■合停正反
応)することにより得ることができる。該反応1両者を
混合することにより容易に行なわれる。
一般式0つ)でだされるラジカル重合性シリコーン化合
物は、公知の方法により容易に得ることかでき、例えは 6 0山=G O0fcH* )tfo+アaI1.011
+ 曲1−8皿1 (tta )l−nvt、。
物は、公知の方法により容易に得ることかでき、例えは 6 0山=G O0fcH* )tfo+アaI1.011
+ 曲1−8皿1 (tta )l−nvt、。
(Ra+4m、山は前記に同じ)
け1R。
(用、=0−(J−0そ(用θtそ0も、011+ 0
II=OHx:1 (It、、4mは前記に同じ) なる不飽和(メタ)アクリレートと 11d 、 (144)1−、.0lrL(ILl 、
nは前記に同じ)とのヒドロシリル化反応により得る
ことができる。
II=OHx:1 (It、、4mは前記に同じ) なる不飽和(メタ)アクリレートと 11d 、 (144)1−、.0lrL(ILl 、
nは前記に同じ)とのヒドロシリル化反応により得る
ことができる。
該ラジカル重合性シリコーン化合物の使用量は、リビン
グ1台開始剤1当知(1モル)に対し一般式(11)の
S、−Otが1〜5倍当量となる量が好−ましい。
グ1台開始剤1当知(1モル)に対し一般式(11)の
S、−Otが1〜5倍当量となる量が好−ましい。
シリコーン系グラフトポリマーは、上記のようにし2て
得られたシリコーンマクロモノマーをラジカル重合性モ
ノマーと常法によって共重合することにより容易に得ら
れる。
得られたシリコーンマクロモノマーをラジカル重合性モ
ノマーと常法によって共重合することにより容易に得ら
れる。
シリコーン系グラフトポリマーの他の製法の例は、下記
一般式(A’lで示されるシリコーンとその1モル当り
下記一般式(勇で示されるアクリル化合物()25〜1
モルとの縮合反応生成物であるアクリ/L’&[シリコ
ーン(シリコーンマクロモノマート・称する)を、ラジ
カル1合性モノマーとラジカル共重合させる製法である
(特開昭58−154766月公報)。
一般式(A’lで示されるシリコーンとその1モル当り
下記一般式(勇で示されるアクリル化合物()25〜1
モルとの縮合反応生成物であるアクリ/L’&[シリコ
ーン(シリコーンマクロモノマート・称する)を、ラジ
カル1合性モノマーとラジカル共重合させる製法である
(特開昭58−154766月公報)。
1電1
(h’) 110(Sin) H(kL’およびVは炭
素数1〜101 ″ It” の−価の脂肪族炭化水素基、フェニル基又は−価のハロ
ゲン化炭化水素基。nけ1以上の正数D(ltoは水素
原子、又゛はメチル基。几°はメチル基、エチル基又は
フェニル基。Xは塩素原子、メトキシ基又はエトキシ基
。) この製法の詳細は、上記公開特許公報に記載されている
とおりであって、一般式(A’lで示されるシリコーン
とし2てけ各種のものを容易に入手でき、それらの中か
ら目的に合ったものを使用すればよいが、R’、R″が
メチル基のシリコーンが特に好オしい。一般式(AA)
におけるnはシリコーンの分子年を決める因子であり、
とのれは1〜500が〃イオしく、10〜300がさら
に好捷し、い。nが1未満ではシリコーンの効果即ち4
斃水、J貸油4シ1゛、低摩擦性が得られず、ガが50
0を越えると得られるシリコーングラフト共重合体がオ
イル状となっ1精製がむつかしくなる。
素数1〜101 ″ It” の−価の脂肪族炭化水素基、フェニル基又は−価のハロ
ゲン化炭化水素基。nけ1以上の正数D(ltoは水素
原子、又゛はメチル基。几°はメチル基、エチル基又は
フェニル基。Xは塩素原子、メトキシ基又はエトキシ基
。) この製法の詳細は、上記公開特許公報に記載されている
とおりであって、一般式(A’lで示されるシリコーン
とし2てけ各種のものを容易に入手でき、それらの中か
ら目的に合ったものを使用すればよいが、R’、R″が
メチル基のシリコーンが特に好オしい。一般式(AA)
におけるnはシリコーンの分子年を決める因子であり、
とのれは1〜500が〃イオしく、10〜300がさら
に好捷し、い。nが1未満ではシリコーンの効果即ち4
斃水、J貸油4シ1゛、低摩擦性が得られず、ガが50
0を越えると得られるシリコーングラフト共重合体がオ
イル状となっ1精製がむつかしくなる。
一般式(■θで示されるアクリル化合物としてr:j:
。
。
例えばr−メタクリルオキシグロビルメチルジクロロシ
ラン、γ−メタクリルオキシブロビルメヂルジエトキシ
シラン、γ−メタクリルオキシブロビルフェニルジク四
ロシラン、γ−メタクリルオキシグロビルエチルジクロ
ロシラン、γ−アクリルオキシグロビルメチルジクロロ
シラン等があげられる。これらのアクリル化合物は公知
であり、ケイ素化合物と脂肪族性多重結合を有する化合
物を塩化白金酸の存在下で反応させることにより容易に
得られる。
ラン、γ−メタクリルオキシブロビルメヂルジエトキシ
シラン、γ−メタクリルオキシブロビルフェニルジク四
ロシラン、γ−メタクリルオキシグロビルエチルジクロ
ロシラン、γ−アクリルオキシグロビルメチルジクロロ
シラン等があげられる。これらのアクリル化合物は公知
であり、ケイ素化合物と脂肪族性多重結合を有する化合
物を塩化白金酸の存在下で反応させることにより容易に
得られる。
一般式(菊で示されるシリコーンと一般式(川で示され
るアクリル化合物の反応は常法により円滑に進行シリコ
ーンマクロモノマ−が得られる。即ち、アクリル化合物
のXが塩素原子の場合は脱塩酸反応、Xがメトキシ基又
はエトキシ基の場合は脱アルコール縮合反応が進行する
。
るアクリル化合物の反応は常法により円滑に進行シリコ
ーンマクロモノマ−が得られる。即ち、アクリル化合物
のXが塩素原子の場合は脱塩酸反応、Xがメトキシ基又
はエトキシ基の場合は脱アルコール縮合反応が進行する
。
シリコーンとアクリル化合物の反応割合は、シリコーン
1モルに対し、アクリル化合物025〜1モルて゛アル
。0.25モル未満ではシリコーン系グラフトポリマー
製造の際未反応シリコーンが多l残ることになり、1モ
ルを越えるとシリコーン系グラフトポリマー製造の際ゲ
ル化が生じやすくなる。
1モルに対し、アクリル化合物025〜1モルて゛アル
。0.25モル未満ではシリコーン系グラフトポリマー
製造の際未反応シリコーンが多l残ることになり、1モ
ルを越えるとシリコーン系グラフトポリマー製造の際ゲ
ル化が生じやすくなる。
シリコーン系グラフトポリマーは、上記のようにして得
られたシリコーンマクロモノマーをラジカル重合性モノ
マーと常法により共1合することにより得られる。
られたシリコーンマクロモノマーをラジカル重合性モノ
マーと常法により共1合することにより得られる。
さらに本発明で好適に使用されるシリコーン系グラフト
ポリマーの製法としては、特開昭58−154766号
に開示されている方法の一つの原料である一般式(lっ
で示されるアクリル化合物の代りに、下記一般式(14
′つで示されるアクリル化合物を用い、その他、の原料
化合物、反応条件などは特開昭58−154766号開
示の方法と同様にしてシリコーンマクロモノマ−を合成
し、これをラジカル重合性モノマーとラジカル重合させ
る方法がある(特願昭57−129075号)。
ポリマーの製法としては、特開昭58−154766号
に開示されている方法の一つの原料である一般式(lっ
で示されるアクリル化合物の代りに、下記一般式(14
′つで示されるアクリル化合物を用い、その他、の原料
化合物、反応条件などは特開昭58−154766号開
示の方法と同様にしてシリコーンマクロモノマ−を合成
し、これをラジカル重合性モノマーとラジカル重合させ
る方法がある(特願昭57−129075号)。
■5
(上記一般式においてnはl又は3の整数であり、その
他のR” 、 R’及びXの意味は、前記一般式(功ニ
おけるものと同じである。) 上記の牝開昭58−154766号あるいは特許urq
57−129075号で提案されている製法による生
成物は、シリコーン系グラフトポリマー金主成分とし、
その他に未反応の原料シリコーン及び副生ずる交叉結合
した架橋ポリマーを従成分として含有しているが、該生
成物はそのitシリコーン系グラフトポリマーとして、
本発明において有用に使用することができる。上記各製
法において、シリコーンマクロモノマーとラジカル共重
合すべきラジカル重合性モノマーとし2ては、オレフィ
ン系化合物の例とし7て、エチレン、プロピレンなどの
低分子量直鎖状不飽和炭化水素、塩化ビニル及ヒフノ化
ビニルの如きハロゲン化ビニル、酢酸ビニルの如き有機
酸のビニルエステル、スチレン、スチレン置換体並びに
ビニルピリジン及ヒヒニルナフタレンの如きその他のビ
ニル芳香族化合物、アクリル酸、メタクリル酸、並びに
それらのエステル、アミドを含むアクリル酸、メタクリ
ル酸の誘導体、アクロレイン、アクリロニトリル、N−
ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタムの如き
N−ビニル化合物、ビニルトリエトキシシランの如きビ
ニルケイ素化合物、γ−メタクリルオキシプロピルトリ
メトキシシランの如きアクリルケイ素化合物等があkj
られる。ジ置換上ブレンも使用でき、その例としてフッ
化ヒニリテン、す 塩化ビニ井デン等をあげることかできる。文無7に″マ
レイン酸、マレイン酸及びフマル酸のエステ/l。
他のR” 、 R’及びXの意味は、前記一般式(功ニ
おけるものと同じである。) 上記の牝開昭58−154766号あるいは特許urq
57−129075号で提案されている製法による生
成物は、シリコーン系グラフトポリマー金主成分とし、
その他に未反応の原料シリコーン及び副生ずる交叉結合
した架橋ポリマーを従成分として含有しているが、該生
成物はそのitシリコーン系グラフトポリマーとして、
本発明において有用に使用することができる。上記各製
法において、シリコーンマクロモノマーとラジカル共重
合すべきラジカル重合性モノマーとし2ては、オレフィ
ン系化合物の例とし7て、エチレン、プロピレンなどの
低分子量直鎖状不飽和炭化水素、塩化ビニル及ヒフノ化
ビニルの如きハロゲン化ビニル、酢酸ビニルの如き有機
酸のビニルエステル、スチレン、スチレン置換体並びに
ビニルピリジン及ヒヒニルナフタレンの如きその他のビ
ニル芳香族化合物、アクリル酸、メタクリル酸、並びに
それらのエステル、アミドを含むアクリル酸、メタクリ
ル酸の誘導体、アクロレイン、アクリロニトリル、N−
ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタムの如き
N−ビニル化合物、ビニルトリエトキシシランの如きビ
ニルケイ素化合物、γ−メタクリルオキシプロピルトリ
メトキシシランの如きアクリルケイ素化合物等があkj
られる。ジ置換上ブレンも使用でき、その例としてフッ
化ヒニリテン、す 塩化ビニ井デン等をあげることかできる。文無7に″マ
レイン酸、マレイン酸及びフマル酸のエステ/l。
勢もあげる事ができる。ラジカル重合性モノマ−は単独
又は2種類以上のモノマーを糸[4み合わせて使用する
ことがてきる。これらのラジカル重合慴モノマーを多元
共重合して得られたシリコーン系グラフトポリマーは一
般に成膜性にfj!h−T−おI)、単独使用がn」能
になる。
又は2種類以上のモノマーを糸[4み合わせて使用する
ことがてきる。これらのラジカル重合慴モノマーを多元
共重合して得られたシリコーン系グラフトポリマーは一
般に成膜性にfj!h−T−おI)、単独使用がn」能
になる。
このラジカル1合付モノマーとラジカル市イ)件シリコ
ーンとのラジカル共重合割合に、内子ツアーの合1単1
00重廻部に対し一ラジカル重合+1シリコーンが2〜
90重景部重量寸しくIo〜4()重預部がさらに好捷
しい。21創部未満で幻、−1分な低摩擦性、耐摩耗性
、耐食性等が得らオ障くく、90重1部を越えると溶剤
への溶解性が〃J、゛くなる傾向があり、シリコーンに
よる改η効果イ)向上しなくなる。
ーンとのラジカル共重合割合に、内子ツアーの合1単1
00重廻部に対し一ラジカル重合+1シリコーンが2〜
90重景部重量寸しくIo〜4()重預部がさらに好捷
しい。21創部未満で幻、−1分な低摩擦性、耐摩耗性
、耐食性等が得らオ障くく、90重1部を越えると溶剤
への溶解性が〃J、゛くなる傾向があり、シリコーンに
よる改η効果イ)向上しなくなる。
この両者のラジカル共重合の方法は従来公知の方法を使
用でき、例えば放射線照射法、ラジカルを 重合開始剤も用いる法等使用できるが、ラジカへ重合開
始剤を用いる方法が重台操作の容易さ、生成するシリコ
ーン系グラフト共重合体の分子量調節の谷易さの点で好
ましく、具体的には溶媒を用いる溶液重合法、バルク重
合法、エマルジョン重合法等いずれの方法も行なうこと
ができる。重合性のシリコーンオリゴマーを用いて得ら
れたシリコ−ン系グラフトポリマーは、主として幹がラ
ジカル重合性モノマーの1合体で枝がシリコーンとみな
すことができる。
用でき、例えば放射線照射法、ラジカルを 重合開始剤も用いる法等使用できるが、ラジカへ重合開
始剤を用いる方法が重台操作の容易さ、生成するシリコ
ーン系グラフト共重合体の分子量調節の谷易さの点で好
ましく、具体的には溶媒を用いる溶液重合法、バルク重
合法、エマルジョン重合法等いずれの方法も行なうこと
ができる。重合性のシリコーンオリゴマーを用いて得ら
れたシリコ−ン系グラフトポリマーは、主として幹がラ
ジカル重合性モノマーの1合体で枝がシリコーンとみな
すことができる。
−F記によって得られたシリコーン系グラフトポリマー
は、単独でも所期の優れた性能を具備しているが、シリ
コーン系グラフトポリマーを、詳細d後述する表面処理
剤に添加溶解し、このシリコーン系グラフトポリマーを
含む表向処理剤を磁性層の表面及び又は基体の裏面に塗
布しても、優れた結果をもって所期の目的を達成できる
。何故ならけ、本発明に使用されるシリコーン系グラフ
トポリマーは男面移行會i力に極めて優h−イ粘ス奔め
該シリコーン系グラフトポリマーを表向処理剤に添加し
、通常の環境即ち空気中あるいV、i不活性ガス例えば
窒素中で成膜すれば、塗膜表面に該シリコーン系グラフ
トポリマーが移行濃縮し、塗膜表面を容易に改質できる
からである。
は、単独でも所期の優れた性能を具備しているが、シリ
コーン系グラフトポリマーを、詳細d後述する表面処理
剤に添加溶解し、このシリコーン系グラフトポリマーを
含む表向処理剤を磁性層の表面及び又は基体の裏面に塗
布しても、優れた結果をもって所期の目的を達成できる
。何故ならけ、本発明に使用されるシリコーン系グラフ
トポリマーは男面移行會i力に極めて優h−イ粘ス奔め
該シリコーン系グラフトポリマーを表向処理剤に添加し
、通常の環境即ち空気中あるいV、i不活性ガス例えば
窒素中で成膜すれば、塗膜表面に該シリコーン系グラフ
トポリマーが移行濃縮し、塗膜表面を容易に改質できる
からである。
シリコーン系グラフトポリマーを単独で使用する場合に
は、成膜性に優れる物がより好捷し2く、又磁性層:と
親和性のある成分例えばアクリル酸及び又はメタクリル
酸(以下(メタ)アクリル酸と称する)のアルキルエス
テルのポリマー、ヒドロキシル基、カルボキシル基等の
官能基をもつようなシリコーン系グラフトポリマーか好
捷1.い。このようなシリコーン系グラフトポリマー←
1、例えばラジカル重合性シリコーンと上記磁性層又は
基体と親オl]性のある化学構造を有するモノマー例え
ば(メタ)アクリル酸のアルキルエステル、ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸など
との共重合により容易に得ることができる。
は、成膜性に優れる物がより好捷し2く、又磁性層:と
親和性のある成分例えばアクリル酸及び又はメタクリル
酸(以下(メタ)アクリル酸と称する)のアルキルエス
テルのポリマー、ヒドロキシル基、カルボキシル基等の
官能基をもつようなシリコーン系グラフトポリマーか好
捷1.い。このようなシリコーン系グラフトポリマー←
1、例えばラジカル重合性シリコーンと上記磁性層又は
基体と親オl]性のある化学構造を有するモノマー例え
ば(メタ)アクリル酸のアルキルエステル、ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸など
との共重合により容易に得ることができる。
シリコーン系グラフトポリマーを溶111.ft、た表
面処理剤をトップコートあるいけバックコートに用いる
場合、使用できる表面処理剤としては、シリコーン系グ
ラフトポリマーを溶解する表面処理剤であれば、いずれ
の表面処理剤でも使用できる。
面処理剤をトップコートあるいけバックコートに用いる
場合、使用できる表面処理剤としては、シリコーン系グ
ラフトポリマーを溶解する表面処理剤であれば、いずれ
の表面処理剤でも使用できる。
表面処理剤はポリマーまたはポリマーと溶剤とで構成さ
れるポリマーとしては、例えばα、β−エチレン性不飽
和学量体、a、β−エチレン性不飽和カルボン酸および
これらの誘導体の多元重合体、重縮合反応による重合体
、重付加反応による重合体郷のごときポリマーぞれ自体
を使用できる他、ラジカル重合性成分からなる硬化性組
成物等をポリマー前駆物質として用いる事もできる。ポ
リマーの具体例を示せばα、β−エチレン不飽和単I[
−してはスチレン、アクリロニトリル、塩化ビ1 ニル
等があげられ、α、β−エチレン性不飽和カルボン酸と
して(メタ)アクリル酸、マレイン酸等の一価及び二価
のカルボン酸があげられる。又a、β−エチレン性不飽
和カルボン酸の誘導体トしては(メタ)アクリル酸のア
ルキルエステル例えばエチル、ブチル、2−エチルヘキ
シル等のエステルであり、又アクリル酸又はメタクリル
酸のヒドロキシアルキルエステルと11.では(メタ)
アクリル酸ヒドロキシエチルエステル、ヒドロキシプロ
ピルエステル等をあけることができる。これらの単量体
を組み合わせて重合することにより得られる常乾型ラッ
カーあるいり:焼旬型クリヤーエナメルが表面処理剤の
例として挙げられる。
れるポリマーとしては、例えばα、β−エチレン性不飽
和学量体、a、β−エチレン性不飽和カルボン酸および
これらの誘導体の多元重合体、重縮合反応による重合体
、重付加反応による重合体郷のごときポリマーぞれ自体
を使用できる他、ラジカル重合性成分からなる硬化性組
成物等をポリマー前駆物質として用いる事もできる。ポ
リマーの具体例を示せばα、β−エチレン不飽和単I[
−してはスチレン、アクリロニトリル、塩化ビ1 ニル
等があげられ、α、β−エチレン性不飽和カルボン酸と
して(メタ)アクリル酸、マレイン酸等の一価及び二価
のカルボン酸があげられる。又a、β−エチレン性不飽
和カルボン酸の誘導体トしては(メタ)アクリル酸のア
ルキルエステル例えばエチル、ブチル、2−エチルヘキ
シル等のエステルであり、又アクリル酸又はメタクリル
酸のヒドロキシアルキルエステルと11.では(メタ)
アクリル酸ヒドロキシエチルエステル、ヒドロキシプロ
ピルエステル等をあけることができる。これらの単量体
を組み合わせて重合することにより得られる常乾型ラッ
カーあるいり:焼旬型クリヤーエナメルが表面処理剤の
例として挙げられる。
上記重縮合反応による重合体と1−てd通常の重縮合反
応により得られる線状ポリエステル樹脂、アルキッド樹
脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂尋を挙げることがで
きる。
応により得られる線状ポリエステル樹脂、アルキッド樹
脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂尋を挙げることがで
きる。
また重付加反応による重合体としては通常の重付加反応
により得られるポリウレタン樹脂、ポリ尿素樹脂等を挙
げることができる。その他シリコーン樹脂およびフッ素
樹脂コーティング剤も挙げることができる。
により得られるポリウレタン樹脂、ポリ尿素樹脂等を挙
げることができる。その他シリコーン樹脂およびフッ素
樹脂コーティング剤も挙げることができる。
マタエチルセルローズ、ブチルセルローズ、ニトロセル
ローズ等のセルローズ誘導体等をこれらポリマーと併用
する事もできる。ポリマー前駆物質としてのラジカル重
合性成分からなる硬化性組成物を用いる場合は、ラジカ
ル重合開始剤を用いて加熱重合硬化する方法、ラジカル
重合開始剤と重台硬化促進剤を併用し、常温刊近でレド
ックス重自硬化する方法や、光重合開始剤を用いた紫外
線硬化又は重合開始剤を用いても、用いなくてもよい電
子線硬化等の種々の硬化手段があり、かかる手段によっ
て重合硬化する組成物であればいずれも使用できる。ラ
ジカル重合性成分としては、具体的には(メタ)アクリ
ル酸エステル単餡体、不飽和ポリエステル、ポリエステ
ル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレー
ト、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリアミド(メタ
)アクリレートおよびチオール7/エン系ポリマー吟を
挙げる事ができる。
ローズ等のセルローズ誘導体等をこれらポリマーと併用
する事もできる。ポリマー前駆物質としてのラジカル重
合性成分からなる硬化性組成物を用いる場合は、ラジカ
ル重合開始剤を用いて加熱重合硬化する方法、ラジカル
重合開始剤と重台硬化促進剤を併用し、常温刊近でレド
ックス重自硬化する方法や、光重合開始剤を用いた紫外
線硬化又は重合開始剤を用いても、用いなくてもよい電
子線硬化等の種々の硬化手段があり、かかる手段によっ
て重合硬化する組成物であればいずれも使用できる。ラ
ジカル重合性成分としては、具体的には(メタ)アクリ
ル酸エステル単餡体、不飽和ポリエステル、ポリエステ
ル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレー
ト、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリアミド(メタ
)アクリレートおよびチオール7/エン系ポリマー吟を
挙げる事ができる。
このシリコーン系グラフトポリマーの表面処理剤への添
加量は表面処□理剤のポリマー又はラジカル重合性成分
に対して0.01重量′係以上が好ましい。添加量が0
.01重量%未満では塗膜表面に所期の目的の効果を充
分発揮できない。
加量は表面処□理剤のポリマー又はラジカル重合性成分
に対して0.01重量′係以上が好ましい。添加量が0
.01重量%未満では塗膜表面に所期の目的の効果を充
分発揮できない。
これら表面処理剤は有機溶剤に溶解して用いても、又有
機溶剤に溶解しなくても用いるととlできるが、一般に
は有機溶剤型表面処理剤と1で用いた方が好ましい。そ
わは、シリコーン系グランドポリマーの溶解性を高め、
シリコーン系グラフトポリマーの被膜表面への移行14
一台・烏め、4・発り」の一つの目的である電、磁変換
特性に悪影響を、リオない薄膜を形成させる事ができる
とどもに、粘1μm低下による均一な平滑面を得ること
かできるからである。使用可能な溶剤としてIr、T
I・ルエン、キ/レン、シクロヘキサン等の炭化水素系
溶剤や酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル糸浴剤ある
い&:t 、)チルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等のケトン系溶剤、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ等があり、これらの各種溶剤の一種又V[二紳J
−、J上が好ましく用いられる。又処理剤を塗布する際
の手段により−Cは帯電防止剤、体’JJ顔料、ワック
スおよびレベリング剤等の添加剤を添加1.でもよい。
機溶剤に溶解しなくても用いるととlできるが、一般に
は有機溶剤型表面処理剤と1で用いた方が好ましい。そ
わは、シリコーン系グランドポリマーの溶解性を高め、
シリコーン系グラフトポリマーの被膜表面への移行14
一台・烏め、4・発り」の一つの目的である電、磁変換
特性に悪影響を、リオない薄膜を形成させる事ができる
とどもに、粘1μm低下による均一な平滑面を得ること
かできるからである。使用可能な溶剤としてIr、T
I・ルエン、キ/レン、シクロヘキサン等の炭化水素系
溶剤や酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル糸浴剤ある
い&:t 、)チルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等のケトン系溶剤、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ等があり、これらの各種溶剤の一種又V[二紳J
−、J上が好ましく用いられる。又処理剤を塗布する際
の手段により−Cは帯電防止剤、体’JJ顔料、ワック
スおよびレベリング剤等の添加剤を添加1.でもよい。
上述したシリラーン系グラフトポリマー堆独yは上記各
種表面処理剤とを併用してなる潤滑特性を有した処理剤
を、各種プラスチックおよびガラス等の基体りに真空蒸
着、イオンブレーティング、スパッタリングおよびメッ
キ法等によって設けられた強磁性金属薄膜からなる、テ
ープ、垂直磁気記録及び光磁気ディスク等の各種記録媒
体の表面又は基体の裏面に塗布するが、この方法は配録
媒体の形状によって異なり、公知の方法即ちグラビヤ=
l−ト、グラビヤオフセットコート、スリードリバース
コート、スズレーコート、スピンナーコー1、ディッピ
ングコートおよびカーテンフローコート等の方法により
表向に塗布、乾燥し、しかる抜用いる処理剤に応じて又
所望によりイソシアネート系樹脂により架橋[7たり、
ラジカル重合性組成物を用いた場合は、熱、紫外線ある
いは電子線により重合硬化し強固な塗膜とすれば、磁性
層の表面及び又は基体の裏面に数十X以上の平滑な膜で
所期の目的に合った被覆層を形成させる事ができ、今ま
でに得られなかった優れた効果が発現できるのである。
種表面処理剤とを併用してなる潤滑特性を有した処理剤
を、各種プラスチックおよびガラス等の基体りに真空蒸
着、イオンブレーティング、スパッタリングおよびメッ
キ法等によって設けられた強磁性金属薄膜からなる、テ
ープ、垂直磁気記録及び光磁気ディスク等の各種記録媒
体の表面又は基体の裏面に塗布するが、この方法は配録
媒体の形状によって異なり、公知の方法即ちグラビヤ=
l−ト、グラビヤオフセットコート、スリードリバース
コート、スズレーコート、スピンナーコー1、ディッピ
ングコートおよびカーテンフローコート等の方法により
表向に塗布、乾燥し、しかる抜用いる処理剤に応じて又
所望によりイソシアネート系樹脂により架橋[7たり、
ラジカル重合性組成物を用いた場合は、熱、紫外線ある
いは電子線により重合硬化し強固な塗膜とすれば、磁性
層の表面及び又は基体の裏面に数十X以上の平滑な膜で
所期の目的に合った被覆層を形成させる事ができ、今ま
でに得られなかった優れた効果が発現できるのである。
次に本発明を参考例、実施例及び比較例をもってさらに
具体的に説明するが、多くの実験の中の一部を挙けたの
みで、これに限定されるべきものではない。なお各側に
おける部t:j畢柑部を、%tす参考例1 フラスコにカリウム金MO,5g (0,0128mo
t)とn−ヘキサン約5%eを入れ、乾燥窪素気IAt
、 )、2谷 水溶中でメタノール1Qajを30分かけて滴下した。
具体的に説明するが、多くの実験の中の一部を挙けたの
みで、これに限定されるべきものではない。なお各側に
おける部t:j畢柑部を、%tす参考例1 フラスコにカリウム金MO,5g (0,0128mo
t)とn−ヘキサン約5%eを入れ、乾燥窪素気IAt
、 )、2谷 水溶中でメタノール1Qajを30分かけて滴下した。
更に30分攪拌した後、過剰メタノール及びn−ヘキサ
ンを減圧留去し7た。続いて、オクタメチルシクロテト
ラシロキサン4011 (0,135mot)及びモリ
キュラーシーズで十分脱水したテトラヒドロフラン40
&を加え、4時間加熱還流させた。
ンを減圧留去し7た。続いて、オクタメチルシクロテト
ラシロキサン4011 (0,135mot)及びモリ
キュラーシーズで十分脱水したテトラヒドロフラン40
&を加え、4時間加熱還流させた。
−−一−−−−力−122に堪−一−−−−−−−−8
−8,。9゜オクタメチルシクロテトラシロキサン (モル比)であった。
−8,。9゜オクタメチルシクロテトラシロキサン (モル比)であった。
反応液温度が室温まで下がった後、γ−メタクリルオキ
シグロビルジメチルクロロシランの10%テトラヒドロ
フラン溶液a1y(r−メタクリルオキシプロピルジメ
チルクロルシラン0.0141mot)を徐々に滴下し
、滴下終了後、更に室温で30分攪拌[7た。
シグロビルジメチルクロロシランの10%テトラヒドロ
フラン溶液a1y(r−メタクリルオキシプロピルジメ
チルクロルシラン0.0141mot)を徐々に滴下し
、滴下終了後、更に室温で30分攪拌[7た。
=2匹−≦−!−9−’ = 1.10 (当量比)で
あった。生d+ l J−44t IL−−I+II
T’+ 7. /7’+ >ト1+1ly−AXlal
l+ 4註、 、Lm!1、t(Dメタノール中へ注ぎ
シリコーンマクロモノマーを沈殿゛さぜた。デカンチー
/−1ンし、乾燥するト無色透明メイル状のシリコ−/
マク「コ七/7−が2.6. (1#得られた。
あった。生d+ l J−44t IL−−I+II
T’+ 7. /7’+ >ト1+1ly−AXlal
l+ 4註、 、Lm!1、t(Dメタノール中へ注ぎ
シリコーンマクロモノマーを沈殿゛さぜた。デカンチー
/−1ンし、乾燥するト無色透明メイル状のシリコ−/
マク「コ七/7−が2.6. (1#得られた。
該シリコーンマクロモノマーPt ケル浸透クロマトグ
ラフィー(以”Fopa と略称する)によるポリスチ
レン換η数平均分子足が8.900のものであった。
ラフィー(以”Fopa と略称する)によるポリスチ
レン換η数平均分子足が8.900のものであった。
次VCm ラt’l *−シリコーンマクロモノマート
メチルメタクリレ−)(Jジl” M M A と称゛
する)る共重合シタ。共重合i、該シリコーンマクロモ
ノマー50部、λ(MA 50部、AI)INI、Q部
、トルコーン300部をコンデンツー、攪拌機を備えた
フラスコに入れ窒素ふん囲気中80 ’にの温良で24
時間反応させた。
メチルメタクリレ−)(Jジl” M M A と称゛
する)る共重合シタ。共重合i、該シリコーンマクロモ
ノマー50部、λ(MA 50部、AI)INI、Q部
、トルコーン300部をコンデンツー、攪拌機を備えた
フラスコに入れ窒素ふん囲気中80 ’にの温良で24
時間反応させた。
反応後減圧#留でトルエンと未反応MMAi除去すると
白色固体状反応生成物が得られたC1次に該反応生成物
からn−ヘキサンで未反応シリコーンマクロモノマーを
抽出し、減圧乾燥すると白色粉末状のシリコーン糸グラ
フト共重合体82部が得られた。とのシリコーン系クラ
フト共重合体バドルエン、キシレン、シンナーに溶解可
叶であった。
白色固体状反応生成物が得られたC1次に該反応生成物
からn−ヘキサンで未反応シリコーンマクロモノマーを
抽出し、減圧乾燥すると白色粉末状のシリコーン糸グラ
フト共重合体82部が得られた。とのシリコーン系クラ
フト共重合体バドルエン、キシレン、シンナーに溶解可
叶であった。
又、分析の結果このシリコーン系グラフト共重合体中に
含捷れるシリコーン量(ジメチルポリシロキサンとし・
は35チであり、opaによるポリスチレン換η数平均
分子量は32,000であった。
含捷れるシリコーン量(ジメチルポリシロキサンとし・
は35チであり、opaによるポリスチレン換η数平均
分子量は32,000であった。
尚、シリコーンの分析は白金ルツボにシリコーン系クラ
フト共重合体約02gを精秤し、濃硫酸約3 mlを加
え電気炉に入れ700 ’C;で2時間加熱しシリコー
ンを5insとしてめた。
フト共重合体約02gを精秤し、濃硫酸約3 mlを加
え電気炉に入れ700 ’C;で2時間加熱しシリコー
ンを5insとしてめた。
参考例2
攪拌機、温度計、コンデンサー、N、導入管を備えた4
ツロフラスコにα、ω−ジヒドロキシボ30)336#
(0,1,5モル)、r−メタクリルオキシフロビルト
リメトキシシラン12.4g(005モル)、酢酸カリ
ウム35yを仕込みN。
ツロフラスコにα、ω−ジヒドロキシボ30)336#
(0,1,5モル)、r−メタクリルオキシフロビルト
リメトキシシラン12.4g(005モル)、酢酸カリ
ウム35yを仕込みN。
下150℃の温度で200時間反応せた。冷却後部、A
IBNIO部、l−ルエン1530部を加工、均一溶液
となしN2下75℃の温度で7時間反応り、、シリコー
ン系グラフト共重合体33%トルエン溶液を得た。該シ
リコーン系クラフト共重合体中のシリコーン!(ジメチ
ルポリシロキサンとして)は20%であった。
IBNIO部、l−ルエン1530部を加工、均一溶液
となしN2下75℃の温度で7時間反応り、、シリコー
ン系グラフト共重合体33%トルエン溶液を得た。該シ
リコーン系クラフト共重合体中のシリコーン!(ジメチ
ルポリシロキサンとして)は20%であった。
参考例3
シリコーンとしてα、ω−ジヒドロキシジメチ?l(。
ルポリシロキサン(HO(SiO)、)(のnが平均3
0)0H。
0)0H。
を用い、その220#(0,1モル)とピリジン9.4
91 (0,12モル)をジエチルエーテル4o。
91 (0,12モル)をジエチルエーテル4o。
dに溶解[7た溶液に、γ−メタクリルオキシグロピル
ジメチルクロロシラン22.06g(01モル)の10
%ジエチルエーテル溶液を室温で20分間かけて徐々に
滴fした。
ジメチルクロロシラン22.06g(01モル)の10
%ジエチルエーテル溶液を室温で20分間かけて徐々に
滴fした。
反応は直ちに進行しピリジン塩酸塩の白色結晶が沈殿し
た。滴下終了後、室温にて更に1時間攪拌し、ピリジン
塩酸塩の結晶をろ過により除去した。
た。滴下終了後、室温にて更に1時間攪拌し、ピリジン
塩酸塩の結晶をろ過により除去した。
次にとのる液を分液ロートに人ね、更に水500Ill
を入れてよく振とうし水洗を行々った。氷洗後分液ロー
トを静置し上層のエーテル層と下層の水50部、AIB
NIQ部、トルエン300部をコンデンサー、攪拌機を
備えたフラスコに入れ窃素ふん囲気中80℃の温度で2
4時間反応してシリコーン糸グラフトポリマーが得られ
た。該シリコーン系グラフト共重合体中のシリコーン量
(ジメチルポリシロキサンとして)は34剣であった。
を入れてよく振とうし水洗を行々った。氷洗後分液ロー
トを静置し上層のエーテル層と下層の水50部、AIB
NIQ部、トルエン300部をコンデンサー、攪拌機を
備えたフラスコに入れ窃素ふん囲気中80℃の温度で2
4時間反応してシリコーン糸グラフトポリマーが得られ
た。該シリコーン系グラフト共重合体中のシリコーン量
(ジメチルポリシロキサンとして)は34剣であった。
壽実施例1〜3.比較例1〜3
12μ厚のPI3Tフィルム上に強制的に酸素ガスを導
入しながら真空蒸着法により80%Oo −20%Ni
よりなる強磁性合金薄膜の磁19層を形成し、て蒸着
テープを得た。ごの蒸着テープの表面又は基体の裏面に
下記の組成よりなる処理剤をスリットリバースコート法
により塗布し、熱風乾燥硬化および紫外線照射によって
硬化させた。磁性層の表面に1約300Xの膜を形成し
、裏面側には約1μの膜を害施例、比較例共に形成させ
た。
入しながら真空蒸着法により80%Oo −20%Ni
よりなる強磁性合金薄膜の磁19層を形成し、て蒸着
テープを得た。ごの蒸着テープの表面又は基体の裏面に
下記の組成よりなる処理剤をスリットリバースコート法
により塗布し、熱風乾燥硬化および紫外線照射によって
硬化させた。磁性層の表面に1約300Xの膜を形成し
、裏面側には約1μの膜を害施例、比較例共に形成させ
た。
得られた蒸着テープについて磁性層の表面側と基体の裏
面側の特性を測定し、その結果を表1に示した。
面側の特性を測定し、その結果を表1に示した。
O電磁変換特性・・・ビディオデッキを使用し、周波数
1〜4Hz間において未処理 に対する出力変動によシ観察し た。
1〜4Hz間において未処理 に対する出力変動によシ観察し た。
0動摩擦係数(ll)・・・ヘイトンの表面測定機を使
用10.0.gザファイヤ針 0耐摩耗性・・・サンプルをビディオデンキに装着し5
分間走行させたときの表面、裏面 のキズ、剥離の程度を顕微鏡で観察 し判定した。
用10.0.gザファイヤ針 0耐摩耗性・・・サンプルをビディオデンキに装着し5
分間走行させたときの表面、裏面 のキズ、剥離の程度を顕微鏡で観察 し判定した。
0耐食性・・・60%、954 R11の加湿ふん囲気
に保存し、経時変化について顕微鏡で表 面観察した。
に保存し、経時変化について顕微鏡で表 面観察した。
・密着性・・・コバン目ヤロテープ試験により判定した
。
。
以上の結果より本発明によって得られた磁気記録媒体は
電磁変換特性を低下させる事なく、低摩擦性、低摩耗性
および耐食性等を向上させる事ができ、耐久性且つ走行
安定性に優れている。又基体の裏面側においでもリール
、ハブ々とにおいてキズが付いたり、裏面との間で結露
したりブロッキング等を起す事のない良好が結果を得た
。
電磁変換特性を低下させる事なく、低摩擦性、低摩耗性
および耐食性等を向上させる事ができ、耐久性且つ走行
安定性に優れている。又基体の裏面側においでもリール
、ハブ々とにおいてキズが付いたり、裏面との間で結露
したりブロッキング等を起す事のない良好が結果を得た
。
実施例4
非常に良好な表面性を有した(表面粗さ約0.005μ
)ポリイミド樹脂からなる基体の上に0o−Orの垂直
異方性をもつ磁性層がスパッタ法により形成された垂直
磁気記憶媒体の表面に下記の組成よりなる処理剤をスピ
ンナーコートにより塗布して約100X厚の保護膜を有
する垂W磁気媒体を得た。
)ポリイミド樹脂からなる基体の上に0o−Orの垂直
異方性をもつ磁性層がスパッタ法により形成された垂直
磁気記憶媒体の表面に下記の組成よりなる処理剤をスピ
ンナーコートにより塗布して約100X厚の保護膜を有
する垂W磁気媒体を得た。
・参考例2より得たシリコーノ糸り′ラフトポリマー
30部 ・高硬度を有した紫外線硬化型樹脂(犬日本インキ化学
工業陣zテ゛イック] 7−824 )64部 ・光重合開始剤(イルガーキーア−6512部 クロル
チオキサントン 1部) 3部・メタアクリロキシエチ
ルフォスフ−r−−トa sをトルエン/MIBK/酢
酸エチル−1/1/1(重量比)の混合溶剤系(上記組
成物5%)で塗布し紫外線照射(オーク製作所製水冷式
高圧水銀灯ジェットライトJ L −4300)によっ
て30秒間で硬化した。
30部 ・高硬度を有した紫外線硬化型樹脂(犬日本インキ化学
工業陣zテ゛イック] 7−824 )64部 ・光重合開始剤(イルガーキーア−6512部 クロル
チオキサントン 1部) 3部・メタアクリロキシエチ
ルフォスフ−r−−トa sをトルエン/MIBK/酢
酸エチル−1/1/1(重量比)の混合溶剤系(上記組
成物5%)で塗布し紫外線照射(オーク製作所製水冷式
高圧水銀灯ジェットライトJ L −4300)によっ
て30秒間で硬化した。
以上によって得られた本発明の垂直磁気記録媒体は優れ
た耐食性あるいは耐環境性を有している。
た耐食性あるいは耐環境性を有している。
更にコンタクトスタートストップ試験結果良好なる結果
を得、表面の傷および摩耗跡など全く異常は見られ々か
った。
を得、表面の傷および摩耗跡など全く異常は見られ々か
った。
特許出願人
東亜合成化学工業株式会社
オリンパス光学工業株式会社
Claims (1)
- 基体上に設けられた強磁性金属薄膜からなる磁性層の表
面及び又は基体の裏面にシリコーン系グラフ1ポリマー
から成る潤滑被援層を形成してなる磁気記録媒体。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4129784A JPS60187922A (ja) | 1984-03-06 | 1984-03-06 | 磁気記録媒体 |
US06/707,046 US4759991A (en) | 1984-03-06 | 1985-03-01 | Magnetic recording medium having a lubricating coating layer |
DE19853507987 DE3507987A1 (de) | 1984-03-06 | 1985-03-06 | Magnetisches aufzeichnungsmedium mit einer gleitbeschichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4129784A JPS60187922A (ja) | 1984-03-06 | 1984-03-06 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60187922A true JPS60187922A (ja) | 1985-09-25 |
JPH0256726B2 JPH0256726B2 (ja) | 1990-12-03 |
Family
ID=12604522
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4129784A Granted JPS60187922A (ja) | 1984-03-06 | 1984-03-06 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60187922A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05282649A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-03-06 JP JP4129784A patent/JPS60187922A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05282649A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0256726B2 (ja) | 1990-12-03 |
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