JPS60184692A - 平型板の製造方法 - Google Patents

平型板の製造方法

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JPS60184692A
JPS60184692A JP60005142A JP514285A JPS60184692A JP S60184692 A JPS60184692 A JP S60184692A JP 60005142 A JP60005142 A JP 60005142A JP 514285 A JP514285 A JP 514285A JP S60184692 A JPS60184692 A JP S60184692A
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JP
Japan
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resist
electrodeposited
film
matrix
coating
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JP60005142A
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English (en)
Inventor
チヤールス・リチヤード・カルプ
ステフエン・グレン・ミーリグ
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Armstrong World Industries Inc
Original Assignee
Armstrong World Industries Inc
Armstrong Cork Co
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00Electroforming
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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はへり板の製造法、特に′電気めつき操作によ
って型板を形成する方法に関する。
従来の技術 米国相1′1″第5. l 92. l 56号は、フ
ォトレジスト画1象を基鈑上に塗布し、フォトレジスト
画像をDI望のパターンに現像し、未露光フオ)l/シ
スト+A料を洗い格し、形成されたレジスト層の周囲に
ぐ1ント耳を電着し、しかる後に残りのレジスト祠別を
除去する基本二(二重を開示している。そして第2の)
第1・レジスト層か提供し、これを模様に現像する。未
現像のフォトレジストは除去して、再びその1ん辺に金
属層を形成させ、未現像フォトレジストを除去する。従
って、この特許は、中に開口を有するマスクを折供する
二重フォトレジスト電気めっき法を開示している。
米国特許第11.080.267号は−厚い自立型マス
クの製造法を開示し、その厚さは、ベースにレジスト材
料布し、そのレジスト材料光し7画[象を現像し、しか
る後にめっきする多重工程によって得らする。
米国特許第3.586.fy 09号は、電着法とフォ
トレジスト法の画法を用いて金属ステンシルを作製する
基本的概念を開示している。この特許は、導電性材料の
シリンダ上に電気絶縁性スポット模様の形成を教示して
いると考えられる。
米国特許第5.836.367号はステンシル形成装置
に関し、ステメシル上の模様の写真製版法を開示してい
る。
米国特許第う、372,6ろ9号;仝第う、610.1
145号;仝第4,0う5,8う1号;仝第4,05’
9.ろ97号および仝第4.211.618号は、スク
リーン。
マスク、印刷板または類似要素の棟りのフォトレジスト
および電着形成を示すさらに別の特許である。
問題点全解決するだめの手段 本発明により、平型板の製造方法が開示されるーその第
1の二[程は、マl−IJラックス表1n1に第1の)
j”トレジスト被膜をコーティングすることからなる。
得られたレジスト被膜の表1fTI土にフィルムの図版
* tf&き、フィルムを露光して、フィルム図版の下
側の所定領域におけるレジスト被膜に感光性を与える。
被露光レジスト被膜を現像して、マトリックス上にレジ
スト材料のない大きな開口部分と2マトリツクス上にレ
ジスト材料の小さな島状の部分とt’MNえたレジスト
材料の模様を作る。
次に、7トリノクスの表面にめっきを施して、大きな開
口部分と1/シスト材料の周囲に材料を電着する。これ
によって、中に開口を有する板構造物が形成される。そ
してこの電着材料をマトリックスから除去して型板を形
成する。
レジス)+A料の島状のあるものはその中心に開口部分
を有して、レジストにおけるチャンネル手段が島の中心
におけるこれら開゛口部分と、マトリックスにおける大
きな開口部分とを連結することが可能である。めっき工
程の実施時に、レジストの島の中心における開口部分と
、2つの開口部分を連結するチャンネルにめつL4)l
料が電着さ扛るO第1の電着材料の表面上に第2のレジ
スト被膜をコーティングをして、平らな表面被膜を形成
することが可能である。次に′その平らな表面液−は。
フィルム図版で被覆して、該フィルム図版の下側のH1
定領域における第2のレジスト被膜に感光性を与える。
被露光レジストの現像によって、第1の被めっき表面に
形成された開口に隣接して配置される基本的に複数のチ
ャンネル構造物であるレジスト材料の模様が得られる。
第2のレジスト材料′層の開口チャンネル部分に第2の
めつき材料が電着される、そしてこの電着によって、被
電着材料の第1の層の開口外周に被電着材料の壁が形成
される。そしてレジスト材料とマトリックスとを被電着
材料の2層から除去して1通常の型板を提供する。
実施例 以下に平型板の製造方法を開示する。第1図は、鋼製造
法を用いた従来法によって成形する型板を示す。金繻板
2はその中に開ロIlヲ切っである。
開ロヰの中間鎖酸の構成要素6を配置する必要がある場
合がある。要素6を配置する場合には、要素6は要素2
.6の両方にろう付けされるワイヤgl使用することに
よって5金属板2に対して支持されなければならない。
使用中の型板は、型板の開口部分が通路の作用をし、該
通路を介して4A料が通ってステンシル模様内に入れら
れる構成になっている。
第2図は、本発明により作製さ′nた型板を示す。
要素2は金属を電着することによって形成される基板で
ある。金嬉は開口4′が形成さ牡るように電着される。
要素2′が形成されるとき、同時に要素6′も開口領域
に形成される。要素6′は電着金属のチャンネルgによ
って要素2′に対して支持される。
チャンネル8′は第1図の支持ワイヤ8と同じ働きをし
、要素2′に対して要素6′ヲ保持する1、第5図は5
本発明により平型板を作製する方法の開始状態を示す。
マトリックス10の表面に第1のレジスト被膜12がコ
ーティングされる0マトリツクス10は基本的に、基板
として使用される銅、アルミニウムまたはステンレス鋼
の板であり、。。k電着法、よっ、金属ヵ1電着さ。h
n−トリックス10は導電性材料であるフォトレジスト
材料は1通常使用さ扛ている相別5例えば米国のシツプ
リイ社(,5hipley Co、)のフオトレジス)
AZ119(ポジタイプのレジストである)にすること
ができ、そ扛はマトリックス10の表面に約0025〜
005+ll11の厚さに塗布さ扛る。レジスト被膜1
2の上にはフィルム1ヰが置かれる。
フィルム11Iは、レジストに形成せんとする模様に類
似の図版模様を有する。フィルム11Iの模様は、最終
の型板に必要な開口の形状および配列に類似する。次の
工程は、フィルム図版およびレジス)k露光してフィル
ム図版の下側の所定領域のレジスト被膜を感光させる工
程、続いて感光したレジスト被膜を現像してマトリック
ス上にレジスト側斜の所望模様r提供する工程である。
次のレジスト層は、めっき前に所望のより厚いレジスト
層を得るために、第1のフォトレジスト層に正しく重ね
合わせて置く。
第4図は、マトリックス上のレジスト材料の模様を示す
。マトリックスは要素10であり、レジスト4A相の模
様は要素12′である。フィルムは。
平行にされた紫外線を使用する従来の方法で露光される
。その露光は、利用する特定のレジスト材料に依存して
、レジスト層当り6〜12分行なう。
次に、レジスト祠ト1は現像さ扛、マトリックス表面は
洗浄されて、7トリックスの表面にPJr足模様の硬化
レジスト材料が残る、その模様はフィルム上の画像によ
って決まる。その模様を第4図に示す。
レジスト12を有する導電性マトリックスは、次にマト
リックス100表面に金属、望ましくはニッケルを電着
するために迎常のめつきタンクに挿入する。マトリック
ス10の表面には従来の方法で約0.2 ′i−1,0
鰭厚さの金属が′電着される。
被電着材料は第5図の要素15として示さ扛る、そして
便宜上、マトリックス10は要素15の下に図示されて
いない。要素15はレジスト材料の存在からもたらされ
る複数の開口全備えていることがわかる。第5図におい
て、開口16′ハレジスト材料が充てんされて示されて
いる。
最終の型板は前記の方法で簡単に作製することができる
レジスト材料12′の模様は、型板を形成する被めつき
材料に開口を簡単に形成するのに使用さ■るレジスト模
様料のソリッド・ブロックとして現われることを留意す
る必要がある。しかしながら、ステンシル材料のソリッ
ド・ブロックを形成するよシも2色の異なる別のステン
シル材料を塗布できる中心部に開口部分をもったステン
シル1料のブロックを形成できるように、要素6′ヲ開
口の中間に支えるのが便利なときがある。開口内に要素
6′とその支持構造体g’6形成するために、第4図に
示すように、開口11とチャンネル15(そnは実際に
開口11と、レジスト材料12′のブロックを囲むより
大きな開口部分とを連結する)を有する1/シスト材料
12′のブロックF1G供する必要がある。第2図の構
造物を形成するのが第4図のレジスト模様である。普通
、チャンネル13は0.0611−0.102cm(0
,025−0,0110in)の幅であって、電着した
ステンシル1料に画像を形成することはない。
第4図に示ずマトリックス10上のレジストυ1・l 
l 2に一旦めっき」二枚が実力[]ノされると、レジ
スト伺利およびマトリックスは被電着材料から除去して
型板を形成することができる。
そして5次のめつき工程が実施される。今度は。
第2図の型板を形成した電着材料の上に第2のレゾスト
肢欣16かコーティングさ扛る。レジスト被膜は型板の
最上部を被部するのみならず、型板内の開口16にも充
てんされる。もう1つのフィルム図版17をレジスト模
様料の上に箇き、前述の露光および現像法によって、今
度は第6図に示すような模様をもった要素16が提供さ
nる。レジス) II料は一基本的に板15の大部分を
被電し、その中に複数のチャンネル18が形成されてい
る。
次の従来のめつき工程がチャンネル18を充てんする。
そして次に開口16′および型板15の最上部からレジ
スト材料を除去すると、第7図に示す構造物が得られる
。第7図には、開口内のチャンネルg′によって支持さ
れた要素6′金有する電着金属板2′が示されている。
板2′の片側上の開口の外側の周囲に、型板用のカラー
・ダムを形、或する壁構造物18′が電着されている・ 操作における板2′は、カラー・ダム18′が表面に隣
接する位置においてステンシル材料を受け入れるように
、引っくり返すか、または180回転さ扛る。ステンシ
ル材料は、板2′および要素6′よって作られる模様内
の開口を介して下へ通る。カラー・ダムIF!′は、ス
テンシルで刷る工程中にステンシルの開口を通過する種
々のステンシル・ミックスの望ましくない移動をさせる
働きをする。
普通、こnらは従来の型板にろう付けされた金種のスト
リップである。
型板を形成する従来の鋼製造法から型板を製造する方法
が開示さ7しているが、その鋼製造法は鋼の中に開口を
カットした後、やすシ掛けおよび研磨によって適当に仕
上加工しなければならないから、P)r9人員の観点か
ら高コストになる。さらに。
インサー1・(島状部)6′ヲ形成してそこに突出させ
なけ扛ばならず、カラーダムi g’も形成してそこに
ろう付けしなければならない。611 X 911 i
n(163’x 259cm)の大きさの従来の板にお
いて、これは、全て適当なインサート6′およびカラー
・ダム18′を(+ii+えた180個もの開口を形成
することを含む。この構造物の形成にばかなりの人員を
必要とする。本発明は従来の型板の製造に必要な手作業
の人員を実質的になくす、そして構造全体が、約0.’
76〜2 lN11(7) p:+さのカラーダム18
′を備えた025〜1.0圓厚さの板2を生成する一連
の電気めっき法によって形成される。
【図面の簡単な説明】
第1図は機械的な製造法によって作製した従来の型板の
横断面斜視図。第2図は本発明により作製した型板の横
断面斜視図。第5図はマ) IJラックス上形成したレ
ジスト・パターンの横断面図。 第4図はめつき前におけるマトリックス上のレジスト・
パターンの横断面斜視図、第5図は第2のレジスト被膜
で被覆された第1の電着材料の横断面。第6図は第2の
レジスト被膜のパターンの横断面図。そして第7図は本
発明によシ作製したカラーダム付き最終型板の横断面斜
視図。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a) 7トリックスの表面に第1のレジスト被膜
    をコーティングする工程、 (b) 該コーティングされた第1のレジスト被膜の表
    面全体上にフィルム図版を配置する工程、 (C) 前記フィルム図版およびレジスト被膜を露光し
    て、フィルム図版下側の所定領域のレジスト被膜に感光
    性を与える工程。 (d) 被露光レジスト被膜を現像して、マトリックス
    上にレジスト材料が存在しない大開口部分とマトリック
    ス上にレジスト材料の小島状部とを有し5該小島状部の
    いくつかが中心部に開口部分と2該開口部分とマトリッ
    クス上の大開口部分とを連結するチャンネル手段とを有
    する構成のレジス) 材料の模様を提供する工程、 (el 次に、マトリックスの表面にめっきをして、大
    開口部分、レジスl料の小島状部の開口部分、および前
    記2つの開口部分を連結するチャンネル手段の中に材料
    を電着させることによって、マトリックス上にめっき中
    にレジスl料が存在した開口を内部に備えた電着材料の
    大きな面積の形の被電着材料を形成し一前記開口のいく
    つかに該開口の中心領域にめつき材料を電着させ、電着
    する材料のチャンネルにめつき材料の小電着部分を開口
    の両縁部に連結させる工程、および (f) めっきした材料からレジス) 材料とマトリッ
    クスとを除去して、被電着材料に貝通する開口および中
    心境域内に電着材料を有するいくつかの開口を備えた平
    型板を形成する工程からなることを特徴とする平型板の
    製造方法。 2、(a) マトリックスの表面に第1のレジスト被膜
    をコーティングする工程、 (b)該コーティングされた第1のレジスト被膜の表面
    全体上にフィルム図版を配置する工程、 (c) 前記フィルム図版およびレジスト被膜を露光し
    て、フィルム図版下側の所定領域における第1のレジス
    ト被膜に感光性を与える工程。 (d) 肢露光レジスト被膜を現像して、マトリックス
    上にレジスト材料が存在しない大開口部分とマトリック
    ス上にレジスト材料の小島側斜とを有し、該小島状部の
    いくつかが中、シ・に開口部分と、小島状部における該
    開口部分と前記マトリックス上の大開口部分とを連結す
    るチャンネル手段とを有する構成のレジスト材料の模様
    を提供する工程、 (el 次に、前記マトリックスの表面にめっきをして
    、前記大開口部分、レジスト祠制の島状部の開口部分、
    およびチャンネル手段の中に材料を′電着する工程、 (丁)罰記被電着相料の表面に第2のレジスト被膜全コ
    ーティングして、前記被電着材料および全ての開口を被
    覆する平表面被膜を形成する工程、 (鱒 前記第2のレジスト被膜の表面全体上にフィルム
    図版を配置する工程。 (h) 前記フィルム図版およびレジスト被膜を露光し
    て、フィルム図版下側の所定領域におけるレジスト被膜
    に感光性を与える工程。 (i) 被露光レジスト被膜を現像して、レジスト材料
    によって被覆された被電着材料の大きな部分と、被電着
    材料の開口の外周部のレジス14=l料における開口チ
    ャンネル部分とを有する被電着材料上のレジスト材料の
    模様を提供する工程、 (j) 前記第2のレジスト材料層における開口チャン
    ネル部分にめっき材料を電着して、前記第1の被電着層
    の開口の外周部の被電着材料の隆起壁の形で、前記第1
    の被電着1料層に別の被電着材料を付加する工程、およ
    び(k) 前記被電着材料からレジスト材料とマトリッ
    クスを除去して、被電着材料に、舅通する開口と、開口
    の中心領域内に被電着材料を支えたいくつかの開口と、
    型板の片側の開口外周部に被電着1料の隆起壁を有する
    全開口とk (jjHHえft ;12型板を形成する
    工程か°らなることを特徴とする平型板の製造方法。
JP60005142A 1984-02-24 1985-01-17 平型板の製造方法 Pending JPS60184692A (ja)

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US06/583,197 US4490217A (en) 1984-02-24 1984-02-24 Method of making a stencil plate

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BE (1) BE901459A (ja)
CA (1) CA1217082A (ja)
CH (1) CH665037A5 (ja)
DE (1) DE3443233A1 (ja)
FR (1) FR2560399B1 (ja)
GB (1) GB2154509B (ja)
IT (1) IT1178777B (ja)
LU (1) LU85699A1 (ja)
NL (1) NL8500102A (ja)
SE (1) SE8406371L (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4581106A (en) * 1985-07-03 1986-04-08 Armstrong World Industries, Inc. Modified method of making a stencil plate
GB2185151B (en) * 1985-12-02 1989-10-11 Plessey Co Plc Method of coating
GB2184045A (en) * 1985-12-16 1987-06-17 Philips Electronic Associated Method of manufacturing a perforated metal foil
US5359928A (en) * 1992-03-12 1994-11-01 Amtx, Inc. Method for preparing and using a screen printing stencil having raised edges
US6036832A (en) * 1996-04-19 2000-03-14 Stork Veco B.V. Electroforming method, electroforming mandrel and electroformed product
US6118080A (en) * 1998-01-13 2000-09-12 Micron Technology, Inc. Z-axis electrical contact for microelectronic devices
CN108715082A (zh) * 2018-04-28 2018-10-30 昆山乐邦印刷器材设备有限公司 一种提高菲林对位成功率的网版制备方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1028326A (fr) * 1950-11-23 1953-05-21 Perfectionnements aux écrans pour l'impression dite
US3192136A (en) * 1962-09-14 1965-06-29 Sperry Rand Corp Method of preparing precision screens
US3402110A (en) * 1966-01-17 1968-09-17 Zenith Radio Corp Mask electroforming process
NL6710443A (ja) * 1967-07-28 1969-01-30
AT321959B (de) * 1971-04-13 1975-04-25 Buser Ag Maschf Fritz Verfahren zur photomechanischen dessinierung von siebschablonen für film- und siebdruck, insbesondere rotationsfilmdruck
CA947224A (en) * 1971-05-27 1974-05-14 John D. Herrington Method of making a fine conducting mesh
US4080267A (en) * 1975-12-29 1978-03-21 International Business Machines Corporation Method for forming thick self-supporting masks
DE2828625C2 (de) * 1978-06-29 1980-06-19 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Verfahren zur galvanoplastischen Herstellung von Präzisionsflachteilen
DE2832408A1 (de) * 1978-07-24 1980-02-14 Siemens Ag Verfahren zur herstellung von praezisionsflachteilen, insbesondere mit mikrooeffnungen

Also Published As

Publication number Publication date
GB2154509B (en) 1987-09-30
BE901459A (fr) 1985-05-02
FR2560399A1 (fr) 1985-08-30
AU568881B2 (en) 1988-01-14
AU3412084A (en) 1985-08-29
LU85699A1 (de) 1985-07-24
SE8406371D0 (sv) 1984-12-14
CA1217082A (en) 1987-01-27
IT8424185A0 (it) 1984-12-21
SE8406371L (sv) 1985-08-25
GB8504484D0 (en) 1985-03-27
US4490217A (en) 1984-12-25
GB2154509A (en) 1985-09-11
IT1178777B (it) 1987-09-16
NL8500102A (nl) 1985-09-16
FR2560399B1 (fr) 1988-04-29
CH665037A5 (de) 1988-04-15
DE3443233A1 (de) 1985-09-05

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