JPS60177480A - 負圧スライダ−の形成方法 - Google Patents
負圧スライダ−の形成方法Info
- Publication number
- JPS60177480A JPS60177480A JP3323484A JP3323484A JPS60177480A JP S60177480 A JPS60177480 A JP S60177480A JP 3323484 A JP3323484 A JP 3323484A JP 3323484 A JP3323484 A JP 3323484A JP S60177480 A JPS60177480 A JP S60177480A
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- Japan
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- negative pressure
- pressure slider
- slider
- substrate
- magnetic head
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の技術分野
本発明は薄膜磁気ヘッドの製造に係り、特にディスク円
板の回転゛により薄膜磁気ヘッドを浮上させるための負
圧スライダーの形成を容易にできるようにした負圧スラ
イダーの形成方法に関する。
板の回転゛により薄膜磁気ヘッドを浮上させるための負
圧スライダーの形成を容易にできるようにした負圧スラ
イダーの形成方法に関する。
（ｂン 従来技術と問題点
ディスク円板の回転によシ薄膜磁気ヘッドを浮上させる
ためのスライダー形状に社第１図（イ）に示すような正
圧スライダーと第１図（ロ）に示す負圧スライダーがち
る。第１図（イ）、（ロ）において、磁性層１とコイル
２と端子３とキャップ４よりなる薄膜磁気ヘッドＡの１
対が基板ｓｇＡ面に、又スライダー６が基板５上部に形
成されている。
ためのスライダー形状に社第１図（イ）に示すような正
圧スライダーと第１図（ロ）に示す負圧スライダーがち
る。第１図（イ）、（ロ）において、磁性層１とコイル
２と端子３とキャップ４よりなる薄膜磁気ヘッドＡの１
対が基板ｓｇＡ面に、又スライダー６が基板５上部に形
成されている。
第１図（イ）の正圧スライダー金形成するための溝７加
工は、機械加工で簡単に行えるが、第１図（ロ） ′の
負圧スライダーのスライダー面の負圧部（溝８）加工は
形状的に機械加工で行うことは難しい。そこで、従来よ
シ下記のようにして行われている。
工は、機械加工で簡単に行えるが、第１図（ロ） ′の
負圧スライダーのスライダー面の負圧部（溝８）加工は
形状的に機械加工で行うことは難しい。そこで、従来よ
シ下記のようにして行われている。
第２図、は基板上に１対の薄膜磁気＼ラドの製作法を示
す。
す。
第２図（イ）はウェハア（基板）１０上に蒸着技術。
スパッタ技術、エツチング技術を駆使して、１対の薄膜
磁気ヘッドＡｔ−多数作成している。このウェハア１０
を機械加工で第２図（ロ）のように切断し、第２図（ハ
）のよりな所望のブロックとする。次に上記の切断面１
２をラッピングにより仕上げた後、その面にクローム（
Ｃｒ）又はチタン（Ｔｉ ）等をスパッタリングして第
２図に）のようなＣｒ層又はＴｉ層１３を作る。このＣ
ｒ層又は１１層１３をエツチングによりバターニングを
行い第２図（ホ）のようなパターン１４を作る。このパ
ターン１４をマスクとしてイオンエツチングを行うと、
第２図（へ）のように基板１０がエツチングされて溝１
５が形成される。次に力２図（ト）のようにＴｉ又はＣ
ｒマスク１４全ラノシで除去し、第２図（ト）のように
切断することにより負圧スライダー１６を持った薄膜磁
気ヘッドＡを得る。
磁気ヘッドＡｔ−多数作成している。このウェハア１０
を機械加工で第２図（ロ）のように切断し、第２図（ハ
）のよりな所望のブロックとする。次に上記の切断面１
２をラッピングにより仕上げた後、その面にクローム（
Ｃｒ）又はチタン（Ｔｉ ）等をスパッタリングして第
２図に）のようなＣｒ層又はＴｉ層１３を作る。このＣ
ｒ層又は１１層１３をエツチングによりバターニングを
行い第２図（ホ）のようなパターン１４を作る。このパ
ターン１４をマスクとしてイオンエツチングを行うと、
第２図（へ）のように基板１０がエツチングされて溝１
５が形成される。次に力２図（ト）のようにＴｉ又はＣ
ｒマスク１４全ラノシで除去し、第２図（ト）のように
切断することにより負圧スライダー１６を持った薄膜磁
気ヘッドＡを得る。
上記のように負圧スライダー１６を形成する場合、Ｔｉ
又はＣｒマスク１４で基板１０をマスクしてイオンエツ
チングして陽るが、長時間イオンで叩かれるため、保護
膜（図では省略しているがウヱハア１０上に形成された
薄膜磁気ヘッドＡ群上に保護膜がある）がブロックエッ
ヂ面ａよりイオンにくわれ、保護膜のヒビ割れ、剥れを
起し、薄膜磁気ヘッドＡが露出し、ヘッド部分に悪影響
を及ぼしている。又溝１５形成後はＴｉ又はＣｒマスク
１４をラップ加工で除去するので、工程が複雑となり多
くの工数を要するという問題がちつた。
又はＣｒマスク１４で基板１０をマスクしてイオンエツ
チングして陽るが、長時間イオンで叩かれるため、保護
膜（図では省略しているがウヱハア１０上に形成された
薄膜磁気ヘッドＡ群上に保護膜がある）がブロックエッ
ヂ面ａよりイオンにくわれ、保護膜のヒビ割れ、剥れを
起し、薄膜磁気ヘッドＡが露出し、ヘッド部分に悪影響
を及ぼしている。又溝１５形成後はＴｉ又はＣｒマスク
１４をラップ加工で除去するので、工程が複雑となり多
くの工数を要するという問題がちつた。
（Ｃ）発明の目的
本発明の目的はディスク円板の回転により薄膜磁気ヘッ
ド全浮上させるための負圧スライダーをヘッド部を傷め
ることなく容易に形成できる負圧スライダーの形成方法
を提供することにある。
ド全浮上させるための負圧スライダーをヘッド部を傷め
ることなく容易に形成できる負圧スライダーの形成方法
を提供することにある。
（ｄ） 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、ディスク円板の回転
により薄膜磁気ヘッドを浮上させるための負圧スライダ
ーの形成方法であって、前記薄膜磁気ヘッドが形成され
た基板ｔ−磁石上に配置し、その上部に複数の穴を備え
た金属マスクを密着させ、イオンエツチングを行いスラ
イダー面に負圧部を形成することを特徴とする負圧スラ
イダーの形成方法を提供することにより達成される。
により薄膜磁気ヘッドを浮上させるための負圧スライダ
ーの形成方法であって、前記薄膜磁気ヘッドが形成され
た基板ｔ−磁石上に配置し、その上部に複数の穴を備え
た金属マスクを密着させ、イオンエツチングを行いスラ
イダー面に負圧部を形成することを特徴とする負圧スラ
イダーの形成方法を提供することにより達成される。
（ｅ） 発明の実施例
以下、本発明の実施例を図面によシ詳述する。
この実施例では第２図に示す従来の薄膜磁気ヘッドの製
作法における第２図（イ）〜第２図（ハ）は全く同様に
行い、その次の工程のスパッタリングによる第２図に）
に示すＣｒ又は１１層１３の形成と、このＣｒ又はＴｊ
層１３をエツチングでパターニングし、第２図（ホ）の
Ｃｒ又はＴｉパターンのマスク】４を作ることの代りに
、第３図に示すように予めスライダー面に負圧部を形成
するための穴１７全備えた金属マスク１８を形成してお
く。この金属マスク１８はＮｉ、ＮｉＦｅ、Ｆｅ等の材
料を用い、磁石に吸着するものとし、厚さは実施例では
０４）５朋としたが、これはイオンエツチングで消滅し
ない厚さであればよい。
作法における第２図（イ）〜第２図（ハ）は全く同様に
行い、その次の工程のスパッタリングによる第２図に）
に示すＣｒ又は１１層１３の形成と、このＣｒ又はＴｊ
層１３をエツチングでパターニングし、第２図（ホ）の
Ｃｒ又はＴｉパターンのマスク】４を作ることの代りに
、第３図に示すように予めスライダー面に負圧部を形成
するための穴１７全備えた金属マスク１８を形成してお
く。この金属マスク１８はＮｉ、ＮｉＦｅ、Ｆｅ等の材
料を用い、磁石に吸着するものとし、厚さは実施例では
０４）５朋としたが、これはイオンエツチングで消滅し
ない厚さであればよい。
上記第２図（ハ）のように形成した被加ニブロックｔ−
磁石１９上に置き、そのブロック上に金属マスク１８ｔ
ｌ−のせ、磁石１９により密着させたのち、第２図（へ
）と同じイオンエツチングを行い、基板１０に溝１５加
工を行いスライダー１６を形成する。
磁石１９上に置き、そのブロック上に金属マスク１８ｔ
ｌ−のせ、磁石１９により密着させたのち、第２図（へ
）と同じイオンエツチングを行い、基板１０に溝１５加
工を行いスライダー１６を形成する。
次に第２図（ト）のように切断してスライダー面に負圧
部１５′ｊｋ備えた負圧スライダー１６を得る。
部１５′ｊｋ備えた負圧スライダー１６を得る。
上記のよう−に金属マスク１８を用いてイオンエツチン
グによシスライダー形成しているので、従来のスライダ
ー形成工程の第２図に）Ｃｒ又は１１層１３の形成と、
これをエツチングしＣｒ又はＴｉマスク１４を作成する
第２図（ホ）の工程と、第２図（ト）のＣｒ又はＴｉマ
スク１４をラップにより除去する工程が不要となり、工
程が非常に簡単になる。
グによシスライダー形成しているので、従来のスライダ
ー形成工程の第２図に）Ｃｒ又は１１層１３の形成と、
これをエツチングしＣｒ又はＴｉマスク１４を作成する
第２図（ホ）の工程と、第２図（ト）のＣｒ又はＴｉマ
スク１４をラップにより除去する工程が不要となり、工
程が非常に簡単になる。
又金属マスク１８で被加工のブロックを完全に密着しマ
スクしているので、エツチング時にイオンがブロックエ
ツジａに当ることがない。従って、保護膜を傷めないの
でヘッド部に悪影響を及ぼすことなく精度のよい薄膜磁
気ヘッドが得られる。
スクしているので、エツチング時にイオンがブロックエ
ツジａに当ることがない。従って、保護膜を傷めないの
でヘッド部に悪影響を及ぼすことなく精度のよい薄膜磁
気ヘッドが得られる。
（ｆ） 発明の効果
以上詳細に説明したように、本発明の負圧スライダーの
形成方法は予め所定パターンを形成した金属マスクを磁
石で被加工物（ブロック）の上部に密着させたのち、イ
オンエツチングを行い基板に溝加工し、負圧スライダー
を形成することによシ従来の負圧スライダーの形成方法
のように複雑な工程を必要どせず、簡単な工程となシ、
さらにブロック上の保護膜が従来のように傷められない
ので、薄膜磁気ヘッドが精度よく得られる。
形成方法は予め所定パターンを形成した金属マスクを磁
石で被加工物（ブロック）の上部に密着させたのち、イ
オンエツチングを行い基板に溝加工し、負圧スライダー
を形成することによシ従来の負圧スライダーの形成方法
のように複雑な工程を必要どせず、簡単な工程となシ、
さらにブロック上の保護膜が従来のように傷められない
ので、薄膜磁気ヘッドが精度よく得られる。
第１図（イ）は正圧スライダーの形状を、第１図（ロ）
は負圧スライダーの形状を示す斜視図、第２図（イ）〜
（ト）は従来の薄膜磁気ヘッドの製作工程を示すＡ第３
図は本発明の弁圧スライダーの形成方法を説明する斜視
図である。 図において、１０はブロック、１７は穴、１８は金属マ
スク、１９は磁石ヶ示す。 第１図 （イン υ） 第２区 （イ） （へ） 第３Ｚ − 十１ ／２
は負圧スライダーの形状を示す斜視図、第２図（イ）〜
（ト）は従来の薄膜磁気ヘッドの製作工程を示すＡ第３
図は本発明の弁圧スライダーの形成方法を説明する斜視
図である。 図において、１０はブロック、１７は穴、１８は金属マ
スク、１９は磁石ヶ示す。 第１図 （イン υ） 第２区 （イ） （へ） 第３Ｚ − 十１ ／２
Claims (1)
- ディスク円板の回転によシ薄膜磁気ヘッドを浮上させる
ための負圧スライダーの形成方法であって、前記薄膜磁
気ヘッドが形成された基板を磁石上に配置し、その上部
に複数の穴を備えた金属マスクを密着させ、その後イオ
ンエツチングを行いスライダー面に負圧部を形成するこ
とを特徴とする負圧スライダーの形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3323484A JPS60177480A (ja) | 1984-02-23 | 1984-02-23 | 負圧スライダ−の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3323484A JPS60177480A (ja) | 1984-02-23 | 1984-02-23 | 負圧スライダ−の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60177480A true JPS60177480A (ja) | 1985-09-11 |
Family
ID=12380760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3323484A Pending JPS60177480A (ja) | 1984-02-23 | 1984-02-23 | 負圧スライダ−の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60177480A (ja) |
-
1984
- 1984-02-23 JP JP3323484A patent/JPS60177480A/ja active Pending
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