JPS60174780A - 臭化チメピジウムの製造法 - Google Patents
臭化チメピジウムの製造法Info
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- JPS60174780A JPS60174780A JP59029941A JP2994184A JPS60174780A JP S60174780 A JPS60174780 A JP S60174780A JP 59029941 A JP59029941 A JP 59029941A JP 2994184 A JP2994184 A JP 2994184A JP S60174780 A JPS60174780 A JP S60174780A
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- Japan
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- methoxy
- formula
- dimethylaminomethyl
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- chenyl
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は次式(1)
で表わされる1、1−ジメチル−5−メトキシ−3−(
ジー2−fエニルメチレン)ヒペリジニウム・ブロマイ
ド〔以下、臭化チメピジウムと称する〕の新規な製造法
に関する。
ジー2−fエニルメチレン)ヒペリジニウム・ブロマイ
ド〔以下、臭化チメピジウムと称する〕の新規な製造法
に関する。
臭化チメビジウムは鎮痙作用及び抗消化性潰瘍作用を有
し、現在臨床において広く使用されているものである。
し、現在臨床において広く使用されているものである。
従来、臭化チメビジウムを製造する方法としては、N−
メチル−5−メトキシニベコチン酸エステルに2−チェ
ニルマグネシウムノ1ライドを反応せしめてシー(2−
チェニル)・(N−メチル−5−メトキシ−3−ピペリ
ジル)カルビノールとなし、これを脱水反応に付してシ
ー(2−チェニル)・(N−メチル−5−メトキシ−3
−ピベリシリデン)メタンとなし、次いでこれに臭化メ
チルを反応せしめて第4級塩とする方法が知られている
(%公昭49−40235号及び特公昭48−3188
6号)。
メチル−5−メトキシニベコチン酸エステルに2−チェ
ニルマグネシウムノ1ライドを反応せしめてシー(2−
チェニル)・(N−メチル−5−メトキシ−3−ピペリ
ジル)カルビノールとなし、これを脱水反応に付してシ
ー(2−チェニル)・(N−メチル−5−メトキシ−3
−ピベリシリデン)メタンとなし、次いでこれに臭化メ
チルを反応せしめて第4級塩とする方法が知られている
(%公昭49−40235号及び特公昭48−3188
6号)。
本発明者は、上記化合物の別途合成法を企画し、鋭意研
究を行った結果、上記方法とは全く異なる工業的方法を
完成した。
究を行った結果、上記方法とは全く異なる工業的方法を
完成した。
本発明方法は次の反応式によって示される。
正H。
以下余白
(IV)
(1)
(式中、Rは水酸基の保護基を、Xはハロダン原子を示
す) すなわち、本発明は、1−ジメチルアミノメチ3−3−
メトキシ−4−保護ヒドロキシブチル−2−チェニルケ
トン(1)に2−チェニルマグネシウムハライドを反応
せしめて1゜1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチル
アミノメチル−4−メトキシ−5−保護ヒドロキシペン
チルアルコールII)となし、次いでこれを脱水反応せ
しめて1.1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチルア
ミンメチル−4−メトキシ−5−保護ヒドロキシ−1−
ペンテン(IV)となし、次いで保護基を脱離せしめて
1.1−(シー2−チェニル)−2−ジメチルアミノメ
チル−4−メトキシ−5−ヒF。
す) すなわち、本発明は、1−ジメチルアミノメチ3−3−
メトキシ−4−保護ヒドロキシブチル−2−チェニルケ
トン(1)に2−チェニルマグネシウムハライドを反応
せしめて1゜1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチル
アミノメチル−4−メトキシ−5−保護ヒドロキシペン
チルアルコールII)となし、次いでこれを脱水反応せ
しめて1.1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチルア
ミンメチル−4−メトキシ−5−保護ヒドロキシ−1−
ペンテン(IV)となし、次いで保護基を脱離せしめて
1.1−(シー2−チェニル)−2−ジメチルアミノメ
チル−4−メトキシ−5−ヒF。
キシ−1−ペンテン■となし、更にこれに臭素化剤を反
応せしめて臭化チメピシウム(1)を製造する方法であ
る。
応せしめて臭化チメピシウム(1)を製造する方法であ
る。
本発明方法の原料である(lI)式の化合物は、今回本
発明者によって製造された新規化合物でおるが、例えば
次の反応式に従って、マロン酸エステル(Vl)に1−
クロロ−2−メトキシ−3−保INヒドロキシプロパン
(■)を反応せしめた後脱エステル化して2−メトキシ
−3−保膜ヒ)”ロキシゾロビルマロンII(Vl)ト
なし、これに3,4−ジヒドロ−α−ビラン(DHP)
、次いで2−チオフエンカルメニルクロライド反応させ
、その成績体を酢酸と処理して脱エステル及び脱炭酸せ
しめて3−メトキシ−4−&賎ヒドロキシブチルー2−
チェニルケトンCK)となし、更にこれにジメチルアミ
ン及びノQラホルムアルデヒドを反応させるマンニヒ反
応に付すことによシ製造される。
発明者によって製造された新規化合物でおるが、例えば
次の反応式に従って、マロン酸エステル(Vl)に1−
クロロ−2−メトキシ−3−保INヒドロキシプロパン
(■)を反応せしめた後脱エステル化して2−メトキシ
−3−保膜ヒ)”ロキシゾロビルマロンII(Vl)ト
なし、これに3,4−ジヒドロ−α−ビラン(DHP)
、次いで2−チオフエンカルメニルクロライド反応させ
、その成績体を酢酸と処理して脱エステル及び脱炭酸せ
しめて3−メトキシ−4−&賎ヒドロキシブチルー2−
チェニルケトンCK)となし、更にこれにジメチルアミ
ン及びノQラホルムアルデヒドを反応させるマンニヒ反
応に付すことによシ製造される。
(Vl)
(式中、R1は低級アルキル基を示し、Rは前記と同じ
) 本発明において、Rで表わされる水酸基の保賎基として
は、斯かる場合に一般に使用されるものは何れをも使用
できるが、ペンシル基が特に好ましい。
) 本発明において、Rで表わされる水酸基の保賎基として
は、斯かる場合に一般に使用されるものは何れをも使用
できるが、ペンシル基が特に好ましい。
本発明方法は次の如くして実施される。
(n)から(厘)を製するには、化合物(1)に2−チ
ェニルマグネシウムハライドを反応させる。
ェニルマグネシウムハライドを反応させる。
この反応は通常のグリニアール反応の条件に従って行う
ことができ、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベ
ンゼン等の溶媒中室温で2〜3時間行われる。
ことができ、例えばテトラヒドロフラン、エーテル、ベ
ンゼン等の溶媒中室温で2〜3時間行われる。
(幻から(IV) k製するには、化合物(鳳)を酸の
存在下加熱処理して脱水反応を行う。
存在下加熱処理して脱水反応を行う。
酸としては希鉱酸(塩酸、硫酸)、トルエンスルホン酸
、ベンゼンヌルホン酸が使用され、反応は、例えa’p
−)ルエンスルホン酸を使用して、ベンゼン、トルエン
等の溶媒中加熱還流することによシ進行する。
、ベンゼンヌルホン酸が使用され、反応は、例えa’p
−)ルエンスルホン酸を使用して、ベンゼン、トルエン
等の溶媒中加熱還流することによシ進行する。
(IV)から(V)を製するには、化合物(IV)を常
法によって脱保護基すれはよい。例えば保饅基がベンジ
ル基の場合には、酸(例え社塩lりと共に加熱すること
によシ容易に脱離される。
法によって脱保護基すれはよい。例えば保饅基がベンジ
ル基の場合には、酸(例え社塩lりと共に加熱すること
によシ容易に脱離される。
(V)から目的物(1)を製するには、化合物(V)に
三臭化リン等の臭素化剤を反応させる。
三臭化リン等の臭素化剤を反応させる。
反応はクロロホルム等の溶媒中に化合物(V)を溶解し
、これに冷却下臭素化剤を加え、2〜3時間攪拌した後
、温度を上げて2〜3時間還流することによって行われ
る。このようにするとき、先ず臭素化剤との反応により
次式(X)、 の化合物が生成し、これが熱により閉環して目的物中を
与えるものと思われる。
、これに冷却下臭素化剤を加え、2〜3時間攪拌した後
、温度を上げて2〜3時間還流することによって行われ
る。このようにするとき、先ず臭素化剤との反応により
次式(X)、 の化合物が生成し、これが熱により閉環して目的物中を
与えるものと思われる。
このようにして得られた化合物(1)はシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー、エタノール−エチルエーテル混
液等による再結晶などで精製して純品とすることができ
る。
ムクロマトグラフィー、エタノール−エチルエーテル混
液等による再結晶などで精製して純品とすることができ
る。
次に実施例及び参考例を挙けて説明する。
実施例1
1.1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチルアミノメ
チル−4−メトキシ−5−ベンジルオキシペンチルアル
コールの合成:2−ブロモチオフェン7.8f、マグネ
シウム1,2を及びテトラヒドロフラン30−よシ製し
九グリニア試薬中に、室温で1−ジメチルアミノメチル
−3−メトキシ−4−ペンシルオキシブチル−2−チニ
ニルケトン8.7gのテトラヒドロフラン溶液15−を
滴下する。
チル−4−メトキシ−5−ベンジルオキシペンチルアル
コールの合成:2−ブロモチオフェン7.8f、マグネ
シウム1,2を及びテトラヒドロフラン30−よシ製し
九グリニア試薬中に、室温で1−ジメチルアミノメチル
−3−メトキシ−4−ペンシルオキシブチル−2−チニ
ニルケトン8.7gのテトラヒドロフラン溶液15−を
滴下する。
引き続き室温で2時間攪拌した後、溶媒を減圧留去し、
塩化アンモニア水を加え、クロロホルムで抽出する。芒
硝で乾燥し、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマト(展開溶媒 酢酸エチル)で精製し油状物9
.1f(収車85%)を得る。
塩化アンモニア水を加え、クロロホルムで抽出する。芒
硝で乾燥し、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマト(展開溶媒 酢酸エチル)で精製し油状物9
.1f(収車85%)を得る。
1.16〜1.94(2H,CH諒HCH!O)2.2
3 (6Ha s IN′c” \cH3) 2.30〜2.68(3H,〉臀シNぐ )3.00〜
3.44 (3HICHCJOB s )3.32(3
H,s 、OCH3) 4.44〜4.48(2u、an鵞ph )6.78〜
7.34(11H,m、arom )9.72(IH,
br、s、OH)。
3 (6Ha s IN′c” \cH3) 2.30〜2.68(3H,〉臀シNぐ )3.00〜
3.44 (3HICHCJOB s )3.32(3
H,s 、OCH3) 4.44〜4.48(2u、an鵞ph )6.78〜
7.34(11H,m、arom )9.72(IH,
br、s、OH)。
2920.1460.1120.110へ695実施例
2 1.1−(シー2−チェニル)−2−ジメチルアミノメ
チル−4−メトキシ−5−ベンジルオキシ−1−ペンテ
ンの合成: 1.1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチルアミノメ
チル−4−メトキシ−5−ベンジルオキシペンチルアル
コール9.Of% p−トルエンスルホン酸4.5f及
びベンゼン15〇−の混合物を2時間還流する。放冷後
、希水酸化ナトリウムを加え洗浄、水洗の後、芒硝で乾
燥する。溶媒は減圧留去し、残液をシリカゲルカラムク
ロマト(展開溶媒 クロロホルム:メタノ−h20 /
lマ/マ)で精製し油状物6.4f(収車74%)を
得る。
2 1.1−(シー2−チェニル)−2−ジメチルアミノメ
チル−4−メトキシ−5−ベンジルオキシ−1−ペンテ
ンの合成: 1.1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチルアミノメ
チル−4−メトキシ−5−ベンジルオキシペンチルアル
コール9.Of% p−トルエンスルホン酸4.5f及
びベンゼン15〇−の混合物を2時間還流する。放冷後
、希水酸化ナトリウムを加え洗浄、水洗の後、芒硝で乾
燥する。溶媒は減圧留去し、残液をシリカゲルカラムク
ロマト(展開溶媒 クロロホルム:メタノ−h20 /
lマ/マ)で精製し油状物6.4f(収車74%)を
得る。
NMR(CDC43)δ;
2.66〜2.82 (:l)n 、 =c −CII
、CH)3−07 (2Hs @ −CHsN< )3
.36〜3.46 (2H−CHl−OBz)3.38
(3H−s 、 OCH3)3.50〜3.76 (
I H= CHOCHI )4、S O(2H* s
−CM鵞ph)6.70〜7.28(11H,m、ar
om )2930.1450.1100.695実施例
3 1.1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチルアミノメ
チJL−4−メトキシ−5−ヒドロキシ−1−ペンテン
の合成: 1.1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチルアミノメ
チル−4−メトキシ−5−ペンシルオキシ−1−ペンテ
ン6.4f、11塩117〇−及び酢[140−の混合
物を80°で2時間攪拌する。放冷後、減圧下濃縮し得
られる残渣をエタノール7o−に溶解し、20%水酸化
ナトリウム35−を加え、室温て30分間攪拌する。次
いで、減圧下濃縮し、クロロホルムで抽出し、水洗の後
、芒硝で乾燥する。溶媒は減圧留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマト(展開溶媒 クロロホルム:メタノー
ル10/1 マ/マ)で精製し、油状物4.4F(収率
87%)を得る。
、CH)3−07 (2Hs @ −CHsN< )3
.36〜3.46 (2H−CHl−OBz)3.38
(3H−s 、 OCH3)3.50〜3.76 (
I H= CHOCHI )4、S O(2H* s
−CM鵞ph)6.70〜7.28(11H,m、ar
om )2930.1450.1100.695実施例
3 1.1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチルアミノメ
チJL−4−メトキシ−5−ヒドロキシ−1−ペンテン
の合成: 1.1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチルアミノメ
チル−4−メトキシ−5−ペンシルオキシ−1−ペンテ
ン6.4f、11塩117〇−及び酢[140−の混合
物を80°で2時間攪拌する。放冷後、減圧下濃縮し得
られる残渣をエタノール7o−に溶解し、20%水酸化
ナトリウム35−を加え、室温て30分間攪拌する。次
いで、減圧下濃縮し、クロロホルムで抽出し、水洗の後
、芒硝で乾燥する。溶媒は減圧留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマト(展開溶媒 クロロホルム:メタノー
ル10/1 マ/マ)で精製し、油状物4.4F(収率
87%)を得る。
NMR(CDCts )δ:
2.48〜3.02 (2H、=C−CH!cH)3.
16〜3−45 (3H# =C−CT12− N 1
cm−ocHa)3.52〜4.01(2H,CH,O
H)420 (I H,br、s、 OH)6.74〜
7.23 (6Hs m * atom )IR” f
f1−’ 338.2920.1450,1100,1030゜0
0 実施例4 1,1−ジメチル−5−メトキシ−3−(ジー2−チェ
ニルメチレンコピペリジニウムブロマイド・1水和物の
合成: 1.1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチルアミンメ
チル−4−メトキシ−5−ヒドロキシ−1−ペンテン1
.14fをクロロホルム9−に溶解し、水冷下、三臭化
リン0.542を滴下する。引き続き2.5時間攪拌し
た後、希炭酸ナトリウム水を加え、クロロホルムで抽出
し、水洗の後、芒硝で乾燥する。次いで、クロロホルム
層を2時間還流した後減圧下濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマト(展開溶媒 クロロホルム:メタノール
1o/1マ/マ)で精製する。得られる結晶祉エタノー
ルエチルエーテル混液で再結晶し、融点190〜193
℃の無色結晶o、96t(収率68%)を得る。
16〜3−45 (3H# =C−CT12− N 1
cm−ocHa)3.52〜4.01(2H,CH,O
H)420 (I H,br、s、 OH)6.74〜
7.23 (6Hs m * atom )IR” f
f1−’ 338.2920.1450,1100,1030゜0
0 実施例4 1,1−ジメチル−5−メトキシ−3−(ジー2−チェ
ニルメチレンコピペリジニウムブロマイド・1水和物の
合成: 1.1−(ジー2−チェニル)−2−ジメチルアミンメ
チル−4−メトキシ−5−ヒドロキシ−1−ペンテン1
.14fをクロロホルム9−に溶解し、水冷下、三臭化
リン0.542を滴下する。引き続き2.5時間攪拌し
た後、希炭酸ナトリウム水を加え、クロロホルムで抽出
し、水洗の後、芒硝で乾燥する。次いで、クロロホルム
層を2時間還流した後減圧下濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマト(展開溶媒 クロロホルム:メタノール
1o/1マ/マ)で精製する。得られる結晶祉エタノー
ルエチルエーテル混液で再結晶し、融点190〜193
℃の無色結晶o、96t(収率68%)を得る。
2.83〜3.24 (2H、δ−C旦鵞−C)3.2
8(an、 s 、N−CHB )3.42 (3H=
@、 0CRs )3.49 (3H、s 、 N−
Cu2 )3.78〜3.96 (I H、CHOCH
,)4.01〜5.04(4H,−C旦2−N−Cルー
)6.84〜7.40(6H,m、arom )346
0.1605.1480.1090.715参考例1 2−メトキシ−3−ペンシルオキシゾロビルiロン酸の
合成: 金属ナトリウム3.Ofを含む無水エタノール100m
に、45〜50°でマロン酸エチル21.49を滴下す
る。次いでヨウ化カリウム4、Ofを加え、還流下、1
−クロロ−2−メトキシ−3−ペンシルオキシゾロノ9
ン26.O2を滴下する。引き続き40時間還流した後
、エタノールを減圧留去し、残渣にベンゼンを加え水洗
する。ベンゼン及び残在するマロン酸エチルを減圧留去
し、残渣な50%水酸化カリウム35−に加えた後、6
0〜70°に加温し、生成するエタノールを時々、減圧
留去しながら3時間攪拌する。放冷後、水を加え、ベン
ゼンで洗浄した後、水層な塩酸で酸性とし、エーテルで
抽出する。水洗の後、無水塩化カルシウムで乾燥し、減
圧下濃縮し、無色油状物20.5IC収率60%)を得
る。
8(an、 s 、N−CHB )3.42 (3H=
@、 0CRs )3.49 (3H、s 、 N−
Cu2 )3.78〜3.96 (I H、CHOCH
,)4.01〜5.04(4H,−C旦2−N−Cルー
)6.84〜7.40(6H,m、arom )346
0.1605.1480.1090.715参考例1 2−メトキシ−3−ペンシルオキシゾロビルiロン酸の
合成: 金属ナトリウム3.Ofを含む無水エタノール100m
に、45〜50°でマロン酸エチル21.49を滴下す
る。次いでヨウ化カリウム4、Ofを加え、還流下、1
−クロロ−2−メトキシ−3−ペンシルオキシゾロノ9
ン26.O2を滴下する。引き続き40時間還流した後
、エタノールを減圧留去し、残渣にベンゼンを加え水洗
する。ベンゼン及び残在するマロン酸エチルを減圧留去
し、残渣な50%水酸化カリウム35−に加えた後、6
0〜70°に加温し、生成するエタノールを時々、減圧
留去しながら3時間攪拌する。放冷後、水を加え、ベン
ゼンで洗浄した後、水層な塩酸で酸性とし、エーテルで
抽出する。水洗の後、無水塩化カルシウムで乾燥し、減
圧下濃縮し、無色油状物20.5IC収率60%)を得
る。
NMR(CDC15)δ;
3.38 (3H−m 、 CHB )3.28〜3−
73 (4H、/CHCH2CHOH2OB! )−一 4.54(2に、烏、CH寥−ph )7.32(5H
、a 、 arom )11.48(2H,s、0H) NaCt−1− 1R1″□xcrnり 2920.1720.1070.745.700参考例 3−メトキシ−4−ペンシルオキシプテルー2−チェニ
ルケトンの合成: 2−メトキシ−3−ペンジルオキシゾロビルマロン酸2
0.5f、3.4−ジヒドロ−α−ビラン18.4f及
びベンゼン140dの混液に、濃硫酸0.05−を加え
、室温で30分間攪拌した後、水酸化カリウム5gを加
え更に30分間攪拌する。不溶物をp過し、306以下
で減圧下濃縮する。残渣を無水ベンゼン100−に溶解
し、水素化ナトリウム1,752を含む無水ベンゼン2
00d中に30°以下で滴下する。次いで水素の発生が
認められなくなるまで攪拌した後、2−チオフェンカル
ボニルクロライド10.6fのベンゼン溶液100−を
30°以下で滴下する。次いで、1時間攪拌した後、酢
酸50−を加え、2,5時間還流する。放冷後、希水酸
化す) IJウムで洗浄し、水洗の後、芒硝で乾燥する
。溶媒は減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
(展開溶媒 酢酸エチル:n−ヘキサン1/3 マグマ
〕でn製し、無色油状物18.4f(収車83%)を得
る。
73 (4H、/CHCH2CHOH2OB! )−一 4.54(2に、烏、CH寥−ph )7.32(5H
、a 、 arom )11.48(2H,s、0H) NaCt−1− 1R1″□xcrnり 2920.1720.1070.745.700参考例 3−メトキシ−4−ペンシルオキシプテルー2−チェニ
ルケトンの合成: 2−メトキシ−3−ペンジルオキシゾロビルマロン酸2
0.5f、3.4−ジヒドロ−α−ビラン18.4f及
びベンゼン140dの混液に、濃硫酸0.05−を加え
、室温で30分間攪拌した後、水酸化カリウム5gを加
え更に30分間攪拌する。不溶物をp過し、306以下
で減圧下濃縮する。残渣を無水ベンゼン100−に溶解
し、水素化ナトリウム1,752を含む無水ベンゼン2
00d中に30°以下で滴下する。次いで水素の発生が
認められなくなるまで攪拌した後、2−チオフェンカル
ボニルクロライド10.6fのベンゼン溶液100−を
30°以下で滴下する。次いで、1時間攪拌した後、酢
酸50−を加え、2,5時間還流する。放冷後、希水酸
化す) IJウムで洗浄し、水洗の後、芒硝で乾燥する
。溶媒は減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
(展開溶媒 酢酸エチル:n−ヘキサン1/3 マグマ
〕でn製し、無色油状物18.4f(収車83%)を得
る。
NMR(CDCl2)δ;
1.88〜2.10 (2H、C0CH2CH冨ン2.
92〜3.06(2H,cocn、 )3.38 (3
H= s 、 CH3)3.34〜3−57 (3H、
tcHcH2OBm )4.55(2H= s 、CH
2Ph )7.06〜7.73(8H,m、arom
)2920.1655.1450.1100.730、
95 参考例3 1−ジメチルアミノメチル−3−メトキシル4−ペンジ
ルオキシプテル−2−チェニルケトンの合成: 3−メトキシ−4−ペンシルオキシブチル−2−チェニ
ルケトン113.4f、ジメチルアミン塩酸塩9.8f
、ノQラホルムアルデヒド5.49及びエタノール18
−の混合物に、濃塩酸0.05dを加え、80°で24
時間攪拌する。放冷後、エタノールを減圧留去し、残渣
に希塩酸を加え、エーテルで洗浄する。次いで希水酸化
ナトリウムでアルカリ性とし、クロロホルムで抽出し、
水洗の後で硝で乾燥する。溶媒は減圧留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマト(展開溶媒 クロロホルム:メ
タノール20/1 マグマ)で精製し、無色油状物18
、Of、(収率82%)を得る。
92〜3.06(2H,cocn、 )3.38 (3
H= s 、 CH3)3.34〜3−57 (3H、
tcHcH2OBm )4.55(2H= s 、CH
2Ph )7.06〜7.73(8H,m、arom
)2920.1655.1450.1100.730、
95 参考例3 1−ジメチルアミノメチル−3−メトキシル4−ペンジ
ルオキシプテル−2−チェニルケトンの合成: 3−メトキシ−4−ペンシルオキシブチル−2−チェニ
ルケトン113.4f、ジメチルアミン塩酸塩9.8f
、ノQラホルムアルデヒド5.49及びエタノール18
−の混合物に、濃塩酸0.05dを加え、80°で24
時間攪拌する。放冷後、エタノールを減圧留去し、残渣
に希塩酸を加え、エーテルで洗浄する。次いで希水酸化
ナトリウムでアルカリ性とし、クロロホルムで抽出し、
水洗の後で硝で乾燥する。溶媒は減圧留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマト(展開溶媒 クロロホルム:メ
タノール20/1 マグマ)で精製し、無色油状物18
、Of、(収率82%)を得る。
NMR(cDct3)δ;
1.80〜2.00 (2H,C0CHCH,C)2.
14〜2.48 (2H、cocnc狗N)2.66〜
2.92(la、cocn()3.20〜3.26 (
3He OCH3)3.40〜3.52 (2H、C1
120B * )3.60〜3.92 (I H、CH
OCH3)4.51(2u、■、CH,Ph ) 7.04〜7.84(8HIm、 irom)2930
.1660.1455.1090.730、00 以上
14〜2.48 (2H、cocnc狗N)2.66〜
2.92(la、cocn()3.20〜3.26 (
3He OCH3)3.40〜3.52 (2H、C1
120B * )3.60〜3.92 (I H、CH
OCH3)4.51(2u、■、CH,Ph ) 7.04〜7.84(8HIm、 irom)2930
.1660.1455.1090.730、00 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 次式 で表わされる1、1−(ジー2−チェニル)−2−ジメ
チルアミノメチル−4−メトキシ−5−ヒドロキシ−1
−ペンテンに臭素化剤を反応せしめることを特徴とする
式 で表わされる臭化チメビジウムの製造法。 2、 次式 (式中、凰は水酸基の保饅基を示す) で表わされる1−ジメチルアミノメチルー3−メトキシ
−4−保護ヒドロキシブチル−2−チェニルケトンに2
−チェニルマグネシウムハライドを反応せしめて式、 (式中、3は前記と同じ) で表わされる1 、 1− (ジー2−チェニル)−2
−ジメチルアミノメチル−4−メトキシ−5−保護ヒド
ロキシペンチルアルコールとなし、次いでこれを脱水反
応せしめて式、(式中、Rは前記と同じ) で表わされる1、1−(シー2−チェニル)−2−ジメ
チルアミノメチル−4−メトキシ−5−保11ヒドロキ
シー1−ペンテンとなし、次いで保護基を脱離せしめて
式、 で表わされる1、1−(ジー2−チェニル)−2−ジメ
チルアミツメチル−4−メトキシ−5−ヒドロキシ−1
−ベンテントナシ、更にこれに臭素化剤を反応せしめる
ことを特徴とする式、 で表わされる臭化テメピシウムの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59029941A JPS60174780A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | 臭化チメピジウムの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59029941A JPS60174780A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | 臭化チメピジウムの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60174780A true JPS60174780A (ja) | 1985-09-09 |
Family
ID=12290009
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59029941A Pending JPS60174780A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | 臭化チメピジウムの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60174780A (ja) |
-
1984
- 1984-02-20 JP JP59029941A patent/JPS60174780A/ja active Pending
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