JPS60172950A - 新規なアニリン誘導体及びその製法 - Google Patents
新規なアニリン誘導体及びその製法Info
- Publication number
- JPS60172950A JPS60172950A JP2696384A JP2696384A JPS60172950A JP S60172950 A JPS60172950 A JP S60172950A JP 2696384 A JP2696384 A JP 2696384A JP 2696384 A JP2696384 A JP 2696384A JP S60172950 A JPS60172950 A JP S60172950A
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- dimethylaniline
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式
(式中R1及びR3は低級アルキル基、R2は直鎖状も
しくは分岐状のアルコキシカルボニル基を、意味し、そ
してR,、R,及びR3はこの順序で6位、4位及び5
位あるいは4位、う位及び6位に結合しているものとす
る)で表わされる新規な2−ホルミル−アニリン誘導体
に関する。
しくは分岐状のアルコキシカルボニル基を、意味し、そ
してR,、R,及びR3はこの順序で6位、4位及び5
位あるいは4位、う位及び6位に結合しているものとす
る)で表わされる新規な2−ホルミル−アニリン誘導体
に関する。
式Iの化合物は、一般式
(式中R0、R1及びR3は前記の意味を有する)で表
わされる化合物を酸化することにより製造される。
わされる化合物を酸化することにより製造される。
出発物質として用いられる式■の化合物は、4−アルコ
キシカルボニル−6,5−ジアルキルフタル酸イミドの
ホフマン転位反応(東京医科歯科大学、医用器材研究所
報告、11巻55頁1977年参照)、あるいは2,4
−ジアルコキシカルボニル−3,5−ジアルキル安息香
酸の酸ル酸誘導体において、カルボキシ基をエステル化
し、次いでそのエステル基を、例えばヴイトライドを用
(゛て還元することにより製造できる。
キシカルボニル−6,5−ジアルキルフタル酸イミドの
ホフマン転位反応(東京医科歯科大学、医用器材研究所
報告、11巻55頁1977年参照)、あるいは2,4
−ジアルコキシカルボニル−3,5−ジアルキル安息香
酸の酸ル酸誘導体において、カルボキシ基をエステル化
し、次いでそのエステル基を、例えばヴイトライドを用
(゛て還元することにより製造できる。
式■の化合物を製造するための反応は次式により示され
る。式中の各記号は前記の意味を有する。
る。式中の各記号は前記の意味を有する。
バ2
(n)
式■の化合物としては、例えば下記のものが用いられる
。2−ヒドロキシメチル−5−メトキシカルボニル−4
,6−ジメチルアニリン、5−エトキシカルボニル−2
−ヒトワキシメチル−4,6−シメチルアニリン、2−
ヒドロキシメチル−4,6−シメチルー5−(プロポキ
シカルボニル)アニリン、2−ヒドロキシメチル−5−
イソプロポキシカルボニル−4,6−ジメチルアニリン
、5−ブトキシカルボニル−2−ヒドロキシメチル−4
,6−ジメチルアニリン、2−ヒドロキシメチル−5−
イソブトキシカルボニル−4,6−ジメチルアニリン、
2−ヒドロキシメチル−4−メトキシカルボニル−6,
5−ジメチルアニリン及び4−エトキシカルボニル−2
−ヒドロキシメチル−6,5−ジメチルアニリンなど。
。2−ヒドロキシメチル−5−メトキシカルボニル−4
,6−ジメチルアニリン、5−エトキシカルボニル−2
−ヒトワキシメチル−4,6−シメチルアニリン、2−
ヒドロキシメチル−4,6−シメチルー5−(プロポキ
シカルボニル)アニリン、2−ヒドロキシメチル−5−
イソプロポキシカルボニル−4,6−ジメチルアニリン
、5−ブトキシカルボニル−2−ヒドロキシメチル−4
,6−ジメチルアニリン、2−ヒドロキシメチル−5−
イソブトキシカルボニル−4,6−ジメチルアニリン、
2−ヒドロキシメチル−4−メトキシカルボニル−6,
5−ジメチルアニリン及び4−エトキシカルボニル−2
−ヒドロキシメチル−6,5−ジメチルアニリンなど。
式■の化合物を酸化するためには種々の酸化法が可能で
あるが酸化剤として二酸化マンガンを用いることが特に
有利である。
あるが酸化剤として二酸化マンガンを用いることが特に
有利である。
本発明の好ましい実施態様においては、例えば下記のよ
うに操作する。攪拌装置を備えた反応容器に、式■の化
合物及びこれに対して10〜50倍容量の溶媒例えば塩
化メチレン又はクロロホルムを入れ、次いで粉末状二酸
化マンガンを添加する。二酸化マンガンは過剰量、例え
ば式■の化合物1部に対し1〜5部の量を用いることが
好ましい。反応混合物を室温ないし50℃までの温度で
攪拌する。反応の終了は薄層クロマトグラフィー又は高
速液体クロマトグラフィーにより知ることができ、通常
30分ないし数時間で反応が終結する。反応混合物から
無機物を瀘去し、無機沈殿物を塩化メチレンで洗浄し、
F液と洗浄液とを一緒にして溶媒を留去する。残留物を
再結晶その他の普通の手段で精製すると、式■の化合物
を容易に、かつ60〜90%の好収率で単離できる。
うに操作する。攪拌装置を備えた反応容器に、式■の化
合物及びこれに対して10〜50倍容量の溶媒例えば塩
化メチレン又はクロロホルムを入れ、次いで粉末状二酸
化マンガンを添加する。二酸化マンガンは過剰量、例え
ば式■の化合物1部に対し1〜5部の量を用いることが
好ましい。反応混合物を室温ないし50℃までの温度で
攪拌する。反応の終了は薄層クロマトグラフィー又は高
速液体クロマトグラフィーにより知ることができ、通常
30分ないし数時間で反応が終結する。反応混合物から
無機物を瀘去し、無機沈殿物を塩化メチレンで洗浄し、
F液と洗浄液とを一緒にして溶媒を留去する。残留物を
再結晶その他の普通の手段で精製すると、式■の化合物
を容易に、かつ60〜90%の好収率で単離できる。
式Iの化合物は新規物質であって、血小板凝集抑制作用
、血管拡張作用又は降圧作用を示す7−アルコキシカル
ボニル−3−(ヒドロキシメチル) −6,8−ジメチ
ル−2−フェニルキノリン誘導体及び7−アルコキシカ
ルボニル−3−(カルバモイルオキシメチル) −6,
8−ジメチル−2−フェニルキノリン誘導体などを合成
するための中間体として重要である。
、血管拡張作用又は降圧作用を示す7−アルコキシカル
ボニル−3−(ヒドロキシメチル) −6,8−ジメチ
ル−2−フェニルキノリン誘導体及び7−アルコキシカ
ルボニル−3−(カルバモイルオキシメチル) −6,
8−ジメチル−2−フェニルキノリン誘導体などを合成
するための中間体として重要である。
実施例
a)5−エトキシカルボニル−2−ヒドロキシメチル−
4,6−シメチルアニリ〈の製造:2−アミノ−4−エ
トキシカルボニル−3,5−ジメチル安息香酸5Iを無
水エタノール250 meに溶解し、これに濃硫酸60
mJを加えたのち反応混合物を7時間還流煮沸する。次
いで反応液を濃縮したのち冷却し、氷水を加え、塩化メ
チレンで抽出し、塩化メチレン抽出液を10%炭酸カリ
ウム水溶液及び飽和食塩社順次洗浄したのち無水硫酸マ
グネシウムにより乾燥する。
4,6−シメチルアニリ〈の製造:2−アミノ−4−エ
トキシカルボニル−3,5−ジメチル安息香酸5Iを無
水エタノール250 meに溶解し、これに濃硫酸60
mJを加えたのち反応混合物を7時間還流煮沸する。次
いで反応液を濃縮したのち冷却し、氷水を加え、塩化メ
チレンで抽出し、塩化メチレン抽出液を10%炭酸カリ
ウム水溶液及び飽和食塩社順次洗浄したのち無水硫酸マ
グネシウムにより乾燥する。
溶媒を留去すると、油状の2,5−ビス(エトキシカル
ボニル) −4,6−ジメチルアニリンが得られる。こ
れを乾燥ベンゼン100m7!中に溶解し、70%ヴイ
トライドCNaAlH4(OCH2CH20CH3)2
)トルエン溶液11.5mlを滴加したのち、6o分
間室温で攪拌する。次いで5%希硫酸を用いて反応液の
pH値を4となし、ベンゼンで抽出する。
ボニル) −4,6−ジメチルアニリンが得られる。こ
れを乾燥ベンゼン100m7!中に溶解し、70%ヴイ
トライドCNaAlH4(OCH2CH20CH3)2
)トルエン溶液11.5mlを滴加したのち、6o分
間室温で攪拌する。次いで5%希硫酸を用いて反応液の
pH値を4となし、ベンゼンで抽出する。
ベンゼン層を飽和食塩水と水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残留物をエチル
エーテル−ヘキサンから再結晶すると、融点47〜49
℃の5−エトキシカルボニル−2−ヒドロキシメチル−
4,6−シメチルアニリン4.51 p (収率97.
1%)が得られる。
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残留物をエチル
エーテル−ヘキサンから再結晶すると、融点47〜49
℃の5−エトキシカルボニル−2−ヒドロキシメチル−
4,6−シメチルアニリン4.51 p (収率97.
1%)が得られる。
b)5−エトキシカルボニル−2−ホルミル−4,6−
ジメチルアニリンの製造: 前記により製造された5−エトキシカルボニル−2−ヒ
ドロキシメチル−4,6−シメチルアニリン4.5gの
塩化メチレン150m1!中の溶液に、粉末状二酸化マ
ンガン15.9を添加し、室温で60分間攪拌する。セ
ライトの層を通して沈殿物を濾過し、塩化メチレンで洗
浄する。F液と洗浄液を一緒にし、溶媒を留去する。残
留物をメタノールから再結晶すると、融点124〜12
5℃の5−エトキシカルボニル−2−ホルミル−4,6
−シメチルアニリン2.97g(収率66.7%)が得
られる。
ジメチルアニリンの製造: 前記により製造された5−エトキシカルボニル−2−ヒ
ドロキシメチル−4,6−シメチルアニリン4.5gの
塩化メチレン150m1!中の溶液に、粉末状二酸化マ
ンガン15.9を添加し、室温で60分間攪拌する。セ
ライトの層を通して沈殿物を濾過し、塩化メチレンで洗
浄する。F液と洗浄液を一緒にし、溶媒を留去する。残
留物をメタノールから再結晶すると、融点124〜12
5℃の5−エトキシカルボニル−2−ホルミル−4,6
−シメチルアニリン2.97g(収率66.7%)が得
られる。
マススペクトル: m/e 、 221HMRスペクト
ル:δ(ppm 、 CDCl3中で測定)1.40
(3H,t、 J=+7Hz )、2.08(3H,s
)、2.24(3H,s)、4.49 (2H,q、
J=7 Hz)、6.15(2H,ブロード、こノイグ
ナルはり、0の添加により消失)、7.21(IH,s
)、9.85(IHls)
ル:δ(ppm 、 CDCl3中で測定)1.40
(3H,t、 J=+7Hz )、2.08(3H,s
)、2.24(3H,s)、4.49 (2H,q、
J=7 Hz)、6.15(2H,ブロード、こノイグ
ナルはり、0の添加により消失)、7.21(IH,s
)、9.85(IHls)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 (式中R3及びR3は低級アフルキル基、R7は直鎖状
もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基を意味し、そ
してR1、R2及びR3はこの順序で3位、4位路び5
位あるいは4位、5位及び6位に結合しているものとす
る)で表、わされる2−ホルミルアニリン誘導体。 2、一般式 (式中”I 、%及びR3は後記の意味を有する)で表
わされる化合物を酸化することを特徴とする、一般式 (式中R8及びR3は低級アルキル基、R2は直鎖状も
しくは分岐状のアルコキシカルボニル基を意味し、そし
てR1、R2及びR3はこの順序で3位、4位及び5位
あるいは4位、5位及び6位に結合しているものとする
)で表わされる2−ホルミル−アニリン誘導体の製法。 3、 酸化反応を二酸化マンガンを用いて行うことを特
徴とする特許請求の範囲第2項に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2696384A JPS60172950A (ja) | 1984-02-17 | 1984-02-17 | 新規なアニリン誘導体及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2696384A JPS60172950A (ja) | 1984-02-17 | 1984-02-17 | 新規なアニリン誘導体及びその製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60172950A true JPS60172950A (ja) | 1985-09-06 |
Family
ID=12207807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2696384A Pending JPS60172950A (ja) | 1984-02-17 | 1984-02-17 | 新規なアニリン誘導体及びその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60172950A (ja) |
-
1984
- 1984-02-17 JP JP2696384A patent/JPS60172950A/ja active Pending
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