JPS6017073A - フイルムの蒸着方法 - Google Patents
フイルムの蒸着方法Info
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- JPS6017073A JPS6017073A JP12230983A JP12230983A JPS6017073A JP S6017073 A JPS6017073 A JP S6017073A JP 12230983 A JP12230983 A JP 12230983A JP 12230983 A JP12230983 A JP 12230983A JP S6017073 A JPS6017073 A JP S6017073A
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- film
- vapor deposition
- deposited
- polysulfone
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- Pending
Links
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフィルムの蒸着方法に関するものである。一般
にフィルムに蒸着をする場合真空下で行うため、フィル
ムの特性として蒸発し易い物質をできるだけ含まないこ
とが望ましい。」た適度な剛性（腰の強さ）およびスベ
リ性を有することが重要な因子である。
にフィルムに蒸着をする場合真空下で行うため、フィル
ムの特性として蒸発し易い物質をできるだけ含まないこ
とが望ましい。」た適度な剛性（腰の強さ）およびスベ
リ性を有することが重要な因子である。
ポリエーテルスルホン（以下ＰＥＳと略称）又はポリス
ルホン（以下ＰＳと略称）フィルムは高ｖ、ｉ電性物質
であるため、帯電量が多くかつスベリ性が著しく悪い。
ルホン（以下ＰＳと略称）フィルムは高ｖ、ｉ電性物質
であるため、帯電量が多くかつスベリ性が著しく悪い。
ゆえにフィルム巻取ないしは巻戻し時にシワが発生し取
扱いがいたって困難である０さらに悪いことにはＰＥＳ
、 ＰＳ フイ、レムは揮発成分を多く含んでいる為、
高酸能の蒸着膜を得ようとすると密閉系中即ち蒸着機内
でフィルムを巻取りあるいは巻戻しを繰返しフィルム表
面を真空下に曝露しながら脱ガスを行った後その真空下
のまま蒸着工程に移る必要がある。
扱いがいたって困難である０さらに悪いことにはＰＥＳ
、 ＰＳ フイ、レムは揮発成分を多く含んでいる為、
高酸能の蒸着膜を得ようとすると密閉系中即ち蒸着機内
でフィルムを巻取りあるいは巻戻しを繰返しフィルム表
面を真空下に曝露しながら脱ガスを行った後その真空下
のまま蒸着工程に移る必要がある。
プロセスは真空中という密閉系の中で行わなければなら
ないため、手を入れて防ンワ調整を行うことが不可能で
、一旦シワが発生するとその防ぎようがなく、そのロフ
トは棄てなければならない。
ないため、手を入れて防ンワ調整を行うことが不可能で
、一旦シワが発生するとその防ぎようがなく、そのロフ
トは棄てなければならない。
又このように困難さを克服しＰＥＳ、 ＰＳ フィルム
上に蒸着膜を形成しても該フィルムの表面は耐密着性（
耐ブロツキング性）に欠けるためフィルム巻取後蒸着膜
と該フィルム間でブロッキングを起し巻き戻した時に蒸
着膜の一部がフィルム面に取られ使用時蒸着膜の機能を
十分に発揮てぎないことが多−い。このようにＰＥＳ、
ＰＳ フィルムへの蒸着には従来幾多の問題点があっ
た′。
上に蒸着膜を形成しても該フィルムの表面は耐密着性（
耐ブロツキング性）に欠けるためフィルム巻取後蒸着膜
と該フィルム間でブロッキングを起し巻き戻した時に蒸
着膜の一部がフィルム面に取られ使用時蒸着膜の機能を
十分に発揮てぎないことが多−い。このようにＰＥＳ、
ＰＳ フィルムへの蒸着には従来幾多の問題点があっ
た′。
本発明はこれらの問題点を解決する有効な方法を提供す
ることを目的とするものである。
ることを目的とするものである。
かくして本発明はＰＥＳあるいはＰＳ フィルムを揮発
成分の少い異種フィルムと重ね合わせて同時にロール状
に巻きＰＥＳあるいはＰＳ 面にのみ蒸着せしめること
を特徴とするフィルムの蒸着方法である。
成分の少い異種フィルムと重ね合わせて同時にロール状
に巻きＰＥＳあるいはＰＳ 面にのみ蒸着せしめること
を特徴とするフィルムの蒸着方法である。
本発明を図面について更に詳しく説明すれば第１図は密
閉系内のフィルムの取扱い部の説明図でアンワインダ−
１，冷却１’ラム２、ワイングー３を示しである。異種
の２枚のフィルム状基材を重ね合わせた積層フィルム４
をアンワインダ−１にかけこの２枚の積層フィルム、４
は適当なガイドロール５により案内されて冷却ドラム２
の下部に至りここで蒸着源７より蒸発してくる金属、金
属酸化物あるいは金属化合物により下方のフィルム状基
材が蒸着される。蒸着された積層フィルム４は次いでガ
イドロール６を経でワイング−３に巻き取られる。この
場合重ね合わされた該フィルムはスベリ性良好かり削ブ
ロッキング性に優れた相手方フィルムに助けられて巻取
時にシワが発生せず、しかも巻戻しても蒸着膜がフィル
ム反対向に取られるこ七がないのである。重ね合わせの
具体的態様としては単に重ね合わせるだけでもよいが、
重ね合わせ１００℃程度のロール間を通過させてゆるく
接着させる方が良い。又使用する異種フィルムとしては
コロナ放電処理等で活性化さり、たものの方が良い。
閉系内のフィルムの取扱い部の説明図でアンワインダ−
１，冷却１’ラム２、ワイングー３を示しである。異種
の２枚のフィルム状基材を重ね合わせた積層フィルム４
をアンワインダ−１にかけこの２枚の積層フィルム、４
は適当なガイドロール５により案内されて冷却ドラム２
の下部に至りここで蒸着源７より蒸発してくる金属、金
属酸化物あるいは金属化合物により下方のフィルム状基
材が蒸着される。蒸着された積層フィルム４は次いでガ
イドロール６を経でワイング−３に巻き取られる。この
場合重ね合わされた該フィルムはスベリ性良好かり削ブ
ロッキング性に優れた相手方フィルムに助けられて巻取
時にシワが発生せず、しかも巻戻しても蒸着膜がフィル
ム反対向に取られるこ七がないのである。重ね合わせの
具体的態様としては単に重ね合わせるだけでもよいが、
重ね合わせ１００℃程度のロール間を通過させてゆるく
接着させる方が良い。又使用する異種フィルムとしては
コロナ放電処理等で活性化さり、たものの方が良い。
次いで第２図は冷却ドラム′２の下端の部分拡大断面略
示図てＰＥＳあるいはＰＥＳフィルム８は異種フィルム
９と重ね合わされ冷却ドラム２に沿って蒸発源７に近づ
き該フィルムの片面に蒸着されるものである。
示図てＰＥＳあるいはＰＥＳフィルム８は異種フィルム
９と重ね合わされ冷却ドラム２に沿って蒸発源７に近づ
き該フィルムの片面に蒸着されるものである。
実施例 １
厚み１００７ＬｒｎのＰＥＳ フィ）ｖ ムに２０１ｉ
、ｒｎ の２軸延伸ポリプロピレジフイルムを大気中で
重ね合わせて１００ｍ 巻き取り蒸着機内でＰＥＳフィ
３−− ルムの揮発成分を抜き取るため５Ｘ１０ ” Ｔｏｒｒ
。
、ｒｎ の２軸延伸ポリプロピレジフイルムを大気中で
重ね合わせて１００ｍ 巻き取り蒸着機内でＰＥＳフィ
３−− ルムの揮発成分を抜き取るため５Ｘ１０ ” Ｔｏｒｒ
。
圧力下で４回巻取り巻戻しを行いフィルム表面のガス洗
浄を待った後５Ｘ１０”−” Ｔｏｒｒ圧力下。
浄を待った後５Ｘ１０”−” Ｔｏｒｒ圧力下。
でインジウム−錫酸化物の蒸着を行わせしめたがシワの
発生も蒸着膜の剥離も起らず光線透過率８０％、表面抵
抗３００Ω／口、蒸着膜厚１３０Ｘ の性能を有するＰ
ＥＳフィルムを容易にロール状に巻き取ることができた
。
発生も蒸着膜の剥離も起らず光線透過率８０％、表面抵
抗３００Ω／口、蒸着膜厚１３０Ｘ の性能を有するＰ
ＥＳフィルムを容易にロール状に巻き取ることができた
。
実施例 ２
ＰＳフィルム１００μｍフィルムに２軸延伸ポリエステ
ルフィルム２５μｍ を重ね合わせて巻取り蒸着機内で
ＰＳ フィルムのガス抜きを行った後５ＸＩＦ’ Ｔｏ
ｒｒ、圧力下でインジウム錫合金の反応蒸着を行わせし
めた。このようにして光線透過率８２％、表面抵抗２０
０Ω／口、蒸着膜厚２００Ｈの性能を有するＰＳフ・イ
ルムを容易にロール状に巻取ることかできた。
ルフィルム２５μｍ を重ね合わせて巻取り蒸着機内で
ＰＳ フィルムのガス抜きを行った後５ＸＩＦ’ Ｔｏ
ｒｒ、圧力下でインジウム錫合金の反応蒸着を行わせし
めた。このようにして光線透過率８２％、表面抵抗２０
０Ω／口、蒸着膜厚２００Ｈの性能を有するＰＳフ・イ
ルムを容易にロール状に巻取ることかできた。
なお、ＰＥＳフィルムのみを同様に操作すると一回目の
巻取時にフィルムの中程に長さ方向に山形のシワが発生
しその上に巻き取られ−４．− るフィルムは浮き上がりかつ若干凹凸を生ずると共に中
方向にズレを生じ蒸着時に蒸着源からの距離に差が生じ
均一な蒸着フィルムが得られなかった。又蒸着されたフ
ィルムが巻取時にシワが伸びたり凹凸が平らになったり
新たなシワ凹凸が生じる結果蒸着膜が部分的に剥れた。
巻取時にフィルムの中程に長さ方向に山形のシワが発生
しその上に巻き取られ−４．− るフィルムは浮き上がりかつ若干凹凸を生ずると共に中
方向にズレを生じ蒸着時に蒸着源からの距離に差が生じ
均一な蒸着フィルムが得られなかった。又蒸着されたフ
ィルムが巻取時にシワが伸びたり凹凸が平らになったり
新たなシワ凹凸が生じる結果蒸着膜が部分的に剥れた。
第１図は蒸着機のフィルム取扱い部の説明図で第２図は
その蒸発源付近の部分拡大断面略示図である。 １はアンワインダー ２は冷却ドラム ３はワイングー ４は積層フィルム ５．６はカイトロール ７は蒸発源 ８はＰＥＳあるいはＰＳフィルム ９はＰＥＳあるいはＰＳに重ね合わされた異種フイルム
その蒸発源付近の部分拡大断面略示図である。 １はアンワインダー ２は冷却ドラム ３はワイングー ４は積層フィルム ５．６はカイトロール ７は蒸発源 ８はＰＥＳあるいはＰＳフィルム ９はＰＥＳあるいはＰＳに重ね合わされた異種フイルム
Claims (1)
- ポリエーテルスルホン又はポリスルホンのフィルムに金
属、金属酸化物および金属化合物を高真空下で蒸着する
に際し該フィルムを揮発分の少い異種フィルムと重ね合
わせてロール巻きしておき張力下に重ね合わせたまま巻
き戻しつつ行うことを特徴とするフィルムの蒸着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12230983A JPS6017073A (ja) | 1983-07-07 | 1983-07-07 | フイルムの蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12230983A JPS6017073A (ja) | 1983-07-07 | 1983-07-07 | フイルムの蒸着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6017073A true JPS6017073A (ja) | 1985-01-28 |
Family
ID=14832763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12230983A Pending JPS6017073A (ja) | 1983-07-07 | 1983-07-07 | フイルムの蒸着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6017073A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0365692A1 (en) * | 1988-04-22 | 1990-05-02 | Toray Industries, Inc. | Polyphenylene sulfide film, process for its production, and process for subjecting the film to vacuum deposition |
| US5180117A (en) * | 1989-06-14 | 1993-01-19 | Hitachi, Ltd. | Video tape recorder and/or reproducer |
| US20110240211A1 (en) * | 2010-03-30 | 2011-10-06 | Fujifilm Corporation | Method for producing functional film |
| US8597765B2 (en) | 2010-02-19 | 2013-12-03 | Fujifilm Corporation | Functional film |
-
1983
- 1983-07-07 JP JP12230983A patent/JPS6017073A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0365692A1 (en) * | 1988-04-22 | 1990-05-02 | Toray Industries, Inc. | Polyphenylene sulfide film, process for its production, and process for subjecting the film to vacuum deposition |
| US5180117A (en) * | 1989-06-14 | 1993-01-19 | Hitachi, Ltd. | Video tape recorder and/or reproducer |
| US8597765B2 (en) | 2010-02-19 | 2013-12-03 | Fujifilm Corporation | Functional film |
| US9067381B2 (en) | 2010-02-19 | 2015-06-30 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method of functional film and functional film |
| US20110240211A1 (en) * | 2010-03-30 | 2011-10-06 | Fujifilm Corporation | Method for producing functional film |
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