JPS6017065A - スパツタリングによる鉄鋼への窒化チタン膜形成方法 - Google Patents

スパツタリングによる鉄鋼への窒化チタン膜形成方法

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JPS6017065A
JPS6017065A JP12284283A JP12284283A JPS6017065A JP S6017065 A JPS6017065 A JP S6017065A JP 12284283 A JP12284283 A JP 12284283A JP 12284283 A JP12284283 A JP 12284283A JP S6017065 A JPS6017065 A JP S6017065A
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JP
Japan
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steel
sputtering
gaseous
titanium nitride
nitride film
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Pending
Application number
JP12284283A
Other languages
English (en)
Inventor
Hitoshi Ito
均 伊藤
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Seikosha KK
Original Assignee
Seikosha KK
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/024Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、スパッタリングによって鉄鋼表面に窒化チタ
ン膜を形成する方法に関する。
一般に窒化チタンは耐食耐摩耗性に優れているところか
ら各種工具の表面硬化に用いられ、また美しい黄金色を
呈するところから装飾品や時計側に金メッキの代替えと
しても利用されている。この窒化チタンの被膜は一般に
は塩浴法にて形成することが多いが、スパッタリングに
よって形成する技術も既に知られている。しかしスパッ
タリングによる従来法によれば、鉄鋼等の処理物の表面
に窒化チタンの被膜がいきなり形成され、密着性が悪い
欠点があった。
そこで本発明は、スパッタリングによって鉄鋼表面に窒
化チタン膜を形成するに際し、鉄鋼と窒化チタン膜との
密着性を向上せんとするものである。
実施例について説明する。
まず最初に処理物たる鉄鋼を陰極側に取り付け、以下の
条件で鉄鋼をターゲットとして逆スパツタリングを行な
った。
逆スパツタリングの条件 N2の分圧力 3.5 X 10→TorrAr+N2
 の全圧力 5. OX 1O−3Torr高周波入力
パワー 800W 処理時間 3sl+ この逆スパツタリングにおいて、Ar+とH+が負電位
の鉄鋼表面に衝突する。このときAr+の衝突によって
鉄鋼表面がスパッタリングされて表面がきれいになり、
一方H+は反応性が強いために鉄鋼と反応してその表面
に窒化層を形成する。上記条件下では、窒化層は約10
01前後のものが得られる。
この前処理(逆スパツタリング)を実施した鉄鋼に対し
て、以下の条件下で周知のTiNの反応性スパッタリン
グを実施した。
反応性スパッタリングの条件 N2の分圧力 3.5X10→ TOrrA r + 
N 2の全圧力 5.0X10′1Torr高周波入力
パワー 800W 処理時間 501NIn 鉄鋼とターゲット(T1) 藺の距離30mm この反応性スパッタリングにより、鉄鋼の表面(窒化層
)にT :1. Nが約1.5μ鵠の厚さで形成された
上述の手順を経て形成されたTiHの被膜は、鉄鋼の表
面が逆スパツタリングにより平滑になっているのに加え
て、その表面層が窒化され、この平滑な窒化層の上にT
iHの被膜が形成されることになる。
この結果、鉄鋼の内部組織がら最外層のTiN被膜に至
るまでの組織変化が従来のように急変することなく段階
的に変化し、なおがっTiN被膜ス1f窒化層に対して
なじみ易いために、TiN被膜の密着性が極めて良好と
なり、TiN被膜が剥離T7難い。
以 上 出願人 株式会社 精工台 代理人 弁理士 最上 務 366−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 アルゴンと少量の窒素ガスとを導入ガスとして鉄鋼を逆
    スパツタリングし、 これにより上記鉄鋼の表面に窒化層を形成し、しかる後
    に、アルゴンと少量の窒素ガスとを導入ガスとしてチタ
    ンを上記鉄鋼にスパッタリングし、 上記鉄鋼の窒化層の上に窒化チタン膜を形成すること を特徴とするスパッタリングによる鉄鋼への窒化チタン
    膜形成方法。
JP12284283A 1983-07-06 1983-07-06 スパツタリングによる鉄鋼への窒化チタン膜形成方法 Pending JPS6017065A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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