JPS60161320A - シリカゲルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ａ　産業上の利用分野 本発明はシリカゲルの製造方法に関し、特に５１０２含
有量の低い珪酸塩含有粒子からシリカゲルを製造するシ
リカゲルの製造方法に関する。

ｂ　従来技術 従来シリカゲルの製造方法には（１）透析法（２）けい
酸エステルの加水分解法（３）イメン交換法（４）けい
酸ナトリウムの酸による分解法などが知られている。

現在ｆ業的規模のシリカゲルの製造方法として最も原料
費が安く、また最も一般に行なわれている方法は（４）
のけい酸ナトリウムの酸による分解法である。この方法
はたとえば次の反応式 ％式％）（１ （ＯＲ）２　の様Ｋｌｔい酸ソーダ水°溶液と硫酸を混
合してけい酸を遊離させ、その後溶存塩類を水洗しもて
除去し、その後乾燥するという方法である。

しかしながら上記方法によると、その製造に比較的高価
なけい酸ナトＩＪウム原料（水溶性珪酸塩）を必要とす
るというその本質的な問題があった。

Ｃ発明の１］的 本発明は上記問題を解決し、豊富で安価で容易に手に入
る珪酸塩含有物率の低い水不溶性の珪酸塩原料を用いて
シリカゲルを作成する方法を提供すること、さらに言え
ば高純度カラスの原料として使用出来る様な高純度シリ
カゲルを製造する方法を提供することをその目的とする
ｄ ｄ　発明の構成および作用 本発明は粒径が３００　ｔｚｍ以下の珪酸塩含有粒子で
水不溶性の粒子と０．５規定以上の溶解用酸との混合物
を乙０°Ｃ以上に保って、前記粒子と前記酸とを反応１
１させ、その後反応混合物からシリカ・ゲルを分離し、
洗浄することを特徴とするシリカゲルの製造方法である
。

本発明に使用出来る珪酸塩含有の粒子で水不溶−性の粒
子としてＣマー、ゼオライト、カオリナイト。

ネ７エリン、オリビンからなる群より選ばれた少なくと
も７種の鉱物を含んだ天然珪酸塩鉱物粒子をはじめとす
る酸ＫｏＪ溶な天然珪酸塩鉱物、および 斜ブチｏ　７に沸石（ＣＩｌｎＯｐｊｌｌＯｌｌｔｅ）
　（Ｃａ＋Ｎａ２゜Ｋ２）ＣＡｄｇＳｉ７０１ｓ：］・
乙Ｈ２０モンデナイト（Ｍｏｒｄｅｎｉｔｅ　）（Ｃａ
　、　Ｋ２　、Ｎａ２　）（Ａ７！２Ｓｉ５０１２）ｌ
　２°７Ｈ２０をはしめとする酸に可溶な人工ゼメライ
ト、およびｓｉｏ、含有量が５５モル％以下の珪酸塩ガ
ラス粒子なとが使用出来る。珪酸塩ガラス粒子としては
、モル％て表わして Ｌｉ２ｏ　Ｏ〜２Ｏ Ｎａ２０　’　０−．２（７ に２０　０〜−〇 ＭｇＯ’０ｒ−３０ ＣａＯＯ〜３０ Ｂａ００〜３０ Ｓｒ、ＱＯ−、−３０ Ａ７２０３０〜３０ Ｓコ、Ｑ２１Ｉ０−！；！； の範囲の組成を有するガラスが、その溶融性・成形性な
どの面で好ましい。

珪酸塩含有粒子（水不溶性）を３００μｍ以下の粒トと
する理由は、ＳＯＯμｍより大きな粒子では溶解用酸ｔ
ｃ可溶な珪酸塩含有物（鉱物又はガラス等）の溶解処理
に時間を要したり、生成したシリカゲルの収率が悪くな
るなどの欠点となるためである。又珪酸塩含有粒子が夕
０　／１ｍより小さい微粉では粉砕に手間を要し、又生
成したシリカゲルと酸不溶物との分離か必要な場合は分
離作業が難かしいなとの欠点となるためＳ　０１Ｌ　ｍ
以上の粒子であることが好ましい。ここで珪酸塩含有粒
子が珪酸塩ガラス粒子である場合には粒子は均一相であ
り、酸Ｋ　ｉｉＪ溶なガラス組成であれば酸に不溶な物
質の生成が起こるおそれがないために分離の操作が必要
なく、５０μｍより小さな粒子であってもかまわない。

ＳＯＯμｍ以１の粒径を持った粒子であり、その粒径分
布の範囲がＳＯμｍ以内と粒径がそろっている事が、反
応時間の調整が行ないやすいなど作業効率上望ましい。

又使用する溶解用酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン
酸、酢酸およびこれらの酸の混合物などあらゆる種類の
酸のＯ０Ｓ規定以上の酸が使用出来る。内でも天然珪酸
塩鉱物および人工珪酸塩鉱物に対しては１〜１２規定の
塩酸、３〜１２規定の硫酸。

３〜／乙規定の硝酸が好ましい。特に／〜１２規定の塩
酸が望ましい。又珪酸塩ガラスに対しては、／〜／２規
定の塩酸、／、Ｓ〜３乙規定の硫酸、０．５〜ｌ乙規定
の硝酸、０゜Ｓ規定以上のリン酸が好ましい。

０．５規定未満の酸では、珪酸塩含有粒子（水不溶性）
の溶解速度が遅いためシリカゲルの生成が起こらない。

溶解用酸および珪酸塩含有粒子の混合物は乙０°Ｃ以」
−に保たれ反応させられるが、乙０°Ｃよりひくい温度
では反応速度が遅いため良好なシリカゲルの生成が起こ
らない。保たれる湿度が高いことが反応速度が早められ
為ため好ましく、７０°Ｃ以」二であることが好ましい
。１００°Ｃよりも高い温度では揮発か激しいため好士
しくない。

本発明のシリカゲルの製造方法では、反応に使ｍ　ｉる
Ｌ１３酸塩含有粒子の重量は反応混合物重量のｊＯｉ’
ｉ’ｊ＠％以下であることか好まれる。特に珪酸塩ａイ
ノゴｒｌ　ｆ−がＪ、−１−酸塩カラスわシ子である時
は反応混合物重量の２０市滑％以下であることが好まれ
る。

これらより多いＨ；酸塩含翁拉子を反応′ｒｊ、ＶＣ加
えると、反１ル、混合物をかくはんしていても生成した
シリカゲルか反１＋ｉ＞液全体として固まって大きな＋
−キ状となる事があり好ましくない。このケーキ状シリ
カゲルはその後の酸洗浄および水洗浄なとによるシリカ
ゲル中の不純物の除去が朔かしく、高純１−９のシリカ
ゲルを得ることが出来ない。３０重最％特に２０重量％
以下であれは、反応混合物をかくはん状態にしておくこ
とにより、生成したシリカゲルは上記ケーキ状の・シリ
カゲルとなることなく、反応液中に浮遊する浮遊状シリ
カゲルとなる。この浮遊状シリカゲルはその後の洗浄操
作により簡栄に高純度なシリカゲルとすることか出来る
。珪酸塩含有粒子の添加量が少ない方がかくはん操作を
行なわなくともケーキ状シリカゲルと成りにくいため好
ましいか添加量が反応混合物重量の００５重量％以下に
なると得られるシリカゲルの摺に対して溶液の取り扱い
量が増すので好ましくない。

反応液をかくはんすることは、珪酸塩含有の粒子で水不
溶性の粒子がズ然鉱物又は人工鉱物の粒子である場合は
、反応物の接触を良くシ、反応速度を高める働きの他、
ケーキ状シリカゲル生成の防止」５よび浮遊状シリカゲ
ルの細粒化等に効果があり好ましい。しかしながら珪酸
塩含有の粒子で水不溶性の粒子が珪酸塩ガラスである場
合は、反応物をかくはんする必要はなく、反応溶液を静
止しておいても浮遊状シリカゲルが生成する。

こうして生成した浮遊状シリカゲルを、その他の酸不溶
解物より比重選別又は分級等で分取する。

この操作にて天然珪酸塩鉱物などの５ｉ０２含有散の低
い原料からでもシリカゲルを得ることが出来る０ 又こうして得られたシリカゲルは浮遊状である　″ため
に、洗浄用酸−Ｃ洗浄することにより非常に効率良く、
早い仕度でさらに高純度なシリカゲルにすることが出来
る。

ここで浮遊状シリカゲルを酸にて洗浄するのは、シリカ
ケル生成の反応液から分取した浮遊状シリカゲル昼中に
含まねているアルミニウム、アルカリ金属、アルカリ−
Ｉ−類金属なとの不純物イ詞ンをＣＰ、遊状シリカゲル
から取り除くためてあり、溶解用酸と同様の乙Ｏ″Ｃ以
上の酸を使用するのか好ましい。を晶酸を用いるのは、
シリカゲル中にシリカゲル生成の反１＋ｉＬζ未完の酸
可溶珪酸塩含イｊ物かあっても、さらにそのシリカゲル
生成の反１＋ｉ＞を進め、反応を完結させることにより
シリカゲル中の５ｊ−０２以外の不純物濃度を低下さセ
る働き、およびシリカゲル中に含まれ一〇いるアルカリ
金り′４．アルカリ土類金属、アルミニウムイメン等の
不綽物′イオンを容易に取りＱぞく働きを利用するため
である。洗浄用酸は溶解用酸と同様、あらゆる種類の酸
が使用出来るが、反１ｊト未完のシリカゲル生成反ｊ、
し促進させる春味で溶解用酸と同様の条件を満足する酸
が好ましい。又洗浄の作業も乙Ｏ″Ｃ以上の温度に保だ
ねることが好まれる。又洗浄用酸としてはアルカリ土類
金属および鉄イメンなどの不純物濃度が低いものが好ま
れる。

こうして酸洗浄された浮遊状シリカゲルは、不純物濃度
の少ない水、アルコール等の洗浄液でシリカゲル中の酸
を洗い流さ才１て、酸を含まないシリカゲルとされる。

以下に本発明を実施例に基き説明する。

ｅ　実　施　例 まず珪酸塩含有粒子として天然１．ｉ：酸塩鉱物を使用
した場合について述べる。　。

実施例／ 静岡県賀茂郡産のゼメライト鉱ｄを粉砕し、１０３１１
ｍ−２！；ＯＭＨの粒度の粒子をふるいにより取り出し
た。このゼオライト鉱石粒子２０ｇを１００°Ｃの゛温
浴につけた濃塩酸、２ｏｏｍＢ入りのビーカー中へ少し
ずつ加えた。ガラス棒で同反応液をかくはんしていると
２０分後にゼオライト鉱石粒子の大部分がとけ、浮遊状
シリカゲルの発生が認められは体しめた。そこで反応溶
液に対する珪酸塩鉱物粒子・の濃度をさげてケーキ状シ
リカゲルの生成を防ぐ［１的で同反応液に濃塩酸！ｒＯ
ｍｌをさらに加え、１００°Ｃ１！ＩＡ浴中てかくはん
を続けた。最始の反応開始より７時間後には反応液中に
多量の浮遊状シリカゲルが生成し、反応液全体に浮遊し
、かくはんにより回転していた。又同反応液底部には白
色の川魚したビーカーに静かに反応液を移した。その際
、元のビーカーの底部に残った白色の酸不溶解物（長石
、雲母９石英、粘土鉱物等）は元のビーカー底部に残る
様にし、酸不溶解物を分離した。

その後この新しいビーカー中の反Ｉｌト液をｌｂＯｏＣ
の温浴中で２時間かくはんし続け、浮遊状シリカゲルの
生成を完全に行った。その後このビーカーを温浴中から
とり出し１０分間静置させ、浮遊状シリカゲルを沈めた
後この反応液の上ずみ液（浮遊状シリカゲルを含まない
）２００ｍｌを上方より吸引させ−（取りのぞき残った
浮遊状シリカゲル入り反応液に新しい濃塩酸７００ｍ１
を加えてがくはんを続けた状態でｉｏｏｏ（Ｊｆｉ浴で
２時間洗浄処理した。この操作により浮遊状シリカゲル
中に含まれているＣａイオン、Ｍｇイ乞ン等、　５ｉ０
２以外の不純物となるイメンが希薄化される。その後こ
の上ずみ液の除去、新しい濃塩酸添加、温浴中のかくは
んをｔ度くり返し、生成したシリカゲルの洗浄をくりか
えし行った。同反応液を塞流にまで冷却させた後、エチ
レンオキサイド系界面活性剤２ｇを加えメツシュアｑμ
ｍのふるいを通過させ、加えたゼオライト鉱石中の酸不
溶解物で前記ビーカーの移し変え操作で完全に分離され
ていない固形物を取りのぞき、浮遊状シリカゲルの入っ
た反応液を得た。

ここで界面活性剤を反応液に添加させたのは、浮遊状シ
リカゲルの擬集を防ぎ浮遊状シリカゲルのふるいの通過
を容易にするためであり、塩酸により分解されない界面
活性剤であれば、どの段階で反応液に加えてもかまわな
い。その後この浮遊状シリカゲルの入った反応液を吸引
ろ過させ浮遊状シリカゲルをろ紙上に捕収した。このろ
紙上のシリカゲルにイオン交換水を成度加え、浮遊状シ
リカゲル中の洗浄用酸を洗い流した。こうして得ら第１
たノリ力ゲルを、ろ紙と共１１Ｃ１２０°Ｃの乾燥機内
で一昼夜乾燥さゼた。こうして得られたシリカゲルは約
グ、りｇであった。

本実施例によって得られたシリカゲルのＸ線回折分析の
結果を第１図に、ＫＢｒ錠剤法による赤外吸収スペクト
ル測定の結果を第２図に示す。第２図には処理前のゼオ
ライトサンプルの赤外吸収スペク１ルもあわせて記入し
である。これらの結果から本実施例の操作により、非晶
質のシリカゲルか生成している事がわかる。又同シリカ
ゲルを１００″Ｃて３０分加熱し水分を除゛いた物の、
螢光Ｘ線分析による化学組成の分析結果を第１表に示す
。

第１表において５ｉ０２含有量は不純物濃度より推定し
た推定値として表わした値であり、１０．０°ＣＶ？′
。

て除くことの出来ない水分重量をも含んだ値である。

ここで比較のため菱従来市販されているＡ、Ｂ。

ＲＤ、Ｔ、Ｔ）、球状ゲルの化学分析結果を第２表に示
す。

第１表および第２表を比較してわかる通り、本実施例に
より製造したシリカゲルは、５ｉ０２含有量の低い、又
原料コストの低い天然ゼオライト鉱石を使用しているに
もかかわらず、従来法で作成したシリカゲルとほぼ同様
の化学組成となっている事がわかる。

実施例！ ハワイのオアフ島のオリピン砂を粉砕し、／、２５〜／
’１３μの粒度の粒子２０ｇを得た。このｔ　ＩＪビン
砂粒子を９Ｊ”Ｃｕｔ！浴中の乙Ｎ−ＨＮＯ３１００ｍ
１　＋／）入ったビーカー中へ６Ｗｆｆづつ反応液をか
くはんさせながら加えた。２時間開反応液を温浴中のか
くはん状態に保ち、その後温浴より取り出し１分間静置
さｉ１実施例／と同様に別に用意したビーカー中へ静か
に反応液を移５し変えた。この時白色の不溶解物、は元
のビーカーに残る様にした。その後吸引して加えるｅ量
を、！；０ｍ１ｌと、した以外は実施例１と同様の操作
を濃塩酸を乙Ｎ　（（ＮＯ３に置き換えて行った。

得られた７２０°Ｃ乾燥シリカゲルは約３．ｇｇであっ
た。

原料のハワイのオアフ島オリビン砂および得られたシリ
カゲルのＸ線回折結果を第３図に示す。

また同原料および得られたシリカゲルの６００°Ｃ乾燥
物の螢光Ｘ線分析による化学組成の分析結果を第３表に
示す。

本実施例においても５１０２含有料３８”Ｎ’ｔ％のオ
リピン砂から従来と同程度の純度のシリカゲルが製造さ
れていることがわかる。

実施例３ カナダ産ネ７エリンについて、溶解用および洗浄用酸を
７Ｎ−）１０ｊｌ！ざＯｍｌ　とし、吸引して加える温
酸量を１１０ｍ７！とした以外は実施例２と同様の操作
を行った。ＩＱ料粉粒子２０ｇら得られたシリカゲルは
約ｔ。７ｇであった。又得られたシリカゲルの６００°
Ｃ乾燥後の８１０２含有率は９９ｗｔ％と高かった。

第　ｌ　表 第　λ　表 比較例１ ジョーシア産カオリンを粉砕した後、分級を行なわずに
、２０ｇ採集しＩＩＮ　Ｈ２ＳＯ４を用いて実施例−と
同様にゲル化１分離、酸洗浄１分離２ロ過、水洗浄、　
／、２０°Ｃ乾燥を行った。原料粒子ｓｏｇから得られ
たシリカゲルは約９゜ｇｇであった。

原料カオリンと得られたシリカゲルのＸ線回折結果を第
１図に示す。又得られたシリカゲルを乙００°Ｃ乾燥さ
せた物の化学分析結果を第３表に示す。

第３表および第を図かられかる様に本比較例による方法
では前記実施例よりも純度の悪いシリカゲルしか得られ
ておらず、原料の分級が得られるシリカゲルの純度を決
定する重要な要因であることが理解され、本比較例では
シリカゲル中にカオリン鉱石に含まれる石英、長石、雲
母等が残存し、その純度をおとしていると考えられる。

上記実施例および比較例からあきらかな様に、本発明の
シリカゲルの製造方法によれば５ｉ０２含有率が低く安
価な天然珪酸塩鉱物（水不溶性）を用いてシリカゲルが
製造出来ている。

珪酸塩含有粒子（水不溶性）として天然珪酸塩鉱物を使
用する場合、天然珪酸塩鉱物中には天然鉱物生成の際の
共析現象により酸に不溶の鉱物がその鉱物中に含まれて
いる事が常であるために、ゲル生成後の酸不溶解物の除
去が従来法によるシリカゲル程度のシリカゲルを得るた
めに非常に重要な操作となる。

次に珪酸塩含有粒子として人工の珪酸塩鉱物（合成ゼオ
ライト）を使用した場合について述べる。

実施例ｑ 市販の合成ゼオライトを３種類用意してＡ、、Ｂ、Ｃと
試料名をつけた。（Ａ　徳山曹達社製Ａ−４’、Ｂ徳山
曹達社製Ａ−３，徳山留達社製Ｆ−９）これらのゼメラ
イトを全て２００　ｉｔ’ｍ以下とし、これらゼオライ
［・粒子各２０ｇを乙Ｎ−ＨＣｌ各２００ｍ１中に入れ
各々ｑＯ°Ｃとなる様に加熱した。数分で溶液中に透明
な粘性を有するシリカゲルが析出して来た。ここでこの
析出してくるシリカゲルが大きな塊状のものとなるのを
防Ｉにするため反応液をかくはんする。９０°ＣＫでか
くはんを続けなから／時間各ゼ刈うイトの反応を行なっ
た。反応液全体には浮遊状のシリカゲルおよび白色の粉
末がかくはんにより回転していた。その後約５分間者反
応液を静置させ、反応液中に残っている微量の白色粉末
を反応容器中に沈殿させる。その後裔反応液を別に用意
した反応容器に各々移しかえ、合成ゼオライト中Ｋｌ歪
純物として含まれる珪酸塩鉱物（長石池）およびゼオラ
イトの特に溶解性の悪いものと思われる白色粉末を各反
応液より分離する。その後裔反応液をかくはんを続けた
状態で９０°ＣＫ／時間保持する。その後同反応液を吸
引ろ過し反応液中に浮遊する浮遊状シリカゲルをろ紙上
に補数する。

こうして得られたシリカゲルを再び別に用意した乙Ｎ−
ＨＣｌ３．２００ｍ１Ｋ加えかくはんを行ないながら９
０°Ｃに２時間保持する。この吸引［」過および酸洗浄
行 を９回くり返してもない言１ｇ時間の酸洗浄を行なった
。得られた反応液を吸引ろ過して、浮遊状シリカゲルを
ろ紙上に補数し、蒸留水で浮遊状シリカゲル中に含まれ
る洗浄用酸をろ紙上で洗い流した。その後このろ紙」二
の浮遊状シリカゲルをろ紙ごとｌ、！０°Ｃで／晩乾燥
さゼ原料Ａ、Ｂ、Ｃに対して各々ａ、約Ａ、ｌ１ｇ、ｂ
、約乙、乙ｇ　、　ｃ、約７．　／ｇのシリカゲルを得
た。

使用したＡ、Ｂ、Ｃの各ゼオライトおよび得られたａ、
ｂ、ｃ各ンリカゲルのＸ線回折図形を第Ｓ図および第ご
図に示す。又各出発ゼオライトおよび得られたシリカゲ
ルを乙ＯＯ°ＣＫで乾燥させたものの螢光Ｘ線およびプ
ラズマ発光分析による化学組成の分析値を第４表に示す
。第ｑ表においＹ１シリカケルの８１０２の含有量は各
不純物成分のａ有量より算出したｆｉ（＋定値であり、
３００°Ｃにてシリカゲルに含まれている水分をも含ん
だ値である。第ｑ表および第乙表から明らかな様に、本
実施例によって９９．９％以上の高純度のシリカゲルが
得られている。また、本実施例によってイ↓１ら１１た
シリカゲルは、第２表に示された従来法により製造され
たシリカゲルよりも高純度なものである。

本実施例では、シリカゲルを得るための８１０２諒とし
て人造の合成ゼ刈ライトを使用しているために操作の妨
げとなる不純物濃度がひくく、簡ＩＪｉにシリカゲルの
ｒ１′Ｌ、−相を形成出来、その後の洗浄の効果により
非常に高純度なシリカゲルを生成出来る。ここで合成ゼ
オライトは元来塗安定な構造であり、トンネル状の空間
が多く酸に弱い。又酸によってまずｌ−０−３ｉの結合
が切断されＡｌ２Ｏ３が溶解し５１０２含治の構造体が
溶液に対して非常に接触面積の広いバラバラの構造とな
りやすい。このため通常５ｉ−０−８ｊ−がランダムに
存在する珪酸塩ガラス等かｐ出発する場合よりも５ｉ０
２の構造がバラバラとなり、ｔバ１単にシリカゲル中の
５ｉ０２以外の不純物（アルカリ金属イＡン、アルカリ
土類金属イメン等）が溶液中に放出される。そのため５
ｉ０２源として合成ゼオライトを使用する事は、高純度
なシリカゲルを得るために有利である。

本実施例においても５ｉ０２含有率の低い人工珪酸塩鉱
物（合成ゼオライト）を用いてシリカゲルを製迭出来て
いる。

又珪酸塩含有粒子として人工珪酸塩鉱物を使用した場合
には、人工珪酸塩鉱物中には回折による酸不溶性の鉱物
等か少ないため簡単に酸不溶性鉱物が佇遊状シリカゲル
と分離出来ている。又その後の酸洗浄等によりｍ」単に
高純１度化出来ている。

次に珪酸塩含有粒子として５ｉ０２含有量が５５モル％
以下の珪酸塩ガラス粒子を用いた場合について述べる。

実施例Ｓ 珪砂およびＮａ２　Ｇ　Ｏ３ｒ　Ｋ２　Ｃ０３ｒ　Ｍ　
ｇＣＯ３＋　Ｃａ’ＣＯ３ノ各種炭酸塩を、ガラスとし
ての最終組成がＮａ２Ｏ＋、−２ｔｗｔ％、に２０乙、
２ｔｗｔ％、　ＭｇＯ／２．３ｗｔ％　。

ＣａＯ２，５−ｗｔ％、　５ｉ０２　ＪＯＷｊ％となる
様に秤量・混合し、／１ｌＯＯ″Ｃの炉内て２時間溶融
し、塊状のガラスを得た。このガラス塊を粉砕し、粒径
ｇざμｍ以下の試料、２ｇを得た。この珪酸塩ガラス粒
子を約７０°Ｃに保持された６Ｎ−Ｈｃｌ　１００ｍ１
Ｋ徐ｈ　Ｋ添加しシリカゲルの生成を行なわせた。同反
応混合物を１０時間保つと反応液底部に白色のゲルおよ
び反応液中に無色透明のやわらかいゼリー状のゲルが生
成した。得られた反応混合物を吸引ろ過し、両力のシリ
カゲルを反応溶液から分取した。この分取されたシリカ
ゲルを再び約７０″Ｃに保持された６Ｎ−ＨＣｌｔＯｏ
ｍ（ｌに添加し、２時間保持した。その後吸引ろ過によ
りシリカゲルを再び分取し、これをもう１度約７０″Ｃ
の１．Ｎ−ＨＣｌ　１００ｍ１（１（加え２時間保持し
た。その後再び吸引ろ過した後蒸留水を加えなからろｉ
ｏを行ない洗浄用酸を完全に洗い流す。得られたゲルを
清浄な乾燥器中で／、！０°Ｃにおいて充分に乾燥し、
シリカゲル粉末を得た。得られたシリカゲルは約ｏ、ｑ
ｓｇてあり、このシリカゲルはＸ線回折測定により無定
形シリカゲルであることか確認された。又このシリカゲ
ルは実施例／と同様の分析により５ｉ０２が９９゜９ｗ
ｔ％以上の高い純度を持ったシリカゲルである事かわか
った。

実施例乙 珪砂および１’Ｊａ２　Ｇ　Ｏ３＋’Ｋ　２Ｇ　０３１
　ＭｇＧＯ３＋　ＣａＣｏ　３　。

Ａ、／２０３の各種原料を、カラスとしての最終組成が
Ｎａ２０５ｗｔ％、　Ｎａ０５ｗｔ％　）　ＭｇＯ１０
ｗｔ％　、　Ｃａ○２０ｗｔ％ｔ　Ａ、６２０３２０ｗ
ｔ％＋　５１０２　’＠（，１ｗｔ％　となる様に秤量
・混合し、７１１００°Ｃの炉内で２時間溶融し、塊状
のガラスを得た。その後実施例乙と同様の操作を行ない
シリカゲル約０．７３ｇを得た。シリカゲルの分析結果
によるとＡ＃２０３の濃度は０．０５ｗｔ％以下であり
、５１０２は９９．９ｗｔ％以上であった。

本実施例により珪酸塩ガラス粒子がｉ　２ｏ　３を多バ
１、に含んだガラス粒子であっても、本発明のシリカゲ
ルの製造方法によりほぼ完全ＫＡｌｚＯ３が除去されて
いることがわかる。

実施例７ 実施例乙と同様にガラスの組成がＮａ２Ｏ３，／、２３
ｗｔ％、　Ｎａ０３．／、２！ｒＷｔ、％　、　ＭｇＯ
乙、、８ｗｔ％　ＱａＱ／２．ｊＷｊ％　ｉ　Ａ（７２
０３，２ｊＷｊ％　、　５１０２　！；Ｏｗｔ％　（７
）　ガラス塊を作成しその後実施例ｊ、乙と同様に粒径
ｇざ７１１７１以下の試料２ｇを得た。この試料をポリ
エチレングリコール系界面活性剤を少量添加した７０°
Ｃ乙ＮｙＨＣ６ｌｏｏｍＯに徐々に添加した。その後実
施例Ｓと同様の酸洗浄、蒸留水洗浄、および乾フ１■操
作を行ないシリカゲル約０．９３ｇを得た。

本実施例により得たシリカゲルの分析値もＡｌ２Ｏ３（
１１，（７５ｗｔ％、　５ｉ０２９ｑ、９ｗｔ％であり
、純度の高いシリカゲルであることが確認された。

−」１記実施例よりあきらかな様に珪酸塩含有粒子とし
て、５１０２含有量が５Ｓモル％以下の珪酸塩カラス粒
子を用いることによりＳｉｎ、２１度が９９．９ｗ　ｔ
、％以上の高純度なシリカゲルが得られている。

″又上記実施例では珪酸塩ガラス粒子の珪酸供給源とし
て珪砂を使用しているが、珪酸供給源は上記珪砂に限定
されるものではなく、最終的に珪酸塩カラスを製作した
時に不都合（不溶解、脈理発生等）のない限りにおいて
珪酸塩含有原料（天然鉱物２人工鉱物、ガラス屑等）で
あれば珪酸供給源として使用出来る。

又珪酸塩カラス粒子を珪酸塩含有粒子として使用する事
は、ｍ記天然および人工鉱物を使用した場合とくらべて
使用することのｔ＋ｊ来る粒子の粒径の小ささに対する
制限がなくなる点で利点がある。

これは、珪酸塩ガラス粒子が不溶解および脈理等の不均
一相のないガラス−であれば、珪酸塩カラス粒子から不
純物となる不溶解物が生成するおそれのないために、酸
不溶解物を除去する必要がない事に起因する。

珪酸塩含有粒子（水不溶性）として珪酸塩ガラス粒子を
使用する場合■ガラスが均一である事■ｓｏｏμｍ以下
（望ましくは２００μｍ以下）の粒子ｆｌＫ粒度調整が
されている事が得られるシリカゲルの純度に犬きく関係
する要因である。

ｆ　発明の効果 本発明によれば、実施例から明らかな様に珪酸塩含有率
の低い珪酸塩含有粒子（水不溶性）がら、通常得られて
いるシリカゲルと同等又はそれ以」＝のＳ　ｊ−０２純
度を持ったシリカゲルを製造している。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例によって得られたシリ粂女カゲ
ルのＸ線回折図。第２図は本発明の実施例によって得ら
れたシリカゲルの赤外段１■の測定結果Ｃ５第３図は本
発明の実施例に用いた天然珪酸塩原料鉱石および実施例
によって得られたシリカゲルのＸ線回折図。第１図は比
較例に用いた天然珪酸塩原料鉱石および比較例によって
得られたシリカゲルのＸ線回折図。第５図は本発明の実
施例に用いた合成上ＡライトのＸ線回折図。第３図は本
発明の実ｂｌｌｉ例によ、って宵らｌ］たシリカゲルの
Ｘ線回折図−Ｃある。 回折へ　２σ（度） 第１図 回折角２σ（劃 藪炙　（ｐｍ） 表　１　（ｃｍ　） 回−を色　２Ｃｊ　（、ｔ） 第４　匡 回折＾２０”　（＆） 第５　図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）粒径が３００ｔｔｍ以下の珪酸塩含有粒子で水不
   溶性の粒子とＯ，Ｓ規定以上の溶解用酸との混合物を乙
   Ｏ″Ｃ以上に保って、前記粒子と前記酸とを反応させ、
   その後反応混合物からシリカゲルを分離し、洗浄するこ
   とを特徴とするシリカゲルの製造方法。 （２）　前記反応に使用する珪酸塩含有粒子の重量が、
   ｔｊ−！、合物重量の３０重Ｎ％以下である特許請求の
   範囲第１項記載のシリカゲルの製造方法。 （３つ）前記珪酸塩含有粒子が、ゼ副ライト、カオリナ
   イト、ネフェリン、オリビンからなる群より選ばれた少
   なくとも１種の鉱物を含んだ天然珪酸塩鉱物粒子である
   特許請求の範囲第１項又は第２項記載のシリカゲルの製
   造方法。 （４）前記珪酸塩含有粒子が合成ゼオライト粒子である
   時語請求の範囲第１項または第２項記載のシリカゲルの
   製造方法。 （５）前記珪酸塩含有粒子が８１０２含有量が３Ｓモル
   ％以下の珪酸塩カラス粒子である特許請求の範囲第１項
   又は第２項記載のシリカゲルの製造方法。