JPS60159658A - 単一方向性加速度計およびそれを製造する方法 - Google Patents

単一方向性加速度計およびそれを製造する方法

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、指向性加速度計とそのマイクロ平版印刷によ
る製造法とに関する。その名の示すごとく、この指向性
加速度計は遅動する物体の加速度の個々の成分を画定す
ることを可能にする。
従来の技術 一般に加速度は、逢動質址ｍ（振り子）と、遅動物体の
加速度ｙによるカｐ“”ｍｙを測定することを可能にさ
せる装置とを具備する。
現在商業的に入手可能な加速度計は、取外し可能な機械
部品を具備する。この極の加速度針の大きさは、とくに
前記加速度計を構成する各棟の構成要素とその組立て体
との位置決めの問題を配慮した上で、それを形成する部
品の抜雑な製造技術ならびにその多大な数量を顧慮する
と、極めて大きい。
半導体技術から生まれた技法の利用法が目下、とくに同
一の平らな基板上での一括製造により、上記加速度計の
生産原価と共にその大ぎさを低減させる目的で開発され
ている。この種加速度計の製作手順か、米国電気電子学
会（ＩＥＥＥ　）紀散（Ｐｒｏｃｅｅａｉｎｇｓ　）　
（１９８２年５月発行、第７０巻、泥５号）中のケイ・
ペイターゼン （Ｋ、　ＰＡＴＥＲ８ＥＮ　）の−又に記述されている
。
第１図には、この新規な手ｊ戯に従って栴成された加速
度計の基本的な線図が縦断面形式で示しである。この加
速度１１−は、例えばくほみ４を有するけい素またはガ
ラスで作られた基板２を具備する。
この基板上には、基板内に形成されたくほみ４上に掛か
る、とくにシリカ、ドープを施したけい素または金員で
作られたビームの形をしたたわみ性の薄い層６が、例え
ば真を蒸着によって、沈積される。方向２で表示される
基板の表面に垂直の方向に変形または運動することがで
きるこのビームは、その自由端に簀動質量８を支える。
測定しようとする方向２における加速度の成分に比例す
る質量８の変位の測定は、ビームの形をした薄層６によ
って画定されるコンデンサの容皺の変化の測定を介する
か、または前記薄層に取り付けられた圧電抵抗素子によ
るか、のいずれかによって行われる。
事実、上記の加速度側′は、現在、けい素板について最
も役立ち得るものに該当するが、数多くの不利点を有す
る。とく処たわみ性ビームｂは、加速度が存在しない場
合でさえ、ビームの曲けをもたらす内部応力を生ずる可
能性がある。制御することが極めて困難なこれらの応力
は、とくに、加速度計の製造方法によるものである。さ
らに、これらの応力は、温度と共に変化する。
別の不利点は、異なった膨張係数を其え且つまた許容し
難い応力をもたらす数多くの嚢なった材料によって生起
される。
さらにまた、たわみ性ビーム６に取り付けられた質量８
がビーム＠練に対して中心から外されると、この形式の
加速度計は、方向ｙのような、基板２０表向に平行な方
向における加速度の成分に対しても感受性を有する。し
かし、すぐれた指向性加速ｉ＝ｔは、測定されるべき加
速度の単一成分についてのみ感受性を有するものでなけ
れはならない。この現象は、実際のビーム内の応力によ
り、加速度が存在しなくてもビーム６が曲がる場合には
更に態化する。
さらにまた、加速度計の桝成の対称の欠如により、質量
８の変位の示差的な測定を行うことが極めて困難である
。しかし、このような手順な経ずにビームの位置のｍｍ
な測定を行うことは不可能である。
この対称の欠如を防止するためには、薄層６に対して、
第一のそれＶＣ第二の対称基板を加えることもできるは
ずである。この極の装置が、二ニー・ヨーク（Ｎｅｗ　
Ｙｏｒｋ）　４５　Ａ　、米国電気電子学会（ＢｇＥ）
　電子装置関連会報（Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ　０ｎ
Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｄｅｖｉｃｅｓ）、（１９７９年１
２月発行、第ＥＤ−２６巻、第１２号、１９１１〜１９
１７ヘー　シ）のエル・エヌ・ロイランス（Ｌ、Ｎ。
Ｒｏｙｌａｎｃｅ）　等による「ア・バッチ・７アプリ
ケーシヨン・シリコン・アクセレロメータ（Ａ　ｂａｔ
ｃｈｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ　５ｉｌｉｃｏｎ　ａｃｃ
ｅｌｅｒｏｍｅｔｅｒ）　Ｊ　と和する論文に記述され
ている。前記装置の場合には、シールの結果として、実
際の基板に内部応力の問題が発生する。さらに、この方
法は複雑であり、費用がかかる。
これらの加速度計の別の不利点は、それらの劣った感度
である。このように、ビームの形をした薄層６の寸法は
不変であるため、震動貿址８を増すことは困難であり、
後者は多くとも数ミクロンの厚さを具える。
毘１図に示す加速度計の考えられる変株は、薄層６の両
端を基板に固定させることから成り、これにより、前記
層内に応力が存在する場合でも賀緻８の出発位置を固定
することが容易になる。し゛かじ、この種の加速度計は
はるかに堅固な栴造と、従って低い感度とを具える。
問題点を解決するための手段 本発明の目的は、上記忙言及した不利点を排除しながら
、マイクロ電子工学技術に基づき、即ち上記基板におけ
る一括製造を可能にさせる指向性加速度計とその製造法
とに関する。
更に詳述すれば、本発明は、基板内に少なく共一つのビ
ームを画定する少なく共−のくほみを有し且つその端部
の一方が基板の残余の部分と一体をなすようにした基板
を具備し、第一方向に向けられた前記ビームが、前記く
ほみ内の第二方向と呼はれ基板の面に平行且つ第一方向
に垂直な単一方向内で変形することができ、前記第二方
向が、前記ビームの変形を測定する接続装置用の基板上
の接点および電気接続と同様に測定すべき加速度の成分
に対応し、前記測定が加速度の前記成分の値を定めるこ
とを可能とするようにした運動物体の加速度の一つの成
分を測定することを可能にする指向性加速度計に関する
。
この加速度肝は基板の（２）に平行に向けられた加速度
の一つの成分を測定することを可能にするが、一方、先
行技術による加速度計は基板の薗に垂直に向けられた加
速度の一つの成分を測定することを可能にする。
さらにまた、ビームが基板内に直接機械加工されるとい
う事実により、多重基板あるいは層の槓１ねという間組
は除去され、それにより、加速度計の機械的応力を相当
に跣少させることと、すぐれた熱安定性を有する加速展
開を得ることとが可能となる。
本発明による加速度Ｈ１の好適な実施例によれは、基板
の変形を測定する装置が基板内に実現される。
加速度Ｈ十の釣合いを保持しながらビームの寸法と形状
とに影響を与えることにより、あるいは質量の適切な付
加によって、種々の加速度測定範囲を容易に得ることが
できる。好都合なことに、本発明による加速度計は幅の
寸法よりもはるかに大きな厚さの寸法を具えており、そ
れにより極めて指向性のある加速度計を得ることを可能
にしてい−る。
さらにまた、本発明による加速度計の好適な実施例によ
れは、ビームの自由端は、基板内に形成されたブロック
を支えることができ且つ、測定されるべき加速度の成分
の作用を受けて基板のくほみ内に前記第二方向に動くこ
とができる。これにより、先行技術による加速度計の場
合にそうであったように、とくに電気分解で、震動質量
を接合させる必軟性を除くことができる。
あきらかに、加速度計の基板は、任意のいかなる材料で
作ることもできるが、これに対してはモノクリスタルα
石英またはけい素の使用が選択される。
本発明による加速度計の好適な変形の場合には、加速度
計か、基板内に形成され且つブロックの姑長部に置かれ
、且つ基板の残余部分にブロックを第一方向に連結する
はねを具備する。
本発明による加速度計の好適な実施例の場合には、測定
装置が、ゾロツクの面によって画定され且つ第二方向を
概ね横切る少なく共一つの可変容量コンデンサを具備し
、基板面が前記ブロック面に面し、余端層により且つ前
記の余端で被われた面の間にある空間によって前記面が
被われるようにされる。
好都合なことに、これらの画定装歓はまた、第二方向を
概ね横切り且つ金員層で被われた二つの対向面を有する
、基板内に形成された別のくほみによって画定される少
なく共一つの定容量コンデンサを具備する。
この定容量コンデンサによって、ビームおよび／または
ブロックの変形の示差的な測定を行うことができ、こう
して、先行技術による加速度肝では困難であった測定す
べき加速度の成分の精確な測定がなされる。
本発明はまた、上記に示した形式の指向性加速度計をマ
イクロ平版印刷法によって製作する方法において、この
方法が、基板内に形成される加速度計の極々の栴成要素
の形状を基板上に画定することを可能にするマスクを基
板上に形成する段階と、マスクのない基板の領域をエツ
チングする段階と、加速度肝およびビームの変形を画定
する装置の接点および電気接続を形成する段階とを包含
するようにした方法に関する。
この製作方法においては、先行技術による加速度計の場
合にそうであったように、導体と基板とのインタフェー
スにおける応力が基板に垂直に、即ち加速度計の感知軸
線に沿ってではなくそれと垂直に作用する。従って、加
速度が存在しない場合には、加速度計のすぐれた熱安定
性と共に、加速度計の可！！Ｉ構成要素のねじりまたは
変形の完全な除去が果たされる。
好都合ンＬことに、基板はエツチングにより、とくに加
速度計基板を形成する任意のいかなる材料に対しても有
利に使用できる反応性イオン・エツチングによってエツ
チングされる。さらにまた、この形式のエツチングは、
基板の結晶配列と無関係ニ、マスクの形状を介して基板
に形成される加速度１°柚成蒙素の形状を固定させると
いう利点を１する。
この方法の変形によれは、基板がモノクリスタル（けい
素、石英）である場合に、異方性化学エツチングを用い
ることも可能である。しかしこの場合、側面の真っ直な
基板が必要であるとすれは、基板の結晶配列がいかなる
性質でも良いということはあり得ない。
実施例および作用 非限定的な実施例に関し、且つ添付図面について、本発
明を以下に更に詳細に説明する。
第２図は、くほみ１４を完全に貝通させた、なるべくな
らけい素、シリカ、またはモノクリスタルα石英のよう
な絶縁材で形成することが望ましい基板１２を具備する
本発明による加速度計の蕗本的な線図の斜視図である。
基板内で、その端部１６ａが基板の残鍛部分と一体にな
ったたわみ性のビーム１６をくほみ１４が画定する。基
板１２の上面に平行なＸ方向に向けられたこのビーム１
６は、前記基板凹に平行且つＸ方向に垂直なＸ方向にた
わむことができ、このＸ方向は測定すべき加速度取分の
方向に対応する。Ｘ方向におけるビーム１６の変位に対
する変形の測定により、前′記方向における加速度成分
の値を定めることができ、前記変形は前記成分の姐に比
例する。
たわみ性のビーム１６を直接基板１２内に機械加工する
ことにより、先行技術による加速度計における多１層の
使用によって生ずる問題を克服することが可能である。
好都合なことに、ビーム１６が加速度を受けた場合、ビ
ーム１６の変形を測定することを可能にする装置を基板
１２内に形成することができる。
これらの装置はとくに、くほみ１４によって画定され、
この目的のため、互いに対向し且つＸ方向に平行に向け
られた金員で被われた二つの側面、例えは１Ｂ、２０、
を有する可変容置コンデンサ１７によって栴成すること
ができる。基板１２の上面への４亀ストリップ２２の配
設により、可変０緻コンデンサ１７を在来の測定装置２
４に接続することができ、それによって前記コンデンサ
の容量の変化量を測定することか可能となる。
これらの測定唾を基とすれは、次式により、ｙｘで示さ
れる物体のＸ方向の加速度成分の値を定めることは鞍馬
である。
ことに、 ε。：真空の諌ｍ率 Ｓ：コンデンサ＊覆の衣面積 に：ビームの剛性率（横断性係数） ｍ：ビームの負址 Ｃ：コンデンサの容量 ΔＣ：容址０変化量 加速度計の櫨々の接続と金属被櫃とは、クロムと金との
二１の層によって実現される。
極めて指向性の強い、即ちＸ方向における物体の加速度
取分を測定することの６を可能とする加速度計を得るた
めには、第２図に示すように、ビーム１６が幅の寸法１
よりもはるかに大きい厚さの寸法ｅを具えなけれはなら
ない。
加速良計の釣合いとビーム１６の厚さとを考慮すると、
一つ以上の２６のような展動賀緻を付加することは常に
可能である。一つ以上の震動寅敏゛２６の付加により、
加速度計の感度なｐ」放向上させることが可能となる。
第６図は、本発明による加速度計の特殊な災施例の斜視
図である。この加速度計は、例えは乙断面（ｚ、軸に沿
った断面）のけい素またはモノクリスタルα石英で作ら
れた基板３２を具備し、その中に基板を完全に貫通する
くほみ３４が形成され、中でも、一端３６ａが基板３２
の残余部分と一体をなした二つのたわみ性ビーム３６が
画定されている。基＆３２の上（６）に平行なＸ方向に
向げられたこれらのビーム３６は、基板の面に平行且つ
前記Ｘ方向に垂直なＸ方向に動き、または可成変形する
ことができる。Ｘ方向は、測定すべき加速度成分の方向
に相当する。
幅よりもはるかに大きい厚さを有するこれらの二つのビ
ーム３６は、例えは、その厚さがビームのそれ妃等しい
長方形の平行六面体のような形状をなすブロック３８を
その自由端に支える。基板３２内に形成されたこのブロ
ック３８は、Ｘ方向に基板のくほみ３４内で動きまたは
可成変形することができる。この加速度計はまた、ビー
ム３６に関して対称に基板内に形成され且つブロック３
８の蝿長部に位置するはね４０をも具備し、従つてビー
ム３６を基板３２の残金部分に接合することができる。
Ｘ方向に向けられ且つビーム３６のそれに等しい厚さを
有するこのはね４０によって、加速度Ａ−の徊遺体をそ
の感反が低下するまでに剛性にすることなしに、加速度
計の可動部分（ビーム、ブロック）に付層された電＆（
層５２）を電気的に接続することかｏＪ能となる。
ブロック３８のＸ方向の変形を測定する装置もまた基板
３２内に形成される。詳述すると、これらの装置は、グ
ロック３８の側板４２、即ちグロックの前記側面４２に
面するくほみ３４の面４４によってＸ方向に向けられた
ブロックの面によって画定され、前記面４４．４２か余
端層で被われ、また、全編で被榎されたｔｈＩ４２によ
って画定された二つの同様な可変容量コンデンサ３９．
４１を具備する。こうして画定されたコンデンサの容置
の変化歓の測定により、ブロック３８がＸ方向の゛加速
度を受けた場合のブロック３８の）：方向におけるブロ
ック３８の変形を測定することが可能となる。
グロック３８の変形の水差的な測定を行うため、本発明
による加速度計に一つ以上の定各社コンデンサ４３．４
５を設けることがで、きる。この目的のため、加速度計
はＸ方向に、基板３２内に形成され且つくほみ３４の両
側に位置する４６のようなくほみを具備する。これらの
くほみ４ｔｉは、Ｘ方向に向けられ且つ金執層で被われ
た二つの対向面４Ｂ、５υを有する。くほみ４ｂの金楓
被覆面４Ｂ、５υは、これら２面間のを間と同様に、定
ｕｋｔコンデンサ４３．４５を画定する。これらの空間
は、余端被覆４１　ｔ　４４１１」と同じ寸法（岸さ、
幅および長さ）を何する。
基板３２の上面への金一層５２の付層により、可変０址
コンデンサ３９．４１と定容駄コンデンサ４３．４５と
の各種の接点５３．　５４．　５５゜５６と電気接続と
を作ることができる。この全編１ｍ　５２　＆ｓ、柚々
のコンデンサ…ｊに短絡が無〜１ことを保址するために
、適切な形状を具えなけれはな′　らない。
ｍＢａ図は、第６図の加速度計のキャパシタンス・ブリ
ッジを示す亀気縁図を示す。ゾロツク３８の変形は、ａ
Ｋ３ａ−に示すように、キャパシタンス・ブリッジの不
平衡を測定することによって検出される。
好都合なことに、ブリッジの不平衡をＯにするように、
加速度ｙによる力Ｆ＝ｍｙＫｘ方向の対抗力Ｐ゛工を働
かせるために、この不平衡の測定値を用いることができ
る（サーボ系）。前記力Ｆｘを働かせるための可能な装
置の一つは、基板の面に垂直な磁界Ｂ２と、点５３．５
１間のＸ方向の強さエアの電流とを加えることから成る
。次いで、フィードバック力が次式によって与えられる
。
ＦＸ＝　Ｂ２Ｘ　Ｉｙ、　Ｘ　１ ここに、１ばＢ、ｚ、が作用する領域の長さである。
この場合、各社検出は零点検出（静止時閉鎖）用に用い
られ、ビームとブロックとはねとによって形成される糸
の中の電流により、磁界Ｂ２の作用の結果化ずるブロッ
ク３８で測定される加速度の影響を平衡させることがで
きる。次いで、加速度の測定が、キャパシタンス・ブリ
ッジ（第６ａ図）を平衡させるに必要な電流のそれによ
って行われるが、前記電流の強さエアは、加速度の甑に
直接に比例する。
上記に述べた検出装置を、加速度と誤速度との両者を測
定するために用い得ることは注意すべきである。
さらＫまた上記に述べた検出装置は、測定装置の唯一の
可能な実施例である。基板の上面に付活された圧電抵抗
体の使用に基づいた、または光学的検出＋１獣に基づい
た、別の装置も用いることができる。
種々の加速度の範囲を包宮するため、単にエツチング・
マスクの形状を変えるたけで′ｊＭ動質蓋２６の寸法を
変化させることができる。
ここで、本発明による加速度計な映造する、マイクロ平
版印刷法を用いた方法について説明する。
測定装置と同様に、ビーム１６または３６、ブロック３
８およびはね４υのような、基体内に形成された加速度
計の種々の構成要素は、前記構成要素がその中に作られ
る基板１２または３２をエツチングすることによって形
成される。前記エツチングＪ例えは反応性イオン・エツ
チングのような乾式エツチング法または異方性湿式エツ
チング、は、なるべく、基板の上面を被い且つ植々の加
速度計構成要素の正確な形状を画定することを可能にす
る金とクロムとの二１層のような導電材料で形成された
マスクを用いて行うことができる。
乾式エツチングの場合、良好な札同性が得られたとして
も、エツチングの深さに対して数十μ、ビームの−につ
いては数μでなけれはならない、という制約がある。こ
の場合、けい素の熱成長によって得られたシリカにより
、興味深い基板を構成することかできる。エツチング工
程かシリカについて終了した後、シリカを支持するけい
累を化学的にエツチングすることにより、ビームの後部
を障すことができる。この方法の利点は、それをけい素
集積回路に用いることができる、というこ゛とである。
別の変形によれは、基板を化学的にのみエツチングする
ことが可能であるが、この場合には、基板の結晶の異方
性に対する依存関係がある。前記異方性と化学的エツチ
ング生成物のそれとに影響を与えることにより、加速度
計を一形成する種々の構成要素の所望の形状を得ること
ができる。この方法忙対するすぐれた候補は、基板を形
成する浴断面（基板の而に垂直な２軸）のα石英と、モ
ノクリスタルけい紫とである。石英の場合忙は、例えは
、９０°Ｃにおけるエツチング生成物としてＨＦとＮＨ
，Ｆとの混合物が用いられる。
基板をエツチングするために用いられたマスクを除去し
た後、エツチングされた基板面の適切な金属被覆による
か、または次に雀鵬被櫃される基板にエツチング・マス
クを形成する前の基板の適切な金属被覆によるか、のい
ずれかによって、基板面上に形成される加速度計の檜々
の接点と一気接続とを得ることができる。
これらの接点と接続とを得る別の方法は、基板内に形成
される櫨々の加速度計構成要素の、および前記の電気接
続と接点とを生成するための、双方の形状を得ることを
可能にする、なるべく金とクロムとの二１層の形式の導
電性マスクを基板上に生成することから成る。
組４図は、加速度計の基板構成要素の、およびその電気
接続と接点とを生成するための、双方の形状を画定する
ことを可能にする単一マスクの原理を示す。このマスク
は、加速匹計の柚々の構成要素を収り除くためにエツチ
ングされる基板５７の領域を示す適切に形作られたくほ
み６４と同様に１基板内に形成され且つ電気接続と接点
とを設けられた、基板の上面を被い且つ種々の加速度計
麺成登素の形状を具えた５８，６υ、６２のような導電
性ストリップを有する導電層で形成される。
さらにまた、エツチングされない基板の領域においては
、このマスクが、種々の加速度計の接続を電気的に分離
することを’５Ｊ能にする極めて細い溝を臀する。
グリッド６６を形成するこれらの纒の存在により、基板
のエツチングの１０］、グリッドにおける極めて限定さ
れた深さにまで基板をエツチングすることが可能となり
、エツチング作業は極めて低いエツチング速度で結晶の
面に直面し、従って良好な機械的安定性が保持される。
このわずかな基板のエツチングは、６１のようなノツチ
で示される。
この基板のエツチングの深さの差は、基板の結晶の異方
性ならびにマスク・パターンの寸法に依存する。従って
、マスク・パターンが大きい場合（パターン５７）には
深いエツチングが行われ、一方、パターンが小さい場合
（グリッド６６）、基板のエツチングは単に浅いものに
過き゛ない。
加速度計製作工程の最終段階は、基板を機械的にマスキ
ングした仮にｏＪｉＶ量コンデンサの一定な容量を一定
することをｐ」−とにする垂直の余端被徨を生成するこ
とから成る。この目的のため、好都合なことに、９Ｕ０
と異なる基板上の蒸着媒質の傾斜角を以て真を蒸着を用
いることができる。
本発明による方法により、柿々の加速度または減速度の
範囲な山１］定できる複数の指向性加速度計を、同じ基
板内に一括形式で生成することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
第１図は既述の先行技術による指向性加速良計の縦断面
で示した基本線図、第２図は本発明による加速度計の原
理を示す斜視図、力６図は本発明による加速度計の特殊
な実施例の斜視図、第６ａ図はその電気的等価物を示す
図、第４図は本発明による加速度計の製造方法の特殊な
実施例を示す図である。 １２：基板　３９：司変容敏コンデンサ１４：くほみ　
４０：はね １６：ビーム　４１　：可変′４−鼠コンデンサ１７：
可髪答址コンデ゛ンサ４３：定容量コンデンサ３２：基
板　４５：定答緻コンデンサ ３４：くほみ　５２：金＠層 ３６：ビーム　ｅ：厚さ ３８ニブロツク　ｌ二幅 代理人　浅　村　皓

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （１）基板内に少なく共一つのビームを画定する少なく
    共一つのくほみな有し且つその端部の一方が基板の残余
    の部分と一体をなすようにした基板を具備し、第一方向
    に向けられた前記ビームが、前記くほみ内の第二方向と
    呼はれ基板の面に平行且つ第一方向に垂直な単一方向内
    で変形することができ、前記第二方向が、前記ビームの
    変形を測定する接続装置用の基板上の接点および電気接
    続と同様に測定すべき加速度の成分に対応し、前記測定
    が加度の前記成分の匝を定めることを可能とするように
    した運動物体の加速度の一つの成分を測定することを可
    能にする指向性加速度計。 ＋２１　特許請求の範囲第１項に記載の加速度計におい
    て、ビームの厚さかその幅をはるかに超えるようにした
    加速度計。 （３）特許請求の範囲第１項に記載の加速度計において
    、測定装置が基板内に形成されるようにした加速度針。 （４）　特許請求の範囲第１項に記載の加速度計におい
    て、ビームの他端が基板内に形成されたブロックを支え
    且つ、前記加速度成分の作用を受けて、基板の（ばみ内
    で第二方向に動き得るようにした加速度計。 （５〕　特許請求の範囲第４項に記載の加速度計におい
    て、加速度計が、基板内に形成され且つブロックの蝙長
    部に配設された、基板の残余部分にブロックを第一方向
    に連結するばねを具備するようにした加速度計。 （６１特許請求の範囲第４項に記載の加速度計において
    、測定装置が、ブロックの面によって画定され且つ第二
    方向を概ね横切って向けられた少なく共一つの可変容量
    コンデンサを具備し、基板の面が前記のブロックの面に
    面し、前記面が金員１１により且つまた前記の金員で被
    われた面の間に位置する空間によって被われるようにし
    た加速度計。 （７）特許請求の範囲第６項に記載の加速度ｕ十におい
    て、測定装置が、ル二方向を概ね横切って向けられ且つ
    金縞層で被われた二つの対向面を有する、基板内に形成
    された別のくほみによって画定される少なく共一つの定
    答皺コンデンサを具備するようにした加速度計。 （８Ｊ　特許請求の範囲第１項に記載の加速度計におい
    て、基板か、けい素に浴着されたシリカで形成されるよ
    うにした加速度計。 （９）特許請求の範囲第１項に記載の加速度計において
    、基板が、モノクリスタルα石英またはけい素で作られ
    るようにした加速度計。 ｔＪＩＪ）　特許請求の範囲第６項に記載の加速度計に
    おいて、測定装置か、基板の面に垂直な磁界を生成する
    ことを可能にする装置を具備するようにした加速度計。 ａυ　特許請求の範囲第１項に記載の指向性加速度計の
    製造方法において、この方法が、基板内に形成される加
    速度計の種々の構成要素の形状を画定することをｂ」能
    にするマスクを基板上に形成する段階と、マスクのない
    基板の領域をエツチングする段階と、加速度計およびビ
    ームの変形を測定する装置の接点および電気接続を形成
    する段階とを包含するようにした製造方法。 （１２１特許請求の範囲第１１項に記載の方法において
    、基板が乾式エツチング法によってエツチングされるよ
    うにした方法。 ａ３Ｉ　特許請求の範囲第１１項に記載の方法において
    、基板が化学的エツチング法によってエツチングされる
    ようにした方法。 Ｑ４１　特許請求の範囲薬１１項に記載の方法において
    、マスクが導電材料で形成されるようにした方法。 α５）特許請求の範囲第１４項に記載の方法において、
    マスクがクロムと金との二重層で作られるようにした方
    法。 （１６＞　特許請求の範囲第１１項に記載の方法におい
    て、この方法が、基板内に生成される加速度ｉｔの゛種
    々の構成要素の形状を画定することを可能にするマスク
    を基板上に形成する段階と、マスクのない基板の領域を
    エツチングする段階と、マスクの除去の段階と、電気接
    続と接点とを生成するためのエツチングされた基板面の
    金員被覆の段階とを包含するようにした方法。 （１７＋　特許請求の範囲第１１項に記載の方法におい
    て、この方法が、電気接続と接点とを生成するため基板
    面を金楓で被覆することと、基板内に生成される加速度
    計の柚々の構成要素の形状を画定することを可能にする
    マスクの金員で被覆された基板上への形成と１．マスク
    のない基板領域をエツチングすることと、マスクを除去
    することとを包含するようにした方法。 餞　特許請求の範囲第１１項に記載の方法において、こ
    の方法が、基板内に生成される加速度計の種々の構成要
    素の形状を画定することを可能にし且つ電気接続と接点
    とを生成することを可能にする導電性のマスクを基板上
    に形成する段階を包含し、前記マスクがグリッド状の形
    をなし、電気接続のない基板の領域内ではその板が狭い
    間隔を有し、マスクのない基板領域をエツチングする段
    階を包含するようにした方法。 （１１％許請求の範囲第１６項に記載の方法において、
    測定装置がコンデンサを具備し、基板の機械的マスキン
    グに続いて、前記コンデンサを画定するために用いられ
    る基板面の真空蒸着によって、金属による被覆が行われ
    るようにした方法。
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