JPS60158452A - 電子写真感光体等の記録体の製造方法 - Google Patents

電子写真感光体等の記録体の製造方法

Info

Publication number
JPS60158452A
JPS60158452A JP1214684A JP1214684A JPS60158452A JP S60158452 A JPS60158452 A JP S60158452A JP 1214684 A JP1214684 A JP 1214684A JP 1214684 A JP1214684 A JP 1214684A JP S60158452 A JPS60158452 A JP S60158452A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
immersion
support
substrate
coating liquid
level
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1214684A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Tanaka
武志 田中
Koichi Yamamoto
幸一 山本
Hiroshi Kojima
寛 小島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP1214684A priority Critical patent/JPS60158452A/ja
Publication of JPS60158452A publication Critical patent/JPS60158452A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0525Coating methods

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] 本発明は電子写真感光体等の記録体の製造方法に関し、
特に支持体を塗布液に挿入する前に、その塗!口液面を
常に一定に保つことができる電子写真感光体等の記録体
の製造方法に関する。
従来、感光性素材を含有する塗布液に円筒状支十、)体
を浸漬して塗布することにより電子写真感光体を製造す
る方法は浸漬塗布法として知られている(特開昭49−
1307’36号公報等参照)。
かかる浸漬塗布法を用いて支持体を塗布する場合、支持
体をどれだけ浸漬するか、すなわち支持体の浸漬長さは
、塗布液の無駄を無くすため支持体の天端面(上面)は
塗布しない方が好まし・い等、各種要請に応じて異なる
すなわち、例えば支持体が感光体として実際に用いられ
る場合には、支持体上の実際のコピー111は支持体端
部よりも内側であるので、支持体の天端縁まで塗布する
必要はない。また、支持体が感光体として用いられると
きにその両端がローラーによって接触支持される場合が
あるが、このようなローラー支持による場合、該ローラ
ーとの接触による塗布面の膜はがれ等を老成すると、塗
布面端部がローラーに接触することを避けるべきであり
、ローラーの内側接触面よりも内側であってコピー11
」よりも外側に塗布面端部を位置させるか、またはロー
ラーの外側接触面よりも外側であって支持体の天端面よ
りも内側に塗布面端部を位置させることか好ましい。
しかし、支持体の塗布毎に浸漬長さを、上記の支持体の
天端面にいかない位置や、ローラーに接触しない位置等
の特定の位置に維持することは容易でない。
浸漬長さは通常、支持体の停止J−精度やシリンダー内
の塗布液量規制により決定される。前者の支持体の停止
ヒ精度は例えばストッパー等を用い機械的にかなりの高
精度を得ることができるか、校名の塗布液量規制につい
ては、特にシリンダー内径が支持体の外径よりわずかに
大きい場合(実開昭57−703’9号公報参照)には
、支持体の浸漬前の塗布液量(@布液面の高さ)のわず
かな変化が支持体の浸漬長さく支持体を浸漬したときの
塗布液面の高さ)に大きく影響することになる。
従って浸漬長さを一定にするには、支持体を浸漬した後
に所定位置以上の液をオーバーフローさせる方法も考え
られるが、大量の塗布液を要するばかりでなく、液蒸発
によるロス及び作業環境の悪化等の問題があり、好まし
くないという欠点がある。この点、支持体を塗布液に挿
入する前にその塗布液面を一定に調整しておく方法によ
れば、上記欠点はないが調整する範囲が微小範囲である
ので、実際上容易でないという問題がある。
そこで本発明はかかる問題を解決すべく昭和59年1月
260提出に係る特許願において、支持体を挿入する前
の塗布液の液面の微調整が可能な゛「[子写真感光体等
の記録体の製造方法を提供した。しかし、かかるサイフ
オン現象を利用した方l):では浸漬長さの微細なコン
I・ロールができないという不都合が生じることが判っ
た。
[発明の目的] そこで本発明の目的は、支持体の浸漬長さの微調整が可
能な電子写真感光体等の記録体の製造方法を提供するに
ある。
[発明の構成] 本発明の」二記目的は、シリンダーに塗布液を少17X
−満たし、該塗布液中に支持体を挿入することにより、
塗布液の液面上昇による浸漬を行い、次いでこれを塗布
する電子写真感光体等の記録体の製、告方法において、
前記シリンダー内の支持体浸漬位置の周囲に所望容積を
有する浸漬部材を挿入することにより、前記支持体を浸
漬後の塗布液面を調整することを特徴とする電子写真感
光体等の記録体の製造方法によって達成される。
以下に本発明の好ましい実施例を添伺図面に基いて説明
する。
f5(図は支持体を挿入する前の塗布液面を調整する手
段の一例を示す概略断面図、第2図は支持体を塗布液に
浸漬した状態を示す断面図、第3図は支持体浸漬長さを
調整する一手段を示す概略断[I′ii図、第4図は第
3図の要部拡大説明図、第5図は支持体浸漬長さを調整
する部材の一例を示す概略斜視図である。
′先ず第1及び第2図に基き支持体を塗布液に挿入する
前の塗布液面の調整手段について説明する。
図において、■はシリンダー、2は円筒状支持体である
。シリンダー1の形状は特に限定されないが、例えば支
持体2形状に応じて円筒状とじてもよく、その場合には
シリンター内径を支持体2の外径よりわずかに大きくし
、シリンダー1と支持体2との間隙を少なくすることが
好ましい。また該支持体2としては、例えばアルミニウ
ム、ニッケル、銅、亜鉛、パラジウム、銀、インジウム
、錫、白金、金、鉄、ステンレス鋼、真鍮等の電属が用
いられる。
なお、支持体2の形状における円筒状とは、少なくとも
IFI体部が円筒状であれは、その両端形状は特に限定
されず、例えばその両端又は一端に固!、又は嵌合等の
手段によって他の形状の部材ないし部分が伺加yれてい
てもよい。
3はシリンダーl内に塗布液を自動的に供給するための
供給装置である。4は該装置3から塗布Mを供給するだ
めの供給口であり、該供給口4はシリンダー1の側面で
あって、支持体2を挿入する前の塗布液面の設定位置A
に設けられる。該供給口4の数句位置はシリンダー1の
側面に直接設ける場合に限定されず、第6図に示すよう
に、シリンダー1の下部に別のシリ、ンダ一部分IAが
連設されているような場合には、その別のシリンダ一部
分IAに設けてもよい。この場合、数句高さは上記液面
の位置Aと略同じでなければならない。5は該供給口に
連設された配管、6はカップリング、7はパルプである
。8は上部キャップ9により電封された塗布液供給容器
で、前記供給口4の数個位置よりも上方に設けられる。
なお、該容器8の容量は特に限定されないが、多数回の
塗布が可能な都とすることが望ましい。
以上の装置を用いて支持体を挿入する前の塗布液面を調
整するには、先ず第1図に示すようにシリンターl内に
塗布液を設定位置Aまで満たす。
次いで第2図に示すように支持体2を塗布液中に挿入し
、塗布液の液面上昇による浸漬を行う。
なお、浸漬法としては、支持体2を固定しておいてシリ
ンターlを上昇させて浸漬させることもできる。この場
合、供給装置3もシリンダー1と共に上昇させることが
好ましい。次いで支持体2を引き上げ又は、シリンダー
1を下降させて塗布を行う。
」−記¥布によって塗布液が数cc−10数ccが持ち
去られるため、塗布液面は設定位置Aより若干下る。こ
れによってサイフオン現象に基き液が容器8か′ら供給
され、シリンターl内に送り込まれる。このようにして
塗布液面が設定位置Aに調整される。
しかし塗布液の粘度や表面張力の影響によって、上記調
整手段に基き完全に設定位置Aを保つことは困難であり
、かかる設定位置Aにおける塗布液面の多少の変動が浸
漬長さにおいて大きく変動することになる。
次に・本発明法に好ましく用いられる浸漬長さを調整す
る手段について、第3図及び第4図に基き説明する。
今、調整11jの浸漬面をBとし、これをCの位置まで
上昇させるものと−する。この浸漬面BをCまで上昇さ
せる手段としては、シリンター1と支持体2の間に固定
板IOに固定された複数の浸漬部材11を塗布液に挿入
する方法が採用される。該浸漬部材11のB面下の容積
をV、80間の容積をVとすると、C面下の容積■は下
記となる。
ノシ2 V=V+V ・ ・ 拳 (1) B C1lJlにある塗布液の容積をVsとすると、v
=VS 11・・(2) また80間の距離をχ、シリンターlと支持体2の間の
断面積をSとすると、 S・χ= V + V s ■=S・χ−vs@l111(3) (2)、(3)式を(1)に代入すると下記式が得られ
る。
v=Sφχ 1式において断面積Sは装置によって決まっているので
、χと■の比例関係が得られる。従って液面上昇させた
い距離χがわかれば、それに対応し、て浸漬部材11の
必要容積がめられる。故に浸漬部材11について、例え
は断面積が長さ方向において同一の棒状部材等の所望の
同一の容積を有する多数本をあらかじめ製作(型式化)
しておけは、その浸漬本数を変えることによって、調整
前の浸漬面Bの変化に容易に対応できる。
浸漬部材1tの形状は棒状体、帯状体、球状体等のいず
れであってもよい。棒状体の場合は同じ長さ又は異なっ
た長さの棒を環状固定板IQ(内径は支持体2の通過が
可能な大きさにしである。)に着脱可能に固定できるよ
うにしたものであってもよイ (第5図に示すように多
数の挿入孔10Aを有する環状固定板lOに必要本数の
棒状浸漬部材Itを挿入する。)、このように、浸漬部
材11の増加、堀ゆ−、変換等を可能にすれば、よりπ
換性を増すと共に、前記のような型式化において実用性
を増すことができる。
固定板10は、例えば図示しない上下動可能な機構に連
結し、該機構に例えばターンテーブルに第5図に示す浸
漬部材11を複数(なお、゛容積は1cm’ 、2cm
’ 、Φ書・5crn’のように変化させてもよい。)
設け、必要に応じ選択使用するように構成できる。
メ、浸漬部材11の環状固定板10は、液中に固定もし
くは着脱できるように挿入されていてもよい。
本発明の方法により、支持体上に塗布液を塗布すること
により下引層を形成したり、感光層(キャリア発生層及
び/又はキャリア輸送層)を形成したりすることができ
る。
下引層を形成する場合は、塗布液としては支持体と感光
層との接着性を向上する溶液が選ばれる。キャリア発生
層を形成する場合には、塗布液中に例えば有機顔料が分
散又は溶解されて含有せしめられる。該有機顔料として
は下記のものが挙げられる。
P−(1)モノアゾ顔料、ビスアゾ顔料、トリスアジ顔
料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料、ピラシロンアジ
顔料、スチルベンアゾ顔料、チアゾールアゾ顔料等のア
ゾ顔料 P−(2) ヘリレン酪無水物、ペリレン酸イミド等の
ペリレン系顔料 P−(3)アントラキノン誘導体、アントアン)・ロン
誘導体、ジベンズピレンキノン誘導体、ビラントロン誘
導体、ビオラントロン誘導体、インビオラントロ/誘導
体等のアントラキノン系乃至多環牛ノン系顔料 P−(4) インジゴ誘導体、チオインジ:I誘導体等
のインジゴイド系顔料 P−(5) 金属フタロシアニン、無金属フタロシアニ
ン等のフタロシアニン系顔料 p−(e)ビスヘンズイミダゾール誘導体等のペリノン
系顔料 P−(7)キナクリドン系顔料 P−(8)シアニン系及びメロシアニン系顔料P−(9
)キノリン系顔料 本発明の方法によりキャリア輸送層を形成する場合にお
いて、バインダー樹脂と共に用いられるキャリア輸送物
質は一般に電子供与性物質及び電子受容性物質に大別さ
れ、数多くの有機化合物から適宜選釈される。具体的+
、−は特開昭57−67934号公報等に記載の下記化
合物を用いることができる。
T−(1)カルバゾール誘導体 T−(2)ピラシリン誘導体 T−(3)オキサジアゾール誘導体 T−(4) l・リアリールアミン誘導体T−(5’)
スチルベン誘導体 T−(8)ポリアリールアルカン誘導体T−(7)ヒド
ラゾン誘導体 T−(8)イミダゾール誘導体 T−(9) l−リ゛アゾール誘導体 T−(10)フェニレンジアミン誘導体T−(tl)l
・リニトロフルオレノン誘導体T−(12)置換カルコ
ン誘導体 「発明の効果コ 以」−の説明から明らかなように、未発明によれば、支
持体の浸漬前の塗布液設定レベルに多少の変動が生じる
場合でも、支持体の浸漬長さの微調整が可能であるとい
う効果を有し、また支持体の型式変動(例えば長さが変
る。)等によって塗布液面を変動させる必要がある場合
にも容易に対応できる。
本発明は電子写真感光体の塗布に好ましく用いられるが
、他の静電荷を保持しうる記録体等の塗布にも用いるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は支持体を挿入する前の塗布液面を調整する手段
の一例を示す概略断面図、第2図は支持体を塗布液に浸
漬した状態を示す断面図、第3図は支持体浸漬長さを調
整する一手段を示す概略断面図、第4図は第3図の要部
拡大説明図、第5図は支持体浸漬長さを調整する部材の
一例を示す概略斜視図、第6図は本発明に用いられるシ
リンターの他の例を示す概略断面図である。 図中、1はシリンダー、2は支持体、IXは浸漬C′イ
1丸材を各々示す。 特許出願人 小西六写真工業株式会社 代 理 人 弁理士 坂 口 信 昭 (ほか1名)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. シリンダーに塗布液を少量溝たし、該塗布液中に支持体
    を挿入することにより、塗布液の液面」二昇による浸漬
    を行い、次いでこれを塗布する電子写真感光体等の記録
    体の製造方法において、前記シリンダー内の支持体浸漬
    位置の周囲に所望容積を有する浸漬部材を挿入すること
    により、前記支持体を浸漬後の塗布液面を調整すること
    を特徴とする電子写真感光体等の記録体の製造方法。
JP1214684A 1984-01-27 1984-01-27 電子写真感光体等の記録体の製造方法 Pending JPS60158452A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1214684A JPS60158452A (ja) 1984-01-27 1984-01-27 電子写真感光体等の記録体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1214684A JPS60158452A (ja) 1984-01-27 1984-01-27 電子写真感光体等の記録体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60158452A true JPS60158452A (ja) 1985-08-19

Family

ID=11797352

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1214684A Pending JPS60158452A (ja) 1984-01-27 1984-01-27 電子写真感光体等の記録体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60158452A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11161139B2 (en) 2016-08-22 2021-11-02 Mosshydro As Method and system for treating a surface

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11161139B2 (en) 2016-08-22 2021-11-02 Mosshydro As Method and system for treating a surface

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5725667A (en) Dip coating apparatus having a single coating vessel
JPS60170859A (ja) 電子写真感光体およびその製造方法
US5720815A (en) Dip coating apparatus having solution displacement apparatus
JPS60158452A (ja) 電子写真感光体等の記録体の製造方法
US5895529A (en) Chuck apparatus for substrate shaping
US5422144A (en) Substrate coating method
JPS60156065A (ja) 電子写真感光体等の記録体の製造方法
US5616365A (en) Coating method using an inclined surface
JPS60158455A (ja) 電子写真感光体等の記録体の製造方法
US5599646A (en) Higher substrate density dip coating method
JPS60158456A (ja) 電子写真感光体等の記録体の製造方法
JPS6120044A (ja) 感光体ドラムの製造方法
US6576299B1 (en) Coating method
JP2794746B2 (ja) 導電性基体の浸漬塗布装置及び浸漬塗布方法
JPS60150052A (ja) 電子写真感光体等の記録体の製造方法
JPS5973074A (ja) 円筒状感光体の製造装置
JP2001321708A (ja) 浸漬塗工装置及び電子写真用感光体の製造方法
JPS60146240A (ja) 電子写真感光体等の記録体の製造方法
JPH06254459A (ja) 浸漬塗布による電子写真感光体の製造方法
JP3556353B2 (ja) 電子写真感光体の製造方法
JPS63172159A (ja) 電子写真用感光体製造装置
JPS60146241A (ja) 電子写真感光体等の記録体の製造方法
JPH0862868A (ja) 電子写真感光体の製造方法
JPS61205947A (ja) 電子写真感光体等の記録体の製造方法
JP3577812B2 (ja) 浸漬塗布方法