JPS60150219A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS60150219A JPS60150219A JP556884A JP556884A JPS60150219A JP S60150219 A JPS60150219 A JP S60150219A JP 556884 A JP556884 A JP 556884A JP 556884 A JP556884 A JP 556884A JP S60150219 A JPS60150219 A JP S60150219A
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- Japan
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- magnetic
- substrate
- hole
- film
- etching
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- Pending
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
- G11B5/3183—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は薄膜プロセスにより製造した磁気ヘッドに係り
、特に巻線式処理のヘッド構造および製造方法に関する
ものである。
、特に巻線式処理のヘッド構造および製造方法に関する
ものである。
磁気ヘッドを薄膜プロセスを用いて基板」−に平面的に
製造する方法が知られており、第１図はそれにより製造
された磁気ヘッドである。
製造する方法が知られており、第１図はそれにより製造
された磁気ヘッドである。
１は非磁性基板、２はパーマロイ、センダスト等の第１
磁性体、３は同様の材料よりなる第２磁性体、４はＳｉ
ｎ、 、 ＡＪ、 ０３等よりなる非磁性層で、第１磁
性体２と第２磁性体３との磁気ギャップを形成するもの
である。５は巻線穴、６は巻線コイルである。
磁性体、３は同様の材料よりなる第２磁性体、４はＳｉ
ｎ、 、 ＡＪ、 ０３等よりなる非磁性層で、第１磁
性体２と第２磁性体３との磁気ギャップを形成するもの
である。５は巻線穴、６は巻線コイルである。
これらの製造方法の要点を入方向から見た断面図で、第
′２図（ａ）’ −（ｄ）に示す。
′２図（ａ）’ −（ｄ）に示す。
（ａ）は、基板１の上に第１磁性層１を成膜した工程を
示す。（ｂ）はエツチング等の方法で磁気コアの半休を
形成した工程である。（Ｃ）はギャップ材４を形成した
工程である。（ｄ）は第２磁性体あ形成工程である。：
第２磁性体３はラップ工程で、破線７まで削わ落される
。この後巻線に必要な巻線穴をあけ、巻線し、ヘッドが
でき上がる。
示す。（ｂ）はエツチング等の方法で磁気コアの半休を
形成した工程である。（Ｃ）はギャップ材４を形成した
工程である。（ｄ）は第２磁性体あ形成工程である。：
第２磁性体３はラップ工程で、破線７まで削わ落される
。この後巻線に必要な巻線穴をあけ、巻線し、ヘッドが
でき上がる。
巻線穴あｉは、砥粒を流しながら超音波加工して行なう
。
。
しかしながら本方法では、基板および磁性膜の厚さ全部
を穴あけすることになシ、摩耗劣化が大きく又、穴あけ
加工時にギャップ４番破壊する、磁性膜２．６が剥離す
る等の欠点があった。
を穴あけすることになシ、摩耗劣化が大きく又、穴あけ
加工時にギャップ４番破壊する、磁性膜２．６が剥離す
る等の欠点があった。
°：二：’＋７）’：魚。、′、８゜ｔ、＊＊＊ａｗ。
７４、あるギャップ破壊や磁性膜剥離がないヘッド構造
および製造方法を提供することにある。
および製造方法を提供することにある。
本発明の要点は、穴あき基板に基板又は磁性体と選択エ
ツチングできる材料を埋込み、磁性膜等を形成した後、
穴あき部に埋込んだ材料をエツチング除去できるように
したものである。
ツチングできる材料を埋込み、磁性膜等を形成した後、
穴あき部に埋込んだ材料をエツチング除去できるように
したものである。
〔発明の実施例〕。
以下図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第６図、第４図は本発明の実施例である。１０１は穴あ
き基板で８はその貫通孔、８１は貫通孔に埋込んだ穴埋
め材である。穴埋め材８１はエツチング等で除去できる
。性質のもので、磁気ヘッドの構成材と選択エツチング
できるもので、例えばＡＪ、Ｚｎ等、酸類で容易にエツ
チングでき、る金属材料、有機溶剤でとける樹脂類、又
はフィラー入り樹脂等が有効である。９は穴埋め後に成
膜した非磁性膜で、穴埋め材８１を除去後比も貫通孔を
ふさぐ役目をする。
き基板で８はその貫通孔、８１は貫通孔に埋込んだ穴埋
め材である。穴埋め材８１はエツチング等で除去できる
。性質のもので、磁気ヘッドの構成材と選択エツチング
できるもので、例えばＡＪ、Ｚｎ等、酸類で容易にエツ
チングでき、る金属材料、有機溶剤でとける樹脂類、又
はフィラー入り樹脂等が有効である。９は穴埋め後に成
膜した非磁性膜で、穴埋め材８１を除去後比も貫通孔を
ふさぐ役目をする。
第６図、第４図に示す基板を用いたプロセスは第２図（
ａ）〜（ｄ）と同様のプロセスを行ない、その後穴埋め
材８１をエツチング除去するものである。次に成膜部分
を超音波加工で穴あけするが、基板には既に穴がおいて
いるので、超音波出力を小さく、又は送り速度を遅くし
て成膜に与える負荷を小さくしても充分実用できるスル
ホール加工ができる。
ａ）〜（ｄ）と同様のプロセスを行ない、その後穴埋め
材８１をエツチング除去するものである。次に成膜部分
を超音波加工で穴あけするが、基板には既に穴がおいて
いるので、超音波出力を小さく、又は送り速度を遅くし
て成膜に与える負荷を小さくしても充分実用できるスル
ホール加工ができる。
第５図、第６図（ａ）〜（ｅ）は本発明の別の実施例で
ある。穴あき基板１０１に穴埋め材および非磁性材９を
形成後、基板穴の真上に島状パターン１０を形成する。
ある。穴あき基板１０１に穴埋め材および非磁性材９を
形成後、基板穴の真上に島状パターン１０を形成する。
島状パターンは、磁性膜と同等又はそれ以上の膜厚に形
成する。材料は穴埋め材と同様のＡ４’、Ｚｎ等の金属
や樹脂類が使え、特に穴埋め材と同一材料にするとエツ
チング除去が同時にできるので有利である。島状パター
ン１０のパターンニングは、一般に行なわれるフ・ ５
・ オドレジスト等を用いた湿式又は乾式エツチングで行な
う。
成する。材料は穴埋め材と同様のＡ４’、Ｚｎ等の金属
や樹脂類が使え、特に穴埋め材と同一材料にするとエツ
チング除去が同時にできるので有利である。島状パター
ン１０のパターンニングは、一般に行なわれるフ・ ５
・ オドレジスト等を用いた湿式又は乾式エツチングで行な
う。
次に第１磁性体２１を第２図（ｂ）と同様に形成する。
第５図はこの状態を示す図で、以後のプロセスを断面図
で第６図（ａ）〜（Ｃ）に示す。
で第６図（ａ）〜（Ｃ）に示す。
第６図（ａ）は、第２図と同じプロセスで成膜した図で
、２１は第１磁性体、３１は第２準性体、４１はギャッ
プ、材である。第６図（ｂ）は穴埋め材８１および島状
パターン１０をエツチングで除去した状態を示す。８２
．９１はそれぞれエツチングで除去された穴を示す。
、２１は第１磁性体、３１は第２準性体、４１はギャッ
プ、材である。第６図（ｂ）は穴埋め材８１および島状
パターン１０をエツチングで除去した状態を示す。８２
．９１はそれぞれエツチングで除去された穴を示す。
・ 第６図（Ｃ）は、超音波加工で非磁性膜９に穴をあ
け貫通穴８３を形成した状態を示す。
け貫通穴８３を形成した状態を示す。
本方法では、超音波加ニジ非磁性材９を破ぶるだけであ
るので、磁性膜等に負荷をかけることなく貫通孔を形成
できるので膜はがれ等の問題は全く起らない。又超音波
加工の必要もなく、リーマを通すだけでもきれいな貫通
孔を形成できる。 。
るので、磁性膜等に負荷をかけることなく貫通孔を形成
できるので膜はがれ等の問題は全く起らない。又超音波
加工の必要もなく、リーマを通すだけでもきれいな貫通
孔を形成できる。 。
また、本方法は第３図に示した様に非磁性材、 ４ 。
９を形成しないものでもよく、この場合、後工程の機材
加工は全く不要で、穴埋め材８１と島状パターン１０を
エツチング除去するだけで必要な貫通孔を形成できる。
加工は全く不要で、穴埋め材８１と島状パターン１０を
エツチング除去するだけで必要な貫通孔を形成できる。
。
第７図は本発明の別の実施例で、基板の成膜する側と反
対側の穴寸法を大きくし、巻線時に巻線しやすくしたも
のである。
対側の穴寸法を大きくし、巻線時に巻線しやすくしたも
のである。
第８図は本発明の別の実施例で、島状パターン１０で穴
あけする寸法１１を基板の穴寸法６より大きくし、基板
側より巻線する時、巻線しやすい構造としたものである
。、 本発明の実施例では１ヘッド分しか図示しなかっ゛たが
、ウェハ状にに多数の貫通孔を有する基板で行なうと量
産性よく、その効果は大である。
あけする寸法１１を基板の穴寸法６より大きくし、基板
側より巻線する時、巻線しやすい構造としたものである
。、 本発明の実施例では１ヘッド分しか図示しなかっ゛たが
、ウェハ状にに多数の貫通孔を有する基板で行なうと量
産性よく、その効果は大である。
以上述べたように本発明によれば、膜はがれやギャップ
破壊のない磁気ヘッド巻線用貫通孔を形成できる。
破壊のない磁気ヘッド巻線用貫通孔を形成できる。
第１図は巻線型磁気ヘッドの斜視図、第２図はその製造
プロセスを示す断面図、第６図、第４図は本発明の実施
例の基板の断面図、第５図は本発明の別の実施例の斜視
図、第６図はプロセス説明図、第７図、第８図は本発明
の別の実施例の断面図である。 １．１０１・・・・・・基板、 ２．２１・・・・・・第１磁性体、 ３．６１・・・・・・第２磁性体、 ４．４１・・・・・・ギャップ材、 ９・・・・・・非磁性層、 ８１・・・・・・穴埋め材。 ・ ７ ・ 第１閉 才２図 才３図 （ａＪ） 第１頁の続き ０発 明 者 小 野 裕 明 横浜市戸塚区吉究所内 田町２９旙地 株式会社日立製作所家電研−１グ９−
プロセスを示す断面図、第６図、第４図は本発明の実施
例の基板の断面図、第５図は本発明の別の実施例の斜視
図、第６図はプロセス説明図、第７図、第８図は本発明
の別の実施例の断面図である。 １．１０１・・・・・・基板、 ２．２１・・・・・・第１磁性体、 ３．６１・・・・・・第２磁性体、 ４．４１・・・・・・ギャップ材、 ９・・・・・・非磁性層、 ８１・・・・・・穴埋め材。 ・ ７ ・ 第１閉 才２図 才３図 （ａＪ） 第１頁の続き ０発 明 者 小 野 裕 明 横浜市戸塚区吉究所内 田町２９旙地 株式会社日立製作所家電研−１グ９−
Claims (1)
- １、 基板上にギャップ材を狭んで磁性膜を形成し、磁
気コアを形成する磁気ヘッドにおいて、予め貫通孔を有
する基板に穴埋め材で貫通孔をうめた後、非磁性層を一
層形成して、感性膜、ギャップ材等を形成した後、穴埋
め材を除去し、その後貫通孔を形成することを特徴とす
る薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP556884A JPS60150219A (ja) | 1984-01-18 | 1984-01-18 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP556884A JPS60150219A (ja) | 1984-01-18 | 1984-01-18 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60150219A true JPS60150219A (ja) | 1985-08-07 |
Family
ID=11614812
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP556884A Pending JPS60150219A (ja) | 1984-01-18 | 1984-01-18 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60150219A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2605783A1 (fr) * | 1986-10-28 | 1988-04-29 | Thomson Csf | T ete magnetique d'enregistrement/lecture en couches minces et son procede de realisation |
-
1984
- 1984-01-18 JP JP556884A patent/JPS60150219A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2605783A1 (fr) * | 1986-10-28 | 1988-04-29 | Thomson Csf | T ete magnetique d'enregistrement/lecture en couches minces et son procede de realisation |
| JPH01501105A (ja) * | 1986-10-28 | 1989-04-13 | トムソン―セーエスエフ | 記録／再生用の薄膜磁気ヘッドとその製造方法 |
| US4942490A (en) * | 1986-10-28 | 1990-07-17 | Thomson-Csf | Thin layer magnetic read/write head |
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