JPS60147675U - 縦型気相成長装置 - Google Patents

縦型気相成長装置

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Publication number
JPS60147675U
JPS60147675U JP3572084U JP3572084U JPS60147675U JP S60147675 U JPS60147675 U JP S60147675U JP 3572084 U JP3572084 U JP 3572084U JP 3572084 U JP3572084 U JP 3572084U JP S60147675 U JPS60147675 U JP S60147675U
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JP
Japan
Prior art keywords
cover
base plate
vapor phase
phase growth
reaction chamber
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Pending
Application number
JP3572084U
Other languages
English (en)
Inventor
宮崎 美彦
伸夫 柏木
繁 鈴木
Original Assignee
東芝機械株式会社
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Publication date
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Priority to JP3572084U priority Critical patent/JPS60147675U/ja
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来例の断面図、第2図は本考案の一実施例の
断面図である。 11・・・ベースプレート、12・・・ベルジャ、14
・・・半導体基板、15・・・サセプタ、16・・・回
転軸、18・・・ワークコイル、19・・・排気口、2
1・・・ガバー、22・・・噴出口。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ベースプレート上にベルジャを載置して反応室を形成す
    る縦型気相成長装置において、反応室内に位置して半導
    体基板を載置しかつ回転軸に取付けられたサセプタと、
    同サセプタの下面側に配置したワークコイルと、同ワー
    クコイルを前記反応室から隔離すべく前記ベースプレー
    ト上にあ、って前記ワークコイルの上面および周囲をお
    おうカバーと、同カバー内に位置するように前記ベース
    プレートに設けられたガス噴出口と、前記カバー外に位
    置するように前記ベースプレートに設けられ゛た排気口
    とからなり、前記ガス噴出口からカバー内にパージガス
    を噴出し、このパージガスを前記カバーと前記ベースプ
    レートとの間隙から前記反応室内に流出させて前記排気
    口から排出するようにした縦型気相成長装置。
JP3572084U 1984-03-12 1984-03-12 縦型気相成長装置 Pending JPS60147675U (ja)

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JP3572084U JPS60147675U (ja) 1984-03-12 1984-03-12 縦型気相成長装置

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JP3572084U JPS60147675U (ja) 1984-03-12 1984-03-12 縦型気相成長装置

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Publication Number Publication Date
JPS60147675U true JPS60147675U (ja) 1985-10-01

Family

ID=30540255

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JP3572084U Pending JPS60147675U (ja) 1984-03-12 1984-03-12 縦型気相成長装置

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