JPS6013830A - 防炎加工用組成物 - Google Patents
防炎加工用組成物Info
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- JPS6013830A JPS6013830A JP59127718A JP12771884A JPS6013830A JP S6013830 A JPS6013830 A JP S6013830A JP 59127718 A JP59127718 A JP 59127718A JP 12771884 A JP12771884 A JP 12771884A JP S6013830 A JPS6013830 A JP S6013830A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
- C08K5/52—Phosphorus bound to oxygen only
- C08K5/527—Cyclic esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/5398—Phosphorus bound to sulfur
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、良好な光安定性を有する防炎加工ポリエチレ
ン、およびこのような材料の製造方法に関する。
ン、およびこのような材料の製造方法に関する。
従来技術
ポリエチレンを、とシわけ三酸化アンチモンとの組合わ
せのハロゲン化有機化合物を用いて防炎加工することが
できることはよく知られている。
せのハロゲン化有機化合物を用いて防炎加工することが
できることはよく知られている。
このようなハロゲン化化合物は塩素化パラフィンもしく
は臭素化芳香族化合物である。これらの化合物は、以下
の不利益を有する。すなわち、紫外線安定剤の添加によ
り減じた光安定性を補償するような程度まで光に対する
安定性が減じられる。
は臭素化芳香族化合物である。これらの化合物は、以下
の不利益を有する。すなわち、紫外線安定剤の添加によ
り減じた光安定性を補償するような程度まで光に対する
安定性が減じられる。
発明の構成
下記の組成物によって、ポリエチレンに良好な光安定性
および良好な防炎特性の双方が付与されるという驚くべ
きことが見い出された。すなわち、この組成物は、 以下余白 畠）下ｒ式■ 〔上式中。
および良好な防炎特性の双方が付与されるという驚くべ
きことが見い出された。すなわち、この組成物は、 以下余白 畠）下ｒ式■ 〔上式中。
Ｘは、ＳもしくはＯであシ：
各Ｒ１は、独立して、水素、Ｃ１〜４アルキル、−ＣＨ
，−Ｂｒ、 −ＣＨ２−ＣＬ、 −ＣＨ２−０−（Ｃ，
〜４アルキル）もしくはフェニルであシ； 各Ｒ２は、独立して、水素、Ｃ１〜４アルキル、−ＣＨ
２−Ｃ１、−Ｃ１２−Ｂｒもしくは一〇Ｈ２−０−（Ｃ
１〜。
，−Ｂｒ、 −ＣＨ２−ＣＬ、 −ＣＨ２−０−（Ｃ，
〜４アルキル）もしくはフェニルであシ； 各Ｒ２は、独立して、水素、Ｃ１〜４アルキル、−ＣＨ
２−Ｃ１、−Ｃ１２−Ｂｒもしくは一〇Ｈ２−０−（Ｃ
１〜。
アルキル）でＴｏシ；
または、同一環上のＲ７およびＲ２は、それらが結合し
ている炭素原子と一緒になって、未置換のシクロヘキシ
リデン、３．４−ジグロモシクロヘキシリデンもしくは
未置換のシクロヘキセニリデンを形成し； 各８３は、独立して、水素もしくは０１〜４アルキルで
あシ：そして 各Ｒ４は、独立して、水素もしくはメチルでらる：但し
： １）置換基Ｒ１〜Ｒ４の少なくとも１つは、各環系にお
いて水素以外のものであり；そしてｉｉ） Ｒ１および
Ｒ２が−ＣＨ２−Ｃ１もしくは−ＣｋＬ２− Ｂｒであ
るか、またはＲ５およびＲ２が環式基である場合には、
Ｒ３およびＲ４は水素である〕の化合物；および ｂ）紫外線吸収剤 とを含んでなるものである。
ている炭素原子と一緒になって、未置換のシクロヘキシ
リデン、３．４−ジグロモシクロヘキシリデンもしくは
未置換のシクロヘキセニリデンを形成し； 各８３は、独立して、水素もしくは０１〜４アルキルで
あシ：そして 各Ｒ４は、独立して、水素もしくはメチルでらる：但し
： １）置換基Ｒ１〜Ｒ４の少なくとも１つは、各環系にお
いて水素以外のものであり；そしてｉｉ） Ｒ１および
Ｒ２が−ＣＨ２−Ｃ１もしくは−ＣｋＬ２− Ｂｒであ
るか、またはＲ５およびＲ２が環式基である場合には、
Ｒ３およびＲ４は水素である〕の化合物；および ｂ）紫外線吸収剤 とを含んでなるものである。
好ましくは、成分ａ）対ｂ）の比は、３：５〜１２５０
： １であり、さらに好ましくは５：２〜１０００：
１であシ、最も好ましくは７：１〜１５０：１である。
： １であり、さらに好ましくは５：２〜１０００：
１であシ、最も好ましくは７：１〜１５０：１である。
これらの比は重量比である。
好ましくは、本発明に従って、
ａ）（４リエチレン材料の）３〜２５重量％の前記規定
の式■の化合物；および ｂ）（ポリエチレン材料の）０．０２〜５重量−の紫外
線吸収剤 を含有す°るポリエチレン材料を提供する。
の式■の化合物；および ｂ）（ポリエチレン材料の）０．０２〜５重量−の紫外
線吸収剤 を含有す°るポリエチレン材料を提供する。
成分ａ）の好ましい量は、（ポリエチレン材料）の５〜
２０重量％であシ、さらに好ましくは７〜１５重量％で
ある。成分ｂ）の好ましい量は、（ポリエチレン材料）
の０．０２〜２重量％であシ、さらに好ましくは０．１
〜１重量％である。
２０重量％であシ、さらに好ましくは７〜１５重量％で
ある。成分ｂ）の好ましい量は、（ポリエチレン材料）
の０．０２〜２重量％であシ、さらに好ましくは０．１
〜１重量％である。
特に断らない限りは、ある基が式中に１個以上ある場合
には、それらの基は互いに他と独立している。
には、それらの基は互いに他と独立している。
好ましくは、任駕の０１〜４アルキルはメチル、エチル
もしくはプロピルであシ、さらに好ましくはメチルであ
る。
もしくはプロピルであシ、さらに好ましくはメチルであ
る。
好ましくは、Ｒ５は水素もしくはメチルであり、さらに
好ましくは水素である。
好ましくは水素である。
好ましくは、Ｒ４は水素である・
好ましくは、Ｘは硫黄である。
式Ｉの好ましい化合物は、下記式１ｍ
〔上式中、
Ｘは、前記規定のものであシ；
Ｒ４Ｉは、−ＣＨ３，−Ｃ２Ｈ５、’−Ｃ３Ｈ，、−Ｃ
Ｈ２−Ｂｒ 。
Ｈ２−Ｂｒ 。
−Ｃ１２−Ｃｔ もしくは未置換のフェニルであシ；Ｒ
２′は、−ＣＨ３＊ −Ｃ２Ｈ５＋ −Ｃ５Ｈ７、−Ｃ
Ｈ２−Ｂｒもしくは−ＣＨ２Ｃ１である〕の化合物であ
る。
２′は、−ＣＨ３＊ −Ｃ２Ｈ５＋ −Ｃ５Ｈ７、−Ｃ
Ｈ２−Ｂｒもしくは−ＣＨ２Ｃ１である〕の化合物であ
る。
式ｌおよびＩａの化合物は、公知であるか、または公知
の化合物から公知の方法によって製造され得る。
の化合物から公知の方法によって製造され得る。
好ましい紫外線吸収剤は、２（２７−ヒドロキシフェニ
ル）ペンストリアゾール系、２−オキシベンゾフェノン
系、ニッケル錯体系（例えば、ニッケルピラゾロン）、
立体障害アミン系もしくはシーウ酸ジアミド系のもので
ある。好ましい光安定剤は、ドイツ公開公報第２６０６
３５８号中にも記載されている。さらに好ましい光安定
剤はＮ ＧｉｃｈｔｓｒおよびＭｉｕｌｌｅｒ による
書籍ｒ Ｋｕｎｓｔｓｏｆｆ−Ａｄｄｉｔｉｖｅ Ｊの
１０５〜１３９頁に記載されているＯ 紫外線吸収剤としては、２，２．６．６−チトラアルキ
ルビペリジン系、２−オキシベンゾフェノン系およびニ
ッケル錯体化合物の吸収剤が好ましく、とりわけ２．２
，６．６−チトラアルキルピペリジン化合物の吸収剤が
好ましい。
ル）ペンストリアゾール系、２−オキシベンゾフェノン
系、ニッケル錯体系（例えば、ニッケルピラゾロン）、
立体障害アミン系もしくはシーウ酸ジアミド系のもので
ある。好ましい光安定剤は、ドイツ公開公報第２６０６
３５８号中にも記載されている。さらに好ましい光安定
剤はＮ ＧｉｃｈｔｓｒおよびＭｉｕｌｌｅｒ による
書籍ｒ Ｋｕｎｓｔｓｏｆｆ−Ａｄｄｉｔｉｖｅ Ｊの
１０５〜１３９頁に記載されているＯ 紫外線吸収剤としては、２，２．６．６−チトラアルキ
ルビペリジン系、２−オキシベンゾフェノン系およびニ
ッケル錯体化合物の吸収剤が好ましく、とりわけ２．２
，６．６−チトラアルキルピペリジン化合物の吸収剤が
好ましい。
本発明に係るポリエチレン材料中の成分ａ）の量は、好
ましくは、（ポリエチレン基材の）５〜２０重量％であ
シ、さらに好ましくは７〜１５重量％である。
ましくは、（ポリエチレン基材の）５〜２０重量％であ
シ、さらに好ましくは７〜１５重量％である。
ポリマー基材中め成分ｂ）の量４、好ましくは、（ポリ
エチレン基材）の０．１〜１重量−である。
エチレン基材）の０．１〜１重量−である。
好都合には、成分ａ）の化合物を、２０〜９０饅、さら
に好ましくは３０〜８０チの成分ａ）および８０〜１０
チ、さらに好ましくは７０〜２０チの担体、好ましくは
ポリエチレンを含んでなるマスターパッチとして構成す
ることができる。同様にして、成分ｂ）の化合物を、５
〜３０チの成分ｂ）および７０〜９５％の担体、好まし
くはポリエチレンを含有するマスターバッチとして構成
することができる。
に好ましくは３０〜８０チの成分ａ）および８０〜１０
チ、さらに好ましくは７０〜２０チの担体、好ましくは
ポリエチレンを含んでなるマスターパッチとして構成す
ることができる。同様にして、成分ｂ）の化合物を、５
〜３０チの成分ｂ）および７０〜９５％の担体、好まし
くはポリエチレンを含有するマスターバッチとして構成
することができる。
確かに、２種もしくはそれ以上の弐Ｉの化合物の混合物
および２種もしくはそれ以上の光安定剤の混合物を、本
発明に係る組成物中Ｋ、本発明に係るポリエチレン基材
中におよびそれらの製造方法に用いることができる。
および２種もしくはそれ以上の光安定剤の混合物を、本
発明に係る組成物中Ｋ、本発明に係るポリエチレン基材
中におよびそれらの製造方法に用いることができる。
式Ｔの化合物を公知の方法によってポリマー材料中に配
合することができる。例えば、式Ｉの化合物をポリエチ
レン粉末と混合してこの混合物を箔、粒質物もしくはシ
ートにして押出すことができる・または式Ｉの化合物を
発泡法によってポリマー材料中に配合することができる
。
合することができる。例えば、式Ｉの化合物をポリエチ
レン粉末と混合してこの混合物を箔、粒質物もしくはシ
ートにして押出すことができる・または式Ｉの化合物を
発泡法によってポリマー材料中に配合することができる
。
好ましくは、本発明に係るポリエチレン材料を薄板に成
形する。好ましくは、本発明に係るポリエチレンシート
材料の密度は、０．９１２〜０．９３０９／ｃ、３であ
る。好ましくは、ポリマー材料は、２５〜５０％の結晶
度を有している。
形する。好ましくは、本発明に係るポリエチレンシート
材料の密度は、０．９１２〜０．９３０９／ｃ、３であ
る。好ましくは、ポリマー材料は、２５〜５０％の結晶
度を有している。
このようなポリエチレン材料は、Ｍｏｒｔｉｍｅｒおよ
びＥｈｒｌｉｃｈ によって、Ａｄｖ、Ｐｏｌｙｍ、Ｓ
ｃ１．７（１９７０年）の３８６〜４４８頁、Ｉ”Ｆｕ
ｎｄａｍｅｎｔａｌｓｏｆ ｔｈｅ ｆｒｅ＠ ｒａｄ
ｉｃａｌ ｐｏｌｙｍｅｒｉｇａｔｌｏｎ ｏｆｓｔｈ
ｙｉｓｎｓＪと題されたものの中に記載されている。
びＥｈｒｌｉｃｈ によって、Ａｄｖ、Ｐｏｌｙｍ、Ｓ
ｃ１．７（１９７０年）の３８６〜４４８頁、Ｉ”Ｆｕ
ｎｄａｍｅｎｔａｌｓｏｆ ｔｈｅ ｆｒｅ＠ ｒａｄ
ｉｃａｌ ｐｏｌｙｍｅｒｉｇａｔｌｏｎ ｏｆｓｔｈ
ｙｉｓｎｓＪと題されたものの中に記載されている。
さらに、本発明に有用なポリエチレンの例は、Ｅｎｃｙ
ｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ ５ｃｉｓｎ
ｃｅ ａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｖｏｌ、６ （Ｉ
ｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ社１９６７年）および米国特許
第２，１５３，５５３号に記載されている。
ｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ ５ｃｉｓｎ
ｃｅ ａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｖｏｌ、６ （Ｉ
ｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ社１９６７年）および米国特許
第２，１５３，５５３号に記載されている。
実施例
本発明を下記の実施例によってさらに説明する。
特に断らない限シは、実施例中、すべての部およびチは
重量部および重量％であり、すべての温度は℃である。
重量部および重量％であり、すべての温度は℃である。
実施例１
７０部の市販型ポリエチレン粉末（メルトフローインデ
ックス〔１９０°／２．１６Ｋｐ：］＝２０ ）ｔ−１
３０部の下記の第１表中に示した化合物９と混合し、次
いで１２０°〜１８５°の温度において連続ニーグー中
で処理して粒状型のマスクーノ々ツチを生成した（この
マスターバッチをマスターノぐツテムと呼ぶ）。
ックス〔１９０°／２．１６Ｋｐ：］＝２０ ）ｔ−１
３０部の下記の第１表中に示した化合物９と混合し、次
いで１２０°〜１８５°の温度において連続ニーグー中
で処理して粒状型のマスクーノ々ツチを生成した（この
マスターバッチをマスターノぐツテムと呼ぶ）。
５部の１−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン
型の紫外線吸収剤および５部の下記式■のニッケル錯体 ＮＨ２Ｃ４Ｈ２ ■ を９０部の市販型ポリエチレン粉末（−ＭＦＩ〔１９０
°／２．１６Ｋｐ ）＝２０ ）と混合し、次いで１２
０〜１５００において押出機中で処理して粒状型のマス
ターバッチを生成しｆＣ（このマスターノぐッチをマス
ターバッチＢと呼ぶ）。
型の紫外線吸収剤および５部の下記式■のニッケル錯体 ＮＨ２Ｃ４Ｈ２ ■ を９０部の市販型ポリエチレン粉末（−ＭＦＩ〔１９０
°／２．１６Ｋｐ ）＝２０ ）と混合し、次いで１２
０〜１５００において押出機中で処理して粒状型のマス
ターバッチを生成しｆＣ（このマスターノぐッチをマス
ターバッチＢと呼ぶ）。
３４部のマスターバッチＡを、６０部の市販部ポリエチ
レン粒質物（ＭＦＩ（１９０°／２．１６に１）］＝１
．４）および６部のマスクーノ々ツチＢと混合した。こ
の混合物を、１５０〜１７５℃の温度でブローヘッドを
有する押出機を通して処理して約１５０μ厚のブローフ
ィルムを生成した。得られたフィルムは、良好な防炎特
性を示しかつ良好な光安定性を有していた。
レン粒質物（ＭＦＩ（１９０°／２．１６に１）］＝１
．４）および６部のマスクーノ々ツチＢと混合した。こ
の混合物を、１５０〜１７５℃の温度でブローヘッドを
有する押出機を通して処理して約１５０μ厚のブローフ
ィルムを生成した。得られたフィルムは、良好な防炎特
性を示しかつ良好な光安定性を有していた。
実施例２
７０部の市販型ポリエチレン粉末（ＭＦＩ〔１９０°／
２，１６ Ｋｐ １士２０）を、３０部の下記の第１表
中に示し良化合物１と混合し、この混合した素材を１５
０〜１２０°の温度において連続ニーダ−で粒状型のマ
スターバッチに処理した（このマスターバッチをマスタ
ーバッチＣと呼ぶ）０１７部のマスタニパッチＣを、１
７部のマスター ハッｆ−Ａ、６部０マスｐ ｔ３ツチ
Ｂおよび６０部の市販部ポリエチレン粒質物（ＭＦＩ（
１９０γ２，１９Ｋｐ）＝１．４）と混合し、この混合
物を、実施例１に記載したと同様な方法でフィルムに加
工した。
２，１６ Ｋｐ １士２０）を、３０部の下記の第１表
中に示し良化合物１と混合し、この混合した素材を１５
０〜１２０°の温度において連続ニーダ−で粒状型のマ
スターバッチに処理した（このマスターバッチをマスタ
ーバッチＣと呼ぶ）０１７部のマスタニパッチＣを、１
７部のマスター ハッｆ−Ａ、６部０マスｐ ｔ３ツチ
Ｂおよび６０部の市販部ポリエチレン粒質物（ＭＦＩ（
１９０γ２，１９Ｋｐ）＝１．４）と混合し、この混合
物を、実施例１に記載したと同様な方法でフィルムに加
工した。
化合物９もしくは１を各々、下記の第１表中に記載の化
合物１〜１９の任意の他の化合物に置き換えることによ
って、前記実施例１および２と同様な結果を得ることが
できた・ 実施例３ ９０部の市販ポリエチレン粉末（ＭＦ Ｉ （１９０γ
２１６Ｋｐｌ＝１．４）を１０部の第１表の化合物９と
混合し、０．４部の分子量）２０００の下記式の立体障
害アミン（Ｔｉｎｕｖｉｎ ６２２ ）を−緒に混合し
、そしてこの混合物を１５０〜１７５℃の温度において
ブローヘッドを有する押出様を通して処理して約１５０
μｍ厚のブローフィルムを形成した。得られた防炎加工
ポリエチレンは、極めて良好な耐光堅牢度を有していた
。
合物１〜１９の任意の他の化合物に置き換えることによ
って、前記実施例１および２と同様な結果を得ることが
できた・ 実施例３ ９０部の市販ポリエチレン粉末（ＭＦ Ｉ （１９０γ
２１６Ｋｐｌ＝１．４）を１０部の第１表の化合物９と
混合し、０．４部の分子量）２０００の下記式の立体障
害アミン（Ｔｉｎｕｖｉｎ ６２２ ）を−緒に混合し
、そしてこの混合物を１５０〜１７５℃の温度において
ブローヘッドを有する押出様を通して処理して約１５０
μｍ厚のブローフィルムを形成した。得られた防炎加工
ポリエチレンは、極めて良好な耐光堅牢度を有していた
。
実施例４〜２１
実施例１のポリエチレン材料を、第１表の化合物９の代
わりに化合物１〜８および１０〜１８の任意の１種を用
いて実施例１の方法に従って処理するととができた。
わりに化合物１〜８および１０〜１８の任意の１種を用
いて実施例１の方法に従って処理するととができた。
以下余白
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ａ）下記式■ 〔上式中、 Ｘは、Ｓもしくは０であシ； 各Ｒ１は、独立して、水素、Ｃ１〜４アルキル、−ＣＨ
２−Ｂｒｌ−ＣＨ２−ＣＬ、 −ＣＨ２−０−（Ｃ４〜
４アルキル）もしくはフェニルであシ： 各８２は、独立して、水素、Ｃ１〜４アルキル、−ＣＨ
２−ＣＬ、 −ＣＨ２−Ｂｒもしくは−ＣＨ２−０−（
０１〜４アルキル）であシ； または、同一環上のＲ１およびＲ２は、それらが結合し
ている炭素原子と一緒になって、未置換のシクロヘキシ
リデン、３．４−ジブロモシクロへキシリデンもしくは
未置換のシクロヘキセニリデンを形成し； 各Ｒ３は、独立して、水素もしくはＣ１〜４アルキルで
あり；そして 各Ｒ４は、独立して１、水素もしくはメチルである；但
し： １）置換基Ｒ４〜Ｒ４の少なくとも１つは、各環系にお
いて水素以外のものでアシ；そしてｉｉ） Ｒ，および
Ｒ２が−ＣＨ２−ＣＬもしくは一〇Ｈ２−Ｂ ｒである
か、またはＲ１およびＲ２が環式基である場合には、Ｒ
５およびＲ４は水素である〕の化合物；および ｂ） 紫外線吸収剤 とを含んでなる組成物。 ２、前記成分ｂ）が、２（２′−ヒドロキシフェニル）
ベンズトリアゾール系、２−オキシペンゾフェノン系、
ニッケル錯体系、立体障害アミン系もしくはシュウ酸ジ
アミド系から選ばれる、特許請求の範囲第１項記載の組
成物。 ３、前記成分ａ）対ｂ）の比が、３：５〜１２５０：１
である、特許請求の範囲第１項または第２項のいずれか
に記載の組成物０ ４、前記成分ａ）対ｂ）の比が、７：１〜１５０：１で
ある、特許請求の範囲第３項記載の組成物。 ５、前記式Ｉの化合物が、下記式Ｉｎ 〔上式中、 Ｘは、特許請求の範囲第１項に規定されているものであ
シ； Ｒ１′は、−ＣＨ，、−Ｃ２Ｈ５，−Ｃ３Ｈ７，−ＣＨ
２−Ｂｒ。 −ＣＨ２−ＣＬ もしくは未置換のフェニルであ乞Ｒ２
＋は、−ＣＨ３，−Ｃ２Ｈ５，−Ｃ３Ｈ，、−ＣＨ２−
Ｂｒもしくは−ＣＨ２Ｃｔである〕の化合物である、特
許請求の範囲第１項から第４項までのいずれかに記載の
組成物。 ６」）（ポリエチレン材料の）３〜２５重量俤の下記式
Ｉ 〔上式中。 Ｘは、Ｓもしくは０であシ； 各Ｒ４は、独立して、水素、Ｃ１〜４ アルキル、−Ｃ
Ｈ２−Ｂｒ 、 −ＣＨ２−ＣＬ、 −ＣＨ２−０−（
Ｃ１〜４アルキル）もしくはフェニルであシ； 各Ｒ２は１独立して＼水素１Ｃ１−＋４アルキル、−Ｃ
１１２−Ｃ１，−ＣＨ２−Ｂｒもしくは−ｃｕ２−ｏ−
（ｃ、〜４アルキル）であシ； または、同一環上のＲ４およびＲ２は、それらが結合し
ている炭素原子と一緒になって、未置換のシクロヘキシ
リデン、３．４−ジブロモシクロへキシリデンもしくは
未置換のシクロヘキセニリデンを形成し； 各Ｒ３は、独立して、水素もしくはＣ１〜４アルキルで
あシ；そして 各Ｒ４は、独立して、水素もしくはメチルである；但し
： １）置換基Ｒ１〜Ｒ４の少なくとも１つは、各環系にお
いて水素以外のものであり；そしてｉｉ） Ｒ１および
Ｒ２が−ｃＨ２−ｃｔもしくは−ＣＨ２−Ｂ ｒである
か、またはＲ１およびＲ２が環式基である場合には、Ｒ
５およびＲ４は水素である〕の化合物；および ｂ）（ポリエチレン材料の）０．０２〜５重量％の紫外
線吸収剤 とを含有するポリエチレン材料＠ −７，前記成分ｂ）が、２（２′−ヒドロキシ７エ二ル
）ベンズトリアゾール系、２−オキシベンゾフェノン系
、ニッケル錯体系、立体障害アミン系もしくはシュウ酸
ジアミド系から選ばれる、特許請求の範囲第′２項記載
のポリエチレン材料。 ８、前記成分ａ）の量が、７〜１５チであり、かつ成分
ｂ）の量が０．１〜１％である、特許請求の範囲第６項
または第７項のいずれかに記載のポリエチレン材料。 ９、前記式■の化合物が、下記式１ａ 〔上式中、 Ｘは、特許請求の範囲第６項に規定されているものであ
シ； ｎ 、／は、−ＣＨ，、−Ｃ２Ｈ５１−ＣＢＨ７ｅ −
ＣＨ２−Ｂｒ ｔ−０Ｍ２−Ｃｔもしくは未置換のフェ
ニルであシ；Ｒ２′は、−ＣＨ３，−Ｃ２Ｈ５ｅ −Ｃ
ＢＨ７＊ −ＣＨ２−Ｂｒもしくは−ＣＨ２Ｃｌである
〕の化合物である、特許請求の範囲第６項から第一８項
までのいずれかに記載のポリエチレン材料。 １０、ａ）下記式Ｉ 〔上式中。 Ｘは、ＳもしくはＯであシ； 各Ｒ４は、独立して、水素、０１〜４アルキル、−ＣＨ
２−Ｂ ｒ −、−ＣＨ２−ＣＡ −、−ＣＨ２−０−
（Ｃ１〜４７ ルキル）もしくはフェニルであり： 各Ｒ２は、独立して、水素、Ｃ４〜４アルキル、−ＣＨ
２−Ｃ６，−ＣＨ２−Ｂｒもしくは−ＣＨ２−０−（Ｃ
１〜４アルキル）であり； または、同一環上のＲ１およびＲ２は、それらが結合し
ている炭素原子と一緒になって、未置換のシクロヘキシ
リデン、３，４−ジブロモシクロへキシリデンもしくは
未置換のシクロヘキセニリデンを形成し； 各Ｒ３は、独立して、水素もしくはＣ１〜４アルキルで
あシ；そして 各Ｒ４は、独立して、水素もしくはメチルである；但し
： ｉ）置換基Ｒ１〜Ｒ４の少なくとも１つは、各環系にお
いて水素以外のものであシ；そしてｉｉ） Ｒ１および
Ｒ２が−ＣＨ２−Ｃ１もしくは一〇Ｈ２−Ｂ ｒである
か、またはＲ１およびＲ２が環式基である場合には、Ｒ
３およびＲ４は水素である〕の化合物；および ｂ）紫外線吸収剤 とを含んでなゐ組成物を含有するポリエチレンフィルム
。 以下余白 １１、 ａ ）下記式Ｉ 〔上式中。 Ｘは、Ｓもしくは０であシ； 各Ｒ１は、独立して、水素、ｃ、〜４アルキル、−ＣＨ
２−Ｂｒ 、 −ＣＨ２−ＣＬ ％ −ＣＨ２−０−（
Ｃ１〜４−７／Ｌ４ル）もしくはフェニルであり； 各Ｒ２は、独立して、水素、Ｃ１〜４アルキル、−ＣＨ
２−ＣＬ、−ＣＨ２−Ｂｒもしくは一〇Ｈ２−０−（Ｃ
４〜４フルキル）であり； まだは、同一環上のＲ４およびＲ２は、それらが結合し
ている炭素原子と一緒に表って、未置換のシクロヘキシ
リデン、３．４−ジブロモシクロへキシリデンもしく−
は未置換のシクロヘキセニリデンを形成し； 各Ｒ３は、独立して、水素もしくは０１〜４アルキルで
あシ；そして 各Ｒ４は、独立して、水素もしくはメチルである；但し
： １）置換基Ｒ１〜Ｒ４の少なくとも１つは、各環系にお
いて水素以外のものであシ；そしてｉｉ） Ｒ４および
Ｒ２が−ＣＨ２−ＣＬもしくは−ＯＨ２−Ｂ ｒである
か、まだはＲ１およびＲ２が環式基である場合には、Ｒ
３およびＲ４は水素である〕の化合物；および ｂ）紫外線吸収剤 とを含んでなる組成物を材料に添加することを含んでな
る、ポリエチレン材料の安定化方法。 １２、下記式Ｉ 〔上式中。 Ｘは、Ｓもしくは０であシ； 各Ｒ１は、独立して、水素、Ｃ１〜４アルキル、−ＣＨ
２−Ｂｒ 、 −ＣＨ２−ＣＬ ’ｔ −ＣＨ２−０−
（Ｃ，〜４フルキル）もしくはフェニルであシ； 各Ｒ２け、独立して、水素、０１〜４アルキル、−ＣＨ
２−Ｃ１，−ＣＨ２−Ｂｒもしくは−ＣＨ，、−０−（
Ｃ４〜４フルキル）であシ； または、同一環上のＲ１およびＲ２は、それらが結合し
ている炭素原子と一緒べなって、未置換のシクロヘキシ
リデン、３．４−ジブロモシクロへキシリデンもしくは
未置換のシクロヘキセニｌＪｆンを形成し； 各Ｒ３は、独立して、水素もしくは０１〜４アルキルで
あυ；そして 各Ｒ４は、独立して、水素もしくはメチルである；但し
： ｉ）置換基Ｒ１〜Ｒ４の少なくとも１つは、各環系にお
いて水素以外のものであシ：そしてｒｒ＞ Ｒ，オｘヒ
Ｒ２ｉニーｃＨ２−ｃｔ モしくは−ＣＨ２−Ｂ ｒで
あるか、またはＲ１およびＲ２が環式基である場合には
、Ｒ３およびＲ４は水素である〕の成分２０〜９０％お
よび担体１ｏ〜８０％のマスターパッチ゛を、紫外線吸
収剤５〜３０％および才氏Ｉイｉ−７ｏ〜・ダ５汐のマ
スターパッチと混合することを含んでなる、ポリエチレ
ン材料の安定化方法。 以下余白
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE33229899 | 1983-06-25 | ||
| DE3322989 | 1983-06-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6013830A true JPS6013830A (ja) | 1985-01-24 |
Family
ID=6202434
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59127718A Pending JPS6013830A (ja) | 1983-06-25 | 1984-06-22 | 防炎加工用組成物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6013830A (ja) |
| CH (1) | CH660881A5 (ja) |
| FR (1) | FR2549074B1 (ja) |
| GB (1) | GB2142338B (ja) |
| IT (1) | IT1177804B (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH667275A5 (de) * | 1985-03-22 | 1988-09-30 | Sandoz Ag | Flammgehemmte methylmethacrylatpolymer- und -copolymermassen. |
| DE3821731A1 (de) * | 1987-07-10 | 1989-01-19 | Sandoz Ag | Verarbeitungsstabilisatoren fuer hochmolekulare stoffe |
| US8466096B2 (en) | 2007-04-26 | 2013-06-18 | Afton Chemical Corporation | 1,3,2-dioxaphosphorinane, 2-sulfide derivatives for use as anti-wear additives in lubricant compositions |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH581163A5 (ja) * | 1974-07-30 | 1976-10-29 | Sandoz Ag |
-
1984
- 1984-06-18 FR FR8409629A patent/FR2549074B1/fr not_active Expired
- 1984-06-19 IT IT48416/84A patent/IT1177804B/it active
- 1984-06-22 GB GB08415955A patent/GB2142338B/en not_active Expired
- 1984-06-22 JP JP59127718A patent/JPS6013830A/ja active Pending
- 1984-06-22 CH CH3031/84A patent/CH660881A5/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2142338B (en) | 1986-09-17 |
| FR2549074A1 (fr) | 1985-01-18 |
| GB8415955D0 (en) | 1984-07-25 |
| GB2142338A (en) | 1985-01-16 |
| CH660881A5 (de) | 1987-05-29 |
| IT1177804B (it) | 1987-08-26 |
| FR2549074B1 (fr) | 1987-04-30 |
| IT8448416A0 (it) | 1984-06-19 |
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