JPS60135567A - バツチ式スパツタ装置の基板マスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、バッチ式スパッタ装置における基板マスクの
改良に関する。

〔従来技術〕

従来、スパッタ装置に於すて、所定の特性の膜を得るに
は、そのガス圧、電極間距離、印加電圧等、あらゆる条
件下での実験を必要とし、特にバ１− ツチ式の装置では、その都度にチェンバーを開けて真空
排気をしなければならず、時間的に極めてロスが大きい
という問題点があった。

〔目的〕

本考案は、このような問題点を解決するものでその目的
とするところは、スパッタ時の条件の異なる複数種の薄
膜を、−回の真空排気で得られるところにある。

〔概要〕

本発明の基板マスクは、回転可能な円形基板ホルダーを
有するバッチ式スパッタ装置にお込て、基板ホルダーに
保持された基板から１〜５．離れた位置に、一部に扇形
の窓を設けた基板マスクを配設し、基板ホルダーの回転
移動により１回の真空排気で連続して任意の基板をマス
クできるようにしたものである。

〔実施例〕

以下、本発明につｂて、実施例に基づき詳細に説明する
。第１図に、スパッタ装置の概要を示す。

１がチェンバー、２がターゲット、８が基板ホル２− ダ−５４が基板マスク支え、５が基板マスクで茎５る。

第２図は基板ホルダー３に基板が装着されたところを示
すもので、８αが基板である。第８し１は基板マスク５
の斜視図で、５αの部分に扇形の窓が開いている。

１ず、被数個の基板を基板ホルダーに装着し、次に基板
マスクを基板よう１〜５ｍＪ＋離れた位置になるように
基板マスク支えに取付ける。この時基板と基板マスクと
の間隔は狭いほど他の基板への影響を少なくできて効果
的である。

基板マスクを取付けた状態をターゲット側よりみると、
第２図に示すように基板は扇形の窓からは１枚しか見え
ず、他の８枚は基板マスクの下になりマスクされている
と同様な状態となっている。

この状態においてスパッタを行なうと、薄膜は１枚の基
板上のみに形成されて、他の基板には形成されない。そ
こで、スパッタ終了後に、基板ボルダ−を９０°回転さ
せることにより、さきほど海月１夕を形成された基板は
ターゲット側からみて、基板マスクの下の影響を受けな
い位置に入り２他の８一 基板が扇形の窓の位置に入ることとなり、この状態で、
条件を変えてスパッタする。

このような状態を繰り返すことにより合計４種類の異な
る条件で薄膜形成された基板を得ることができる。

尚、本実施例では、基板マスクの扇状の窓の開口角を９
０°としたが、必要に応じて開口角の違ったものを用意
するとより効果的である。

〔効果〕

以上述べたように、本発明による基板と基板マスクとの
間隔を保ち、マスクの一部を扇形状に形成した基板マス
クを使用することによυ、１回の真空排気で連続して任
意の基板をマスクすることができ、複数種の薄膜が得ら
れるために、従来にくらべ時間的ロスを大巾に改善でき
るという大きな効果をもたらすことができます。

また、スパッタデポジションだけでなく、スパッタエッ
チ時にも使用することも可能である。

−４、

【図面の簡単な説明】

第１　図ハ、本発明のスパッタ装置内部における配置図
。第２図は、基板が装置された状態の基板ホルダーを示
す平面図。第８図は本発明の斜視図である。 １１・チェンバー ２・・・ターゲット ８・・・基板ホルダー ８ａ・・基板 ４・・・基板マスク支え ５・・・基板マスク ５　ｃＬ＊　ｅ窓 以　上 出願人　株式会社諏訪精工舎 代理人　弁理士最　上　務 ５− 才１回

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 回転可能な円形基板ホルダーを有するバッチ式スパッタ
   装置において、前記基板ホルダーに装着された基板から
   １〜５ｕ陥れた位置に、基板マスク支えに係止された基
   板マスクを配設すると共に、該基板マスクの一部に扇形
   状の窓を設けたことを特徴とするバッチ式スパッタ装置
   の基板マスク。