JPS6013083A - アンモニヤ性エッチング液の再生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明はアンモニア性エツチング液の再生方法に関し
、エツチング液中に含まれるエツチング剤を再酸化する
ために酸素が導入され、また、蝕刻された金属を回収す
るためエツチング液の少なくとも一部が電気分解槽に流
され、そして、カソード（陰極）に金属が分離析出され
、アノード（陽極）に酸素を発生させるものである。

アルカリ性エツチング剤は、金属性の目的物、特にいわ
ゆるプリント回路板として知られる回路基板のエツチン
グに用いられる。蝕刻される回路基板が鉛や亜鉛あるい
はニッケルのように、酸性のエツチング剤に不安定な金
属部分を有する場合は例外なく用いられている。金属を
エツチング後のアルカリ性エツチング液の再酸化は酸素
あるいは空気の存在のもとにアンモニアガスまたは塩化
アンモニウムを補給して行なわれている。

〔従来技術〕

西独特許公開第５０５１５６７号公報には次のことが開
示されている。すなわち、エツチンダ液には触媒粒子を
懸濁すべきであシ、これはエツチング自体はもちろんエ
ツチング液の再酸化を促進するものであること、および
、エツチングの結果、化学的な酸化物が蓄積しこれは毒
性の残渣となっていくことが周知である。よく知られた
方法では蝕刻された金属は電気分解槽で分離析出される
。この場合硫酸アンモニウムを含むエツチング液の一部
が電気分解槽に流れ、カソードに蝕刻された金属が分離
析出され、アノードに酸素が発生する。

触媒粒子を含んだエツチング液を再酸化のために空気中
に噴霧する方法もよくしられている。

これはエツチング槽で被エツチング物にエツチング液を
吹きつけることで直接的に行なわれている。しかしなが
ら、空気による再酸化はどのような場什も有利であると
はいえない。特に、回位を整えるべくアンモニアを用い
るので拡散するアンモニアの嫌な臭気や環境問題をでき
るだけ小さく抑える必要のある場合は不向きである。

〔発明の目的〕

不発明は、エツチング液に簡単な方法で高濃度の酸素を
含むガスを強力に混入することを課題としている。

〔発明の構成〕

上記の課題は特許請求の範囲第１項に記載の方法で解決
されている。エツチング液には電気分解槽のアノードに
生じた酸素が導入される。

エツチング液に導入されるガス成分で空気中の窒素のよ
うに再酸化には寄与しないものはきわめて少ない。有利
な点は、電気分解槽で蝕刻された金属を回収する際に生
じる酸素を利用することである。エツチング液の声値を
整えるために酸素と共にアンモニアを供給することは好
ましい（特許請求の範囲第２項）。エツチング槽でのエ
ツチング作用時やエツチング液の再生時にはだいたいに
おいて拡散のため失なわれるところから、エツチング液
にはこれに見合ったアンモニアの供給が必要である。

再生時に電気分解槽で輩解物質の上方のガス空間に抜は
出たアンモニアは引き出された酸素と共にエツチング液
に戻される。アンモニアは酸素と共にエツチング液に導
入され、酸素と同様にエツチング液中へ強力に混入され
る。このように酸素を含むガスの強力な混入と微細化は
再酸化作用を促進する。

以上の不発明方法を実施するため、特許請求の範囲第３
項に示す再生装置が構成される。この装置はエツチング
槽に接続し、この楢からのエツチング液を流す通路を備
えている。このエツチング液は触媒粒子を一過するフィ
ルターに導かれる。触媒粒子はエツチング液に懸濁され
ているものである。触媒粒子はフィルターからエツチン
グ液の力によって引き出され、戻し管を介して再度エツ
チング槽に戻される。再生装置には電気分解槽が付属し
ており、これにはフィルターに接続された連結管が接続
されており、この管にフィルターで濾過され触媒粒子の
ないエツチング液が流れる。電気分解槽はエツチング槽
に継かり、金属イオンの除去されたエツチング液が通る
出口を有している。このエツチング液は清浄エツチング
液としてエツチング槽に導入される。酸素を導入するた
めに、酸素導入管が触媒粒子を含んだエツチング液が通
るエツチング槽への戻し管に開口している。この導入管
には電気分解槽のアノードに発生した酸素が供給される
。エツチング液には酸素が強力に混合されて再酸化作用
を特徴する 特許請求の範囲第４項から同第１０項には再生装置の他
の実施例が提示されている。これによると、酸素導入管
にアンモニアのための開閉できる通路が接続されており
、酸素の供給と同時にエツチング液の回位をも調整でき
るようになっている。酸素およびアンモニアの導入はエ
ツチング槽への通路中に配置された噴射ポンプによる。

このポンプによシ、酸素がエツチング液中で微細化され
て急速な再酸化作用を得ることができる。酸素導入管は
噴射ポンプの吸引口に接続しており、このポンプは作動
液として前記の触媒を含むエツチング液を用いる。エッ
チンク液の流れる方向に関して、噴射ポンプの前に戻し
管から圧逃し管が分岐しており、この管はエツチング液
の貯溜器に開口している。この貯溜器はエツチング槽か
らのエツチング液を受け入れるためにエツチング槽と接
続している。

貯溜器にはエツチング槽からエツチング液が自然流下す
る。

噴射ポンプにおける作動液体圧を適度なものとするため
にフィルターが噴射ポンプの上流側に、触媒粒子を含ん
だエツチング液が作動液体として噴射ポンプに自然流下
するように配置され、一方その沖過液は電気分解槽に流
れる。フィルターは筒状のフィルター材を備え、噴射ポ
ンプに対し垂直に配置されることが好ましい。

エツチング液に酸素を強力に混入しこれを微細化するこ
とは、特に電気分解槽のガス空間から酸素を噴射ポンプ
の作用で吸引してくる場合にはエツチング液の再酸化が
、エツチング液中に付加した触媒粒子をエツチングすべ
き金属部分のエツチング程度にかかわらず、不必要とす
る程釦促進する。このことはエツチング方法を簡素化す
る。これに対応した装置を特許請求の範囲第１１項に記
載している。エツチング液には触媒粒子が含まれている
から、電気分解槽に触媒粒子が侵入するのを防止するた
めのフィルターを省略できる。

電気分解槽のガス空間から酸素とアンモニアを引き出す
時、水蒸気も共に出てくるので、このような混合ガスを
エツチング液中に導入する前に水蒸気を分離しなければ
ならないが、特許請求の範囲第１２項に示す実施例では
、電気分解槽における電解物質上方のガス空間に接続さ
れた酸素導入管にコンデンサーが配備されている。この
コンデンサーで混合カスは冷却され水蒸気は凝縮、分離
される。凝縮された水はエツチング済み部材の洗滌水と
して利用され、必要となる全洗滌液量を減少せしめる。

コンデンサーからの凝縮液を導びくコンデンサー管は装
置の洗滌槽に開口している。コンデンサーで分離された
水にアンモニアが含まれていることは好ましい。洗滌槽
に凝縮液を導入すると、例えば銅のエンチングでエツチ
ング液中に含まれるテトラアムニン銅錯塩が、エツチン
グされるべき部材の表面に水酸化銅や塩基性の銅塩を分
離するよ５々加水分解作用は全く生じない。

電気分解槽で発生する水蒸気の量は電気分解槽の温度に
よる。電解物質の温度が高くなれば電解物質上方のガス
空間における水蒸気割合も上昇し、結果としてコンデン
サーにはより多くの凝縮水が得られる。電気分解槽にお
ける温度を制御することで凝縮水の量を調整する。この
点を特許請求の範囲第１６項に記載している。

電気分解槽における最高温度は、電解物質が必要とする
ｐＨ値によって制限される。温度が上昇すると電解物質
中のアンモニア割合は減少し、したがって回位が小さく
なる。、電解物質は電極保護のため、とにかくアルカリ
性としておく必要がある。

次に図を用いて本発明および不発明の実施例を詳述する
。

〔実施例の説明〕

第１図はエツチング槽１に接続した再生装置を図式的に
示している。エツチング槽のエツチング液はエツチング
すべき部材に吹きつけるか部材がこのエツチング液に浸
される。エツチング槽１は洗滌槽２を伴っている。再生
すべき含アンモニアエツチング液、これは被エソチンク
物のテトラアムミン銅錯塩と結合した硫酸アンモニウム
および液中に懸濁している触媒を含むものであるが、は
エツチング槽１から導管４を介してフィルター４に流れ
る。エツチング液中に懸濁する触媒の粒子は、エツチン
グ速度を高めたり、エンチング液の再酸化を促進する機
能がある。触媒としては活性炭粒子が好適である。

これについては独公開第５０５１５６７号に開示されて
いる。

導管６は実施例において、エツチング液が自然落差でエ
ツチング槽からます貯溜器５に流れ出るよう、エツチン
グ槽１に接続されている。

貯溜器５からはポンプ６で圧送管７を介してフイルター
４に導かれている。すなわち、エツチング液がフィルタ
ー４に流通するために、導管３、貯溜器５、ポンプ６お
よび圧送管７が関係している。

フィルター４はフィルター材８を有し、これは、エツチ
ング液中の触媒粒子を通過させない。

フィルター材８はこの実施例においては筒状であって鎖
線で図示されている。フィルター４は垂直に配置され、
触媒粒子を含むエツチング液が上から下へと流される。

フィルター４から戻し管９がエツチング槽１に接続して
いる。戻し管９には触媒粒子を含むエツチング液が流れ
ている。

エツチング槽へ環流してまたエツチング液を再酸化する
ため酸素が導入される。このため、戻し管９には噴射ポ
ンプ１ｏが配備され、その吸込口１１には酸素導入管１
２が接続している。

噴射ポンプの作動体としてはフィルター４から還流する
触媒粒子を含んだエツチング液が用いられる。

酸素導入管１２は電気分解４１１１３から出ている。電
気分解槽にはエツチング液の一部が流され、エツチング
槽で蝕刻された金属がカソード（陰極）１４に分離析出
される。電気分解槽には触媒粒子が含まれていないエツ
チング液が導入されるべきである。このため、フィルタ
ー４の流出口１５と電気分解槽１６間に連絡管１６゜１
６　’、　１６　’が設けられている。電気分解槽のア
ノード（陽極）１７には酸素が発生する。酸素導入管１
２は電気分解槽における電解物質上部のガス空間に開口
しており、噴射ポンプ１ｏの作動に備えて酸素が蓄えら
れている。ガス空間では酸素と共に、電解物質からそれ
自身の蒸気圧にまで蒸散したアンモニアや水蒸気が含ま
れている。

酸素導入管１２にはアンモニア導入のため、アンモニア
導入管１８が接続している。この管は開閉装置１９で開
かれるアンモニアボンベ２０に接続している。したがっ
て、噴射ポンプ１゜により、電気分解槽から導かれた酸
素と同時に新規なアンモニアが触媒粒子を含むエツチン
グ液中に導入され、エツチング°液の坪値を制御するこ
とになる。開閉装置１９はこの目的のために連絡管１６
中に配備した検出電極を有する声検出装置２１と接続し
ている。回位が所定より降下すると開閉装置１９が開い
てエツチング液中にアンモニアが導入される。声検出装
置は電気的な制御装置を介して開閉装置を１９を駆動す
る。

フィルター４と噴出ポンプ１ｏ間の戻し管９に圧逃し管
２２が開口しており、これはエツチング液を貯溜器５へ
分流するため設けられている。

電気分解槽の出口２３からは溢流管２４で金属イオンの
除去されたエツチング液がエツチング槽に導かれる。こ
の除去後のエツチング液はエツチング槽で新規なエツチ
ング液として触媒粒子を含有したエツチング液と混合さ
れる。

電気分解槽１３の下方には溢流檜２５が配置されている
。これは、電気分解槽を空にするために機能し、また電
磁弁２７で開閉するドレイン管２６を介して電気分解槽
１５の底部と接続している。エツチング液は電気分解槽
１３から第２の溢流管２８を介しても溢流４’ｉ２５へ
流れ込むことができる。連結管１６にＦｉｐｎ値検出装
置２１と共に金属イオン濃度を検出する装置２９と流量
計３０が配備されている。

流量計３０は電気分解［１３へ流れるエツチング液の量
を計測する。流量計３０はこの実施例において二つの調
整用開閉機構３１ｊ２と有機的に接続されている。流量
計３０はこの開閉機構を機械的に、油圧的にあるいは電
気的のいずれかで制御することができる。しかし、開閉
機構３１，３２を電磁弁とし、これの制御を電気的に行
うものとすることが好ましい。両開閉機構のうち、開閉
機構３１は連結管１６に配置され、開閉機構３２は開閉
機構３１の前方で連結管１６から分岐したバイパス３３
に配置されている。

この二つの開閉機構は電気分解槽につながる連結管の一
部である１６′部分においてエッチング液の流量が一定
となるように設定されている。

電気分解槽に導かれるエツチング液の単位時間当りのｉ
は電気分解槽において同じ単位時間で蝕刻される金ＪＩ
Ａ量に拠って変わる。

装置２９で検出されたエツチング液中の金属イオン濃度
は電気分解槽の作動状態を決定する。

装［２９は連結管部分１６′の端部に配置された三方向
弁３４と有機的に結合されている。この三方弁５４の一
方には電気分解槽１３に続く連結管１６の端部分１６′
が接続され、他方にはバイパス３３に開口する還流管３
５が接続している。三方向弁３４は電気分解槽１３に開
口している。エツチング液中の金属イオン濃度が所定値
以下になると三方向弁３４が作動される。すると、エツ
チング液は還流管６５に流れる。電気分解Ｗ１はスイッ
チが切られる。

電気分解槽１５におけるエツチング液の循環のためポン
プ３６が設けられている。このポンプ鉱その吸込管３７
を、溢流管２８が接続されている溢流槽２５に潜り込ま
せ、一方エツチンダ液が圧送管３９のフィルター３８を
経て電気分解槽に戻るようにしている。エツチング液は
この実施例において、カソード１４とアノード１７間で
電気分解槽に流入する。電気分解槽のスイッチが切られ
た後エツチング液は電磁弁２７の開口を通じて溢流槽２
５に流れ出る。電気分解槽が再作動するときはエツチン
グ液が溢流槽２５からポンプ５６によって戻される。

銅のエツチングに実施例では硫酸アンモニウムとテトラ
アムミン銅錯塩を含むエツチング液を採用している。蝕
刻された金属をカソードに分離析出させ、アノードに酸
素の発生を見た後、金属イオンを除去されたエツチング
液はエツチング槽１内でエツチングされた部材をエツチ
ング終了時に洗滌するための洗滌液として用いることが
できる。エツチング後の部材は特に付着している触媒粒
子を洗い流す必要がある。このために必要となるエツチ
ング液の量は溢流管２４に維持される。溢流管２４に接
続可能な洗滌液管４０は洗滌液槽２に開口しているので
あるが、第１図において鎖線で示されている。洗滌液槽
２とエツチング槽１は、エツチング液が洗滌過程終了後
エツチング槽に流入するよう、相互に連結されている。

第２図もエツチング液の再生装置を示し、エツチング液
は触媒粒子を懸濁しているものである。噴出ポンプによ
って酸素をエツチング液に導入し高度に混合し、微細に
分割された酸素で迅速な再酸化作用が行なわれるので、
触媒装置は無くともよく装置が簡素化されたものである
。

圧送管７に備えたフィルター４は省略されている。これ
に換えて、第２図に示すように、圧送管７と連結管１６
間に簡単な管接続４１が為されている。第２図において
、Ｎ１図と同様の部材については同一の記号を付す。第
２図の装置は第１図の装置を含んではいるが、酸素導入
管１２にコンデンサー４２が、また、電気分解１１１１
３に電気分解時の温度を調整する装置４６を有している
。コンデンサー４２では水蒸気を凝結させる。コンデン
サー４２線さらに、酸素とアンモニアの混合ガスを電気
分＃栖のべ解物質上部のカス空間から吸引する。コンデ
ンサー４２からはコンデンサー管４４がエツチング装置
の洗滌＠２に接続している。コンデンサーで分離された
水はエツチング済みの部材を洗滌するために用いられる
。

吸引し念混合ガスを冷却してコンデンサー４２において
充分な凝縮液を得るために電気分解槽では装置４３を用
いて電解物質の温度を調節している。混合ガス中におけ
る水蒸気の量は電解物質の温度と共に上昇する。装置４
３は実際には電気分解槽を冷却することとなる。電気分
解槽はその作動中、通電により発熱している。高温の定
常状態を維持できるのは電気分解槽を冷却水が流通して
冷却作用を行える冷却外套を備える構造としているから
である。これは特許請求の範囲第１４項に記載している
。冷却水の量は電解物質の温度により調整される。

第２図に示す実施例においても、銅のエツチングのため
に硫酸アンモニウムとテトラアムミミン銅錯塩を含むエ
ツチング液が用いられる。

電気分解槽では蝕刻された銅の分離時には電解物質を冷
却して温度を７５υに設定する。電気分解槽における電
解物質上方のガス空間から、噴射ポンプにより５　ｍ５
／ｈ　の混合ガスが吸引される。このような条件下で閉
鎖された電気分解槽では混合ガスから約１．２５　ｌ／
ｈの凝縮液が洗滌液として得られる。酸素は電気分解槽
のアノードに２４０ＯＡ（概算）の電流で５００Ｊ／ｈ
が発生する。電気分解槽に導かれる銅イオンを含むエツ
チング液は開催が９である。

第６図は再酸化時間を示しており、カーブＡはエツチン
グ液の再酸化を示しエツチング槽において何らのスプレ
ーなしに得られたものであり、カーブＢは噴出ポンプで
酸素をエツチング液に導入した場合に得られたものであ
る。エツチング液における再酸化の程度は市販のカロメ
ル（甘木）′Ｆｔ極（ｘａ）で飽和したＨ　ｖ／Ｈｔ２
０１ｊ２）に対するＯｕ”／（３ｕ＋のポテンシャル値
−レドックス系で測定される。

テトラアムミン銅錯塩と硫酸アンモニウムを含むエツチ
ング液で銅成分が５０ｙ　／　ｌ　、　（ＮＨ４）２８
０゜が１５０り／ノ含むものとアンモニアを９ｔ／１用
いるものでは５０むで銅面がエツチングされる。エツチ
ングの間にレドックス系におけるＯｕ”１０ｕ＋のポテ
ンシャル値はエツチングを始めてから３．５分以内に当
初値１２５ｍＶから約−６０ｍ　Ｖまで降下する。この
後に再酸化が始まる。

第６図から、エツチング液による同量の銅の蝕刻におい
て、噴射ポンプによって酸素を強制的にエツチング液中
へ導入することで急速な再酸化を生じていることが、エ
ツチング液を単にスプレーする場合と比較して明らかに
見て取れる。噴射ポンプによる酸素の導入で約６．５分
後にはすでに１００ｍＶのポテンシャルとなっている。

エツチング液のスプレーでは同じポテンシャル値を回復
するのに約１０．５分を要しているところ、再酸化所要
時間は第３図のように通算７分である。噴射ポンプで電
気分解槽のガス空間から酸素を吸引するかわＴＯＫ空気
を吸入してもよい。この場合、同量の銅蝕刻量において
再酸化速度は落ちる。しかし、この再酸化作用はカーブ
Ａの場合より常時かなり迅速に経過する。エツチング液
へ酸素を強制的に混合するとと紘エツチング液の再生を
酸化によ抄大きく改善していることになる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、模式的に示したエツチング装置で、エツチン
グ液に触媒粒子が含まれるもの。 第２図は、模式的に示し九エツチング装置で、エツチン
グ液に触媒粒子が含まれず、かわりに、洗滌用の水を得
るためのコンデンサーを備える。 第３図は、エツチング液の再酸化所要時間をエツチング
槽で噴霧により酸化されたエツチング液と比較して示す
もので、この場合のエツチング液には酸素が噴射ポンプ
によ抄導入されるものである。 １・・・エツチング槽 ２・・・洗滌槽 ３・・・通路 ４・・・フィルター ５・・・貯溜器 ６・・・ポンプ ７・・・圧送管 ８・・・フィルター材 ９・・・戻し管 １０・・・噴射ポンプ １１・・・吸引口 １２・・・酸素導入管 １５・・・電気分解槽 １４・・・カソード １５・・・濾過液出口 １６・・・連結管 １７・・・アノード １８・書・アンモニア導入管 １９・・・開閉装置 ２０・・・ボンベ ２１・・・回位測定装置 ２２・・・圧逃し管 ２３・・・出口 ２４・・・溢流管 ２５・・・溢流槽 ２６・・・ドレイン管 ２７・・・電磁弁 ２８・・・第２の溢流管 ２９・・・測定装置 ３０・・・流量計 ３１．３２・・・開閉機構 ３３−、、バイノイス ６４・・・三方弁 ５５・・・環流管 ６６・・・液体ポンプ ５７・・・吸込管 ３８φ・−フィルター ６９・・・圧送管 ４０・・・洗滌液管 ４１・・・管接続 ４２す・コンデンサー ４３・・・装置 ４４・自コンデンサー管 代理人江崎光好 代理人江崎光史 第１頁の続き 優先権主張　０１９８３年１１月８日■西ドイツ（ＤＥ
）■Ｐ　３３４０３４３．０

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）アンモニア性エツチング液の再生方法であって、
   エツチング液中におけるエツチング剤を再酸化するため
   に、酸素が導入され、また少なくともその一部が蝕刻さ
   れた金属を回収するために電気分解槽に流れ込みカソー
   ドに金属を析出させγノードに酸素を生じるものにおい
   て、γノードに生じた酸素がエツチング液中に導入され
   ることを特徴とした再生方法。 （２）酸素と同時にアンモニアも供給されることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項に記載した再生方法。 β）アンモニア性エツチング液を再生する装置であって
   、エツチング液は酸素供給のもとに一再酸化作用を行う
   触媒粒子を含むものであり、エツチング槽のエツチング
   液を前記の触媒粒子が通過できないフィルターに導く通
   路および触媒粒子を含んにエツチング液をエツチング槽
   に戻す戻し管、フィルターに接続され触媒粒子の除去さ
   れたエツチング液が流通する連結管が接続されており、
   また金属イオンの除去されたエツチング液がエツチング
   槽へと流通するための出口を備えた電気分解槽を有する
   ものであって、前記の戻し管（９）にＦ！酸素または酸
   素を含む混合ガスが導入される酸素導入管（１２）が開
   口し、この管（１２）は電気分解ＩＩ（１５）のγノー
   ド（１７）に生じた酸素が流通するものであることを特
   徴とした再生装置。 （４）酸素導入管（１２）にアンモニア供給装置（１８
   ゜１９．２０）が接続されていることを特徴とする特許
   請求の範囲第６項に記載の再生装置。 （５）戻し管（９）に噴射ポンプ（１０）が配備されて
   おり、その作動液体は触媒粒子を含んだエツチング液で
   あり、その吸込口（１１）が酸素導入管（１２）と接続
   していることを特徴とする特許請求の範囲第３項または
   同第４項に記載の再生装置。 （６）戻し管（９）から、エツチング液の流通方向に関
   し、噴射ポンプ（１ｏ）より前に圧逃し管（２２）が接
   続されていることを特徴とする特許請求の範囲第５項に
   記載の再生装置。 （７）　圧逃し管（２２）は貯溜器（５）Ｋ開口し、こ
   の貯溜器（５）はエツチング！　（１）からのエツチン
   グ液を受け入れるためエツチング槽（りと接続されてい
   ることを特徴とする特許請求の範囲第６項に記載の再生
   装置。 （８）貯溜器（５〕はエツチング液が自然流下するよう
   エツチング槽（１）と接続されていることを特徴とする
   特許請求の範囲第７項に記載の再生装置。 （９）　フィルター（りは噴射ポンプ（１ｏ）の上流側
   にエツチング液がこのポンプ（１ｏ）に自然流下するよ
   う配備されていることを特徴とする特許請求の範囲第５
   〜８項のいずれか一つに記載の再生装置。 （１０）フィルター（４）は筒状のフィルター材（８）
   を備えており、このフィルター材は噴射ポンプ（１０）
   に関し垂直に配されていることを特徴とする特許請求の
   範囲第９項に記載の再生装置。 （１１）酸素供給のもとにアンモニア性エツチング液を
   再生する装置であって、エツチング槽からのエツチング
   液を流す通路およびエツチング液をエツチング槽に戻す
   戻し管、エツチング液の少なくとも一部を流すための前
   記通路に開口した連結管が接続され、また、エツチング
   槽に通じると共に金属イオンの除去されたエツチング液
   が通る出口を備えた電気分解槽を備えており、前記戻し
   管（９）に噴射ポンプ（１のが配備され、その作動液体
   はエツチング液であり、その吸込口（１１）は酸素また
   は酸素を含む混合ガスが通る酸素導入管（１２）と接続
   され、さらに、この導入管（１２）は電気分解槽（１５
   ）のアノード（１７）に生じた酸素を供給するものであ
   ることを特徴とした再生装置。 （１２）酸素導入管（１２）は電気分解槽（１３）にお
   ける電解物質の上部に形成されたガス空間に通じており
   、酸素導入管（１２）に導入した混合ガスから水蒸気を
   分離するためのコンデンサー（４２）を介して前記の吸
   込口（１１）に接続されていることおよび、コンデンサ
   ー（４２）Ｋ生じた凝縮液が流れるコンデンサー管（４
   ４）がエツチング槽（りに併設された洗滌槽（２）に開
   口していることを特徴とする特許請求の範囲第１〜１１
   項のいずれか一つに記載の再生装置。 （淘　凝縮液を所定量得るため、電気分解ｆｔ＊ｃ１５
   ）が電解物質の温度を制御する装置（４６）を備えてい
   ることを特徴とする特許請求の範囲ｇ　１２項に記載の
   再生装置。 （１４）電気分解槽（１３）は冷却水が循環する冷却外
   套で取り巻かれていることを特徴とする特許請求の範囲
   第１６項に記載の再生装置。