JPS60128674A - 拡散型半導体圧力変換器 - Google Patents

拡散型半導体圧力変換器

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Publication number
JPS60128674A
JPS60128674A JP23701683A JP23701683A JPS60128674A JP S60128674 A JPS60128674 A JP S60128674A JP 23701683 A JP23701683 A JP 23701683A JP 23701683 A JP23701683 A JP 23701683A JP S60128674 A JPS60128674 A JP S60128674A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sensor chip
base
pressure transducer
case
type semiconductor
Prior art date
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Pending
Application number
JP23701683A
Other languages
English (en)
Inventor
Masayuki Muramatsu
村松 正之
Hitoshi Maeda
均 前田
Motoyasu Takagi
高木 基康
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
COPAL DENSHI KK
Copal Electronics Co Ltd
Original Assignee
COPAL DENSHI KK
Copal Electronics Co Ltd
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Publication date
Application filed by COPAL DENSHI KK, Copal Electronics Co Ltd filed Critical COPAL DENSHI KK
Priority to JP23701683A priority Critical patent/JPS60128674A/ja
Publication of JPS60128674A publication Critical patent/JPS60128674A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/84Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by variation of applied mechanical force, e.g. of pressure

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は圧力全歪量に変換し、その歪量全史Vこ電気量
に変]央して′「玩気悟号として」収9出丁圧力亥移5
)計に1叫−Tるものである。特に圧力変J美器にケー
ス全外装して、外部17iB拐に接続できる圧力変換器
に関する。
t= oニg子として半導体ダイアフラムを形成し、ダ
イアフラム」二に拡散抵抗を形成すれm:、ピエゾ抵抗
効果に水いて抵抗変化が起るために、圧力1屯気量とし
て知ることかできるという原理V(錆いたもの−Cりる
。通常使用式了′シているL(力変換器に係る問題点を
以下列挙づ−る。第1に、この神の圧力変換器における
技術的問題点の一つとして、611IX度補償が勘る。
即ち一般にはシリコン等よりなる半導体ダイヤフラム(
以下琲にセ/サチノプと訂う)を基台(多くは金属から
成る)に取り付けた場合に、センサチップと基台の熱膨
張係数が異るため、温度敦化に対してセンザチツfは熱
厄力全・受けるから実除に圧力が無い(でもかかわらず
、圧力を受けたと同様な出力が不用慈に出て1寸つこと
V′C−qろ。センサチップ上の抵抗は、第1図に示1
−ように、4木の拡散抵抗几1〜.R4でホイトストー
ンブリツヂを((4成して使用するが、’r(!j記4
本の拡1牧抵抗の・2ラノキによる誤差も発生するため
高il’i度の変」奥には、何しかの補償が不可欠とな
る。
この様な場合の一例として、ホイ1、ス1、−ンブリッ
ジに111−並列に補償抵抗”I + ’2 t r3
を接続例加した袖・:ltM路を用いる(第2図参照)
前記センサチップに対する熱応力全除去する方法として
は、特公昭51−31197号に記載の半轡体も〜り圧
力変換器の構成のようにダイヤフラムを゛これと同−拐
料製で中央部に穴をうがった板状台に埃7f;f4収つ
けている例もあるが、この場合にもイ・+ii 11□
′f砥抗が必要であることに変りはない。圧力変侯旨を
プリント基板に塔載して便つ場合は通常プリント基板上
に補償用抵抗器も塔載可能であるが、水道管やプロセス
制御機器に圧力変換器全図示して1更う」場合には問題
がある。
仄に構造上の問題について述べる。センサチップのダイ
ヤフラム上に拡散抵抗を設けることはhiJ記の通りで
あるが、これを外部端子と接続するためには、拡散抵抗
端部にAt等を蒸着し、A4(!:端端子間全金細線の
ボンディングワイヤで接わ“こするのが一般的に採用さ
している方法で」・る。従って圧力全拡散抵抗面から加
えるとすれは、/1′]′浄空気しか使えず、若し水滴
等の混入した場合にはセンサとしての嘘能に阻害もたら
すことになる。更にj副食性ガス、液体等の圧力=ld
t1+にも、自iI記ボンディングワイヤ、Atノ々ノ
ドは2j((防備である。以上の理由から、圧力導入口
を拡散抵抗と反対側即ちダイアフラムの下4i11に存
在させるのが良策であるが、Hソンデイングワイヤの接
玩作業を考属すれば後述のような作業上の問題が生じる
更に構造上の問題点を含む例として第3図に従来例の圧
力変換器全図示する。第3図において、外部BB材取付
ねじSを具えた管継手形状のケース1内に、ガラス製基
台2、端子板4含む本体α金、ゴム製0リング1oと管
継手内側めねし1aと螺合するネジ6を用いて収納する
。センサチップ3fql、〕、←台2に接層?Ill竹
:て置市してあり、又ガラス基台2の中火部の貫通孔9
ば、圧力導入孔であり、センサチップ3のダイアフラム
3′に圧力を伝達する。収載のψ;1j1子5はAi子
基板4に挿嵌固層したもので、センサチップ3」二面の
A4/々ツドとの間を金d、11目#J! 7で接続す
る。この金細勝7の接続作業は削述通りの構造上皿に作
業上非常に煩雑且困難で・1ろる。なんとなれば、セン
サチップ3の寸法VJ−1W44 ’:r nrm角程
j隻て4うす、こ扛に25 /Lm ;l呈1夏の全判
]F! 7を5小ないし6本ボンディングし、他端音引
っばり上げて端子5にがらけて尋電接右剤等で固゛′J
1ンJ−ること+71ρ21練を要し且困シ↓11極甘
9ない作条で。1)る。 7′」−号8はイIf! ’
II(抵4元である。
又第3図VC121示の構造でネジ6、めねじ1aとk
 ’jfilfめイ・]けて、Oリングエ0が十分にケ
ースJの密閉性を維持するように構成すると、ねじ6に
ょる締め付は応力が基台2に加ゎりその結果センサチッ
プ3に歪みを発生させる起因となる。
本発明は、前記に列挙したセンサチップに対する熱応ツ
バ締め伺は応力に関する欠陥除去rlc対処し、かつ組
立が容易で安1lIIIな、接散可能なi箭精能高圧セ
ンザ全提供することを目的とするものである。
以下本発明に係る一実施例全ルI」する。第4図は本発
明の圧力変換器の断面図、第5図は第4図全矢印の方面
より児た底面図である。−万の外側に他部拐と螺合可能
な取伺ねじSと内111Iに後述するねじlaを具えた
管継手状ケースl内にゝゝ0“リングIOを弁してガラ
ス基台13等を含む圧ヵ変挾器本体βヲ祁み込み、その
基台にセンサチップ:うを接着することは従来例を図示
する第3図のN’i写成と同一である。本発明ではガラ
ス7ilj台+ 3はセ/すf ’) f 3と熱膨張
係数が類似する・ξイし・ノクスガラス()♀イし・ツ
クスは商標名である)を用いると共にその高き全調整し
て、センサチップ3と端子板4をほぼ同一し・ベルの冒
ざに形成する。従って☆11′11子板4とセノサチツ
ゾ3を後述する導体部を介して接続するボンディングワ
イヤ7のボンディングマ/ン等を用いて(幾(成約に実
施できるから組立作業工程の削減ひいては能率向上に役
立つ。
ケース]とキャップ11全除去したガラス示合13、セ
ンサチップ3並に端子板40組立てしわだ+ar lf
+iを別に第6図に、又そのj弐面図を第7図にボす。
前記図1月において、ガラス基台13に(づ、」策状ス
リソl−]7Iがj11通導人]」9を囲繞しこrしと
同一方間に開L1するより(/CC没設れ、Mj!i:
子5−:、ガラス基台13に装着てれた端子板4に嵌挿
固定訟れ、更にのひて☆1.′11子板4に接着した断
面コ字状のキャップ11に設けた枚数の孔部に嵌合さね
た後、ギヤツプ1. ]−Vこ設?−Jた導体部VrC
はんた伺けさtた電気的接続月1中継島゛1.i子であ
る。端子板4は通常j同請伺ガラスエポキシ基板からな
り、その4′4一体部15に(づ: 71Xンデイング
ワイヤ7を機械的にボンディング−1iJ能なように金
めつき等か施をれている。符号16fziセンザチソゾ
3のAtパッドγll?f示し、半嗜体製造工程におい
て、アルミニューム蒸着がなされたものである。
キャップ11はセラミック等よ!llなジ、その裏面す
なわち第5図に図示の表面に厚膜1焼成によジ導体、抵
抗体全印刷焼成してお9、前述のように端子板4に設け
た端子5群を表より挿入して後こtら端子群とキャップ
]1の導体部とをばんだ(=1により連結する。外部端
子12はキャンプ11に嵌挿きれ+1!iAi子5と同
様VCはんだ刊等によジキャノプ1Jの所定のm体部と
電気的接わdかなされる。
第8図は前記のように接続された端子5と外”:S[I
端子12を名’ tr 1uJ it噴図′ρ1jで必
9、It、 、 R,2、11,3,11,4(1拡故
抵抗、rI 、l’2 + r3は補償抵抗を小才。こ
の様に構raさ扛だキャップ11上(、’i:配設した
。flII偵抵抗回路の抵抗はレーザトl) ミング装
置等を用いて、商A4t I及Vこ抵抗値設足呵能であ
る力・ら、従来列のものとして第3図に示した補償抵抗
8より遥かに補償精度が高い。
次に再ひ第4図を参照す汎は、前記の通Vガラス基台L
3VCは中央部と周辺部との間に環状スリ “ツ)14
が穿設されている。この環状スリット14(:Jニガラ
ス基台1:3と七ンサチノプ3の熱j彫張係数の差異に
起因するセンザチソプ3の熱応力を低減さぜるの(・こ
役立つのみならず、ケース1を本発明の圧力変使器に夕
l装したJ弱含にケースの内側]ねじ1、]とねじ6並
にケース]の外側j取伺ねじSと連結111ニ材とのi
li’if7 (’Jけ作業によって起きる機械的歪に
原因する)心力による不具合全是正できる。
尚本発明実施例ε134図ticおいては、貫通尋人1
]9を・中心としてこれ全囲繞した環状スリット1.4
を9かった側音図示しているが、前記のように熱j心力
を是i1O,1,,た夕、ねしのiii利は作業によっ
ておさえ)不只・音を口坊屯する効果をつるため(tr
C(d必ずしも前記と回−’ 41’、Ff i戎の」
屓状スリツトケ芽設しなくと・もよい。こ1.7−1環
状ノリソトの代りに、端子5と同、IJ (j)孔7i
1(を!A11ハ偉人孔9と平行に且同−万16盲C聞
]し8I″るよつ(C基台13に穿設すること(7C、
J: J前記11・11.Rの効果を得ることも出来る
し、又貫通導入孔1)を中心と1〜でこ汁ヶ囲繞するよ
うに且専入孔9と平行て同一方向Vこ開口する孔R1S
を基台13に穿設する代V(・C,貫通導入孔9に対し
鉛直方向に構成されたトンネル孔又は環状孔を前記基台
13に穿設してもよいことは勿朧である。
又ガラス基台j3の1相としてセンザチソプと同−拐質
のシリコンを使用すれは、熱応力対抗策として更に有効
ではあるか、シリコンをこの目的にそつように加工する
ことは44質的に困難性が任任し、且加工のためのロ8
テ間的要因の不利も伴い能率的でない。−刃基台」3に
ガラス%’r1S材を使用す7Lば、金型を用いて容易
に成形できるし又技術的に機械加工も容易である等の長
所がある。
上述のよう(で本発明においては、基台の中央部と周辺
部の間に環状スリットや複数の孔;4i(を穿設しであ
るから、ガラス基台]3とセンツチソプの熱彰張保叡の
差異Vこ起因するヒンザチツプの熱応力を低減せしめる
のみならず1圧力変換器本体βに外装したケース1の外
11111敗・卜]ねじ、内側ねし等の締イマ]け作業
による端子板4、センザチツゾ3、基台13等を含む圧
力変換器本体βに対する機械的歪による応力にも対処で
きる1、又キャップ1]上面に補償抵抗回路を一体に配
設できる力)ら、1・リミング装置等音用いて高精度に
抵抗値設定が可能である等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は拡散抵抗回路図。第2図は補償抵抗を付加した
回路図。第3図は従来例の拡散抵抗圧力変換器の断面図
。第4図は本発明(C係る圧力変換器の断面図。第5図
は第4図金矢印方同より見た底面図で回路図を除去した
もの。第6図はキャップとケースを除去した第4図と同
様の断面図。第7図は第6図の底面図。第8図はキャッ
プ裏面に設けた拡大回1烙図。 β・・・本体 1・・・管断手形状のケース:3・・−
センサチップ 4 ・端子板5−・−y晶子 9・−貫
通4つ一入[111・・・キャップ 13・・・基台(
ガラス)14・−環状スリット 特許出願人 コパル電子株式会社 代理人 弁理士 小 林 栄 第 1 図 第3図 第4図 第 5 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 外tel(i’its A−と連結可能となしたケ
    ース内に収納さすした基台のほぼ中央に1設した導入口
    端部に装置1fしたセンザチソプと、前記尋人1コを囲
    繞1−ろように基台(rc穿設し、一方向に開(コシた
    環状スリットと荀具え、ゎ1]記基台上に配設した端1
    ′・(反Qこ接冶したキャップの裏面に補償砥粒回路を
    (1′I′f成してなる拡散型半畳体圧力変換器。 21(−カセンザチッブとほぼ等しいに1冒]彰張1糸
    数金イ■すえ)杷・1メ情イ・jよりなる基台を有する
    特許1.請求の1記聞第1項に記載の拡散型生得体圧力
    変換器3゜ 3 トリミング装置を用いて高精度に抵抗値設′/Jl
    ”J’ III:な袖1賞回路を具えたキャップをイ1
    する特1t’l’ i!l°i水の範囲第1項にd己載
    の拡散型半導体圧力変換器。 ・14人口と平イiに且同−万同に開口する複数の孔部
    を基台に穿設した特許請求の範囲第1項に記載の拡散型
    半導体圧力変換器。 5、導入口に対し鉛直方向に形成した環状孔全基台に1
    設した特許請求の範囲第1項(て記載の拡散型半導体圧
    力変換器。
JP23701683A 1983-12-15 1983-12-15 拡散型半導体圧力変換器 Pending JPS60128674A (ja)

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JP23701683A JPS60128674A (ja) 1983-12-15 1983-12-15 拡散型半導体圧力変換器

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JPS60128674A true JPS60128674A (ja) 1985-07-09

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ID=17009135

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JP23701683A Pending JPS60128674A (ja) 1983-12-15 1983-12-15 拡散型半導体圧力変換器

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62108842U (ja) * 1985-12-26 1987-07-11
US5436491A (en) * 1992-10-19 1995-07-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Pressure sensor for high temperature vibration intense environment
WO2009099012A1 (ja) * 2008-02-04 2009-08-13 Alps Electric Co., Ltd. 半導体装置及びその製造方法

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