JPS60127533A - フロツピ−デイスク - Google Patents

フロツピ−デイスク

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JPS60127533A
JPS60127533A JP23515883A JP23515883A JPS60127533A JP S60127533 A JPS60127533 A JP S60127533A JP 23515883 A JP23515883 A JP 23515883A JP 23515883 A JP23515883 A JP 23515883A JP S60127533 A JPS60127533 A JP S60127533A
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JP
Japan
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undercoat layer
layer
resin
durability
magnetic layer
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JP23515883A
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JPH0263257B2 (ja
Inventor
Teruo Takahashi
輝夫 高橋
Tamaki Kanai
金井 玉樹
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/74Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
    • G11B5/82Disk carriers
    • G11B5/825Disk carriers flexible discs

Landscapes

  • Paints Or Removers (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はフロッピーディスクに関づ゛る。更に詳しくは
本発明は均一な光沢面を有しかつ耐溶剤性、耐久性、電
磁特性等に優れたフロッピーディスクに関する。
従来技術 )Oツビーディスクは磁気記録媒体の一つとして、例え
ばワードプロセッサー等の01at器の記録媒体として
用いられている。フロッピーディスクにおいて磁性層と
支持体との接着性を向上させる目的で例えば塩化ビニリ
デンーアクリロニ1−リル共重合体層を、またヘッド摩
耗防止を目的として特定のヤング率の熱可塑性:[ラス
トマ一層を下塗り層として前記磁性層と支持体の中間に
設(Jることは公知である。しかし、かかる下塗り層は
、接着力の向上やヘッド摩耗の低減には効果があるもの
の、フロッピーディスクの耐久性の向上効果に対しては
不十分である。
近年フロッピーディスクでは高記録密度を図るだめに磁
性層の薄層化の傾向が顕著であり、磁性層の厚みは2μ
m以下ものも必要になってきている。ところが磁性層の
薄層化は耐久性の悪化をもたらす。この耐久性の悪化は
、本発明者の研究結束によれば、前記熱可塑性エラスト
マーからなる下塗り層を介在させることである程度改良
されるが、一方、薄層化により他の問題が派生すること
が判明した。ずなわら、かかる下塗り層を用いたノ1]
ツビーディスクでは、磁性層を塗布乾燥後表面を研磨し
た段階で表面に光沢斑が発生し、外観不良と()で不良
品の対象どなり、また電磁変換時+1の劣性がみられた
。これは、下塗り層の上に磁14層を塗布したとき磁性
塗液の溶剤が下塗り層の表層部を溶解()、磁性層と下
塗り層の間に2つの組成の混合層ができかつ塗布厚の斑
が起るためと111定される。この混合層は磁性層が厚
いときは外観不良および電子変換特性への悪影響は小さ
いが、磁性層が博くなるとこの影響が多大となり、光沢
斑、電磁変換特性の劣性につながると推定される。
発明の目的 本発明の目的は、磁性層の薄層化に伴う問題点を解消し
、均一な光沢面を有しかつ耐溶剤性、耐久性、電磁特性
等に優れたフロッピーディスクを提供することにある。
発明の構成 本発明の目的は、ポリエステル支11体卜に干塗り層を
、その上に磁′性層を設りたフ[1ツピーデイスクにお
いて該磁性層の厚みが2μIy1.1ス下であり、更に
該下塗り層が初期ヤング率100〜8000Kg/′c
lIiを有する三次元架橋したイか1脂よりなりかつそ
の厚みが0.2〜3μmであることを特徴どづるフロッ
ピーディスクによって達成される。
本発明においては下塗り層を構成する成分としてポリマ
ーバインダーを用いる。このポリマーバインダーとして
は例えばポリウレタン樹脂、飽和ポリエステル、塩ビー
酢ビ系共重合体、エポキシ樹脂、ブタジェン樹脂、不飽
和のポリエステル又はポリウレタン樹脂等が挙げられ、
またこれらの混合物であってもよい。
更にこれらのポリマーを三次元架橋する目的で硬化剤を
用いるが、この硬化剤として例えば多価イソシアネ−1
・化合物やエポキシ基と反応可能な活性水素を有する化
合物(例えばポリアミン等)、更にまた不飽和のポリマ
ーに対しては、ラジカル申合可能41モノマー等を用い
ることができる。また直鎖状ポリマーに三次元化可能な
モノマー、オリゴマー、或はポリマーを加え、架橋反応
を発現させて直鎖状ポリマーをからみ込ませ、見かけ上
、三次元架橋させたものであってもよい。例えば可溶性
ナイロンに多官能アクリレートを混合し、該多官能アク
リレートをラジカル重合させる事によって19られる下
塗り層がこの例示となる。
これらのポリマーの中で、適度な可視性を有するポリウ
レタン樹脂を主成分とターるものが好ましく、下塗り層
中のその含有聞は30〜95重量%の範囲がのぞましい
。かかるポリマーバインダーが301 m%より低いと
下塗り層の可視性やポリエステルフィルムとの接着性が
不足し、また95重量%を超えると三次元架橋が困難に
なり耐溶剤性が劣化する。このポリウレタンを主成分と
する下塗り層中に飽和ポリエステル樹脂を下塗り11i
当り4〜40重間%含有させると支持体との接着ν1が
更に優れ、媒体の耐久性が向−ヒJるので好ましい。
下塗り層はある稈1αの可撓(41が要求される。硬す
ぎると下塗り層のクッション効果による耐久性の向上が
期待できず、また軟かり−ざると小さな応力で磁性Nが
変形されやすく応力1皮男」こJ、り塗11桑の耐久性
が低下する。このl〔め下塗り凶は初期ヤング率100
〜8000/(g/ cMを有する必要があり、更に2
00〜6000f(f / ciの初!I11ψング率
を右゛りることが好ましい。
同じ理由で下塗り層の@適な厚みも制限され0.2〜3
μ而が適当で゛あり、またこの下塗り層の効果を充分発
揮させるには磁性層の厚みが2111n以下であること
が望ましい。
これらの下塗り層には種々な目的で例えば遮光性や導電
性を付与するカーボンブラックや炭PI9.JJルシュ
ウム等の無機物、シリコーンオイルの如くの潤滑剤ある
いは分散剤等の有機添加剤を含有させることができる。
これらの下塗り層は従来から蓄積された被覆形成技術に
にっで形成でき、例えば溶液ないしは塗尊゛)1どしく
支持体(ベースフィルム)上に塗布し、乾燥、組成に応
じた架橋処理(例えば、熱処理、紫外線処理、電子線処
理)を行って均一な被覆を形成さける事にJ、って得ら
れる。
本発明にお()るポリエステル支持体は、従来からフロ
ッピーディスクの支持体として用いられているしのを用
いることができ、ポリエステルとは’y♂香族二塩基酸
またはそのエステル形成誘導体とジΔ−ルまたはそのエ
ステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエス
テルである。ポリエチレンテレフタシー1〜.ポリエチ
レンイソフタレ−1へ、ポリブヂレンテレフタレート、
ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート
、ポリ(1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレフタ
レート)等が’1.7ましく例示でき、これらの共重合
体またはこれらと小割合の他樹脂とのブレンド物なども
含まれる。上述の線状飽和ポリエステル樹脂を溶融押出
し、常法でフィルム状となし、配向結晶化並びに熱処理
結晶化けしめたしのが木スを明のポリエステル支持体(
ベーヌフイルl\)として好適である。フィルムの厚み
は通常40〜100fノである。
磁性層は、当業界に蓄(I′1された技術によって形成
できる。一般に磁性層は有機高分子化合物(・・あるバ
インダーと磁性粉および潤滑剤、帯電防+L剤、研磨剤
等からでき−Cいる。そし−C前記バインダーどしては
例えば塩ビー酢ビ共重合体、ポリウレタン樹脂、ニトロ
セルロース、飽和ポリエステル樹脂等の如き熱可塑性樹
脂、或はエポキシわ・1脂ψ〉、熱可塑性樹脂に例えば
ポリイソシアネート化合物の如き架橋剤を加えた熱硬化
樹脂、更には熱、活性光線、電子線等により架橋する多
官能アクリレ−1・等が用いられる。また磁性粉末とし
てはγ−FezO3、CO−γ Iニ e 2 03 
、 C,r 02 。
Fe、バリウムフコライ1〜等の剣状微粒子が用いられ
、潤滑剤としてはシリコーンオイル、カーホンダラフア
イl−、各種脂肪酸や脂肪酸エステル等が、また帯電防
止剤としてはノコ−ボンブラック笠が、さらにまた1i
Jl磨剤と1ノではAf1203 。
Or 203等が主に用いられる。その他に分11り剤
とし−Cレシチンや界面活性剤等が用いられる。
フロッピーディスクは一般に75μ程庶の厚さのポリエ
ステル”フィルムの両面に磁性層を設4−J、直径3〜
8インチ程麿の円盤状に打抜いたもの゛(−ワードブロ
セツザー笠のOAI’J器の記憶媒体として用いられる
場合が多い。磁気記録のft1き込み、呼び出しはフロ
ッピーディスクの両面に対置して一定JT力で接触して
いる磁気ヘッドにより行われる9゜本発明における下塗
り層が、特に)〔1ツビーデイスクの耐久性向上に効果
があるのは)l+’7ピーデイスクに磁気ヘッドから両
面間0¥に加わる1晋動抵抗J′3J:び接触圧力の影
響をこの層が緩和するに、めと思われる。
実施例 次に実施例を掲げて本発明を更に詳述する。なお、実施
例及び比較例における[部」はJべて[重量部」を意味
する。
実施例1 下塗り層として ポリウレタン樹脂 70部 塩化ビニル−酢酸ビニール− ビニルアルコール共重合体 10部 ポリイソシアネートからなる架橋剤 5部MIBK(メ
チルイソブチルケトン) −ドルオール・シクロヘキザノン 混合溶剤 200部 から4【る組成物を混合分散した後75μmのポリニス
デルフィルム基体両面に乾燥厚みが片面1.0μmどな
るように塗布し、乾燥させた。
4丁お上記組成物をテフロンシー1〜「に乾燥厚み1j
〕0μmになるように塗布乾燥し、短冊状にし、その初
期ヤング率を測定したところ800Kg/cmであった
次いで磁性層とし−C1 7Fez03 70部 ポリウレタンJラストマーと水酸基を 有JるJ=化ビニル−酢酸ビニル共重 合体からなる磁気記録用バインダー 17部万−ボンブ
ラック 5部 分散剤 2部 高級脂肪酸エステル 3部 ポリイソシアネートからなる架橋剤 2部デトラヒドロ
フラン、シクロヘキサン 混合溶剤 180部 からなる組成物を下塗り層両面上に乾燥厚さが片面1.
0μmとなるように塗布し、乾燥後表面をカレンダー処
理したうえで加熱架橋し、円板状に打抜き、更に平均粒
径2μmのアルミナを研磨材とりるラッピングテープで
磁性層の表面を磨きフ[1ツピーデイスクを得た。
実施例2 下塗り層として ポリウレタン樹脂 60部 塩化ビニル−醋酸ビニルービニル アルコール共重合体 20部 飽和ポリエステル共重合体 10部 ポリイソシアネー1〜からなる架橋剤 10部MIBK
、 ドルオール、シフOへキサノン混合溶剤 200部 からなる組成物を実施例1と同様な方法で厚み0.6μ
mの下塗り層を有し、0.8μγnの磁性層のフロッピ
ーディスクを得た。このときの下塗り層の初期ヤング率
は200ONg/ crAであった。
比較例1 実施例1において下塗り層を付与i!ず、磁fi層を直
接ポリエステルフィルム基体両面に設ける以外は実施例
1と同様にして、フロッピーディスクを得た。
比較例3 下塗り層として 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニル アルコール共重合体 60部 ポリイソシアネートからなる架橋剤 40部MIBK、
ドルオール、シクロヘキ1)゛ノン混合溶剤 200部 からなる組成物を実施例1と同様な方法で塗和して、1
.0μmの下塗り層を設けその他は実施例1と全く同様
にしてフロッピーディスクを得た。このどきの下塗り層
の初期ヤング率は19,0OONシ/cIliであった
このJ:うにしく製作した各実施例、比較例のフ[1ツ
ピーデイスクの耐久性の評価を5.25インチの画商型
フロッピーディスク装置を用いて雰囲気温石50℃で1
jつだ。)[)ツビーディスクの耐久時間は同一トラッ
クで連続してヘッドロード下で回転させて、出力レベル
が初期値の80%以下になる時間をもって表わした。
光沢面による不良の発生については5枚のフロッピーデ
ィスクの磁性層の研磨面の露状の蜘蛛巣模様の斑を目視
判定し、不良枚数を評価した。
この結果を表1に示す。
表 1 発明の効采 フロッピーディスクにおいて磁性層が2μm以下の場合
には特に耐久性が問題であるが、本発明の下塗り層を設
けることにより、耐久性が勇しく向上し、かつディスク
製造時の歩留も良好に保持される。
特許出願人 帝 人 株 式 会 ネ[手続補正書 昭和s9年2 月C日 特許庁長官殿 1、事件の表示 特許1113 58 − 235158 号2、発明の
名称 フロッピーディスク 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪市東区南本町1丁目11番地 (300)帝人株式会社 代表者岡本佐四部 0) 明細書第3頁第17行に「1!子変換」とあるを
[電磁変換」に訂正する。
(2) 同第8頁第8行に「研磨剤等」とあるな「研磨
剤9分散剤等」に訂正する。
(3) 同第10頁棺9行に[混合分数」とあるな「混
合溶解」に訂正する。
(4) 同第12頁第10行と第11行の間に下記の文
を加入する。
「 比較例2 実施例1において下塗り層のポリイ ンシアネート架橋剤を含まない(すな わち下塗り層が熱可塑型である)以外 は実施例1と同様にして、フpツビ− ずイスクを得た。」 以 上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 ポリエステル支持体上に下塗り層を、その上に磁
    性層を設【jたフロッピーディスクにおいて、該磁性層
    の厚みが2μm以下であり、更に該下塗り層が初期ヤン
    グ率100〜8000Kg/ ciを有する三次元架橋
    した樹脂よりなりかつその厚みが0.2〜3μmである
    ことを特徴とするフロッピーディスク。 2、 下塗り層がポリウレタン樹脂を主成分とするポリ
    マーバイダーを30〜95重9%含むことを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の7Oツビ−ディスク。 3、 ポリマーバインダーが下塗り層重聞当り3〜40
    重1%の飽和ポリエステル樹脂を含むことを特徴とする
    特許請求の範囲第2項記載のフロッピーディスク。
JP23515883A 1983-12-15 1983-12-15 フロツピ−デイスク Granted JPS60127533A (ja)

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JP23515883A JPS60127533A (ja) 1983-12-15 1983-12-15 フロツピ−デイスク

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JP23515883A JPS60127533A (ja) 1983-12-15 1983-12-15 フロツピ−デイスク

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JPS60127533A true JPS60127533A (ja) 1985-07-08
JPH0263257B2 JPH0263257B2 (ja) 1990-12-27

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ID=16981906

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JP23515883A Granted JPS60127533A (ja) 1983-12-15 1983-12-15 フロツピ−デイスク

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JP (1) JPS60127533A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6289222A (ja) * 1985-10-15 1987-04-23 Hitachi Maxell Ltd 磁気デイスク

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6289222A (ja) * 1985-10-15 1987-04-23 Hitachi Maxell Ltd 磁気デイスク

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JPH0263257B2 (ja) 1990-12-27

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