JPH0263257B2 - - Google Patents

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JPH0263257B2
JPH0263257B2 JP23515883A JP23515883A JPH0263257B2 JP H0263257 B2 JPH0263257 B2 JP H0263257B2 JP 23515883 A JP23515883 A JP 23515883A JP 23515883 A JP23515883 A JP 23515883A JP H0263257 B2 JPH0263257 B2 JP H0263257B2
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JP
Japan
Prior art keywords
undercoat layer
layer
floppy disk
magnetic
magnetic layer
Prior art date
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Expired
Application number
JP23515883A
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English (en)
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JPS60127533A (ja
Inventor
Teruo Takahashi
Tamaki Kanai
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP23515883A priority Critical patent/JPS60127533A/ja
Publication of JPS60127533A publication Critical patent/JPS60127533A/ja
Publication of JPH0263257B2 publication Critical patent/JPH0263257B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/74Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
    • G11B5/82Disk carriers
    • G11B5/825Disk carriers flexible discs

Landscapes

  • Paints Or Removers (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明はフロツピーデイスクに関する。更に詳
しくは本発明は均一な光沢面を有しかつ耐溶剤
性、耐久性、電磁特性等に優れたフロツピーデイ
スクに関する。 従来技術 フロツピーデイスクは磁気記録媒体の一つとし
て、例えばワードプロセツサー等のOA機器の記
録媒体として用いられている。フロツピーデイス
クにおいて磁性層と支持体との接着性を向上させ
る目的で例えば塩化ビニリデン−アクリロニトリ
ル共重合体層を、またヘツド摩耗防止を目的とし
て特定のヤング率の熱可塑性エラストマー層を下
塗り層として前記磁性層と支持体の中間に設ける
ことは公知である。しかし、かかる下塗り層は、
接着力の向上やヘツド摩耗の低減には効果がある
ものの、フロツピーデイスクの耐久性の向上効果
に対しては不十分である。 近年フロツピーデイスクでは高記録密度を図る
ために磁性層の薄層化の傾向が顕著であり、磁性
層の厚みは2μm以下ものも必要になつてきてい
る。ところが磁性層の薄層化は耐久性の悪化をも
たらす。この耐久性の悪化は、本発明者の研究結
果によれば、前記熱可塑性エラストマーからなる
下塗り層を介在させることである程度改良される
が、一方、薄層化により他の問題が派生すること
が判明した。すなわち、かかる下塗り層を用いた
フロツピーデイスクでは、磁性層を塗布乾燥後表
面を研磨した段階で表面に光沢斑が発生し、外観
不良として不良品の対象となり、また電磁変換特
性の劣性がみられた。これは、下塗り層の上に磁
性層を塗布したとき磁性塗液の溶剤が下塗り層の
表層部を溶解し、磁性層と下塗り層の間に2つの
組成の混合層ができかつ塗布厚の斑が起るためと
推定される。この混合層は磁性層が厚いときは外
観不良および電磁変換特性への悪影響は小さい
が、磁性層が薄くなるとこの影響が多大となり、
光沢斑、電磁変換特性の劣性につながると推定さ
れる。 発明の目的 本発明の目的は、磁性層の薄層化に伴う問題点
を解消し、均一な光沢面を有しかつ耐溶剤性、耐
久性、電磁特性等に優れたフロツピーデイスクを
提供することにある。 発明の構成 本発明の目的は、ポリエステル支持体上に下塗
り層を、その上に磁性層を設けたフロツピーデイ
スクにおいて該磁性層の厚みが2μm以下であり、
更に該下塗り層が初期ヤング率100〜8000Kg/cm2
を有する三次元架橋した樹脂よりなりかつその厚
みが0.2〜3μmであることを特徴とするフロツピ
ーデイスクによつて達成される。 本発明においては下塗り層を構成する成分とし
てポリマーバインダーを用いる。このポリマーバ
インダーとしては例えばポリウレタン樹脂、飽和
ポリエステル、塩ビ−酢ビ系共重合体、エポキシ
樹脂、ブタジエン樹脂、不飽和のポリエステル又
はポリウレタン樹脂等が挙げられ、またこれらの
混合物であつてもよい。 更にこれらのポリマーを三次元架橋する目的で
硬化剤を用いるが、この硬化剤として例えば多価
イソシアネート化合物やエポキシ基と反応可能な
活性水素を有する化合物(例えばポリアミン等)、
更にまた不飽和のポリマーに対しては、ラジカル
重合可能なモノマー等を用いることができる。ま
た直鎖状ポリマーに三次元化可能なモノマー、オ
リゴマー、或はポリマーを加え、架橋反応を発現
させて直鎖状ポリマーをからみ込ませ、見かけ
上、三次元架橋させたものであつてもよい。例え
ば可溶性ナイロンに多官能アクリレートを混合
し、該多官能アクリレートをラジカル重合させる
事によつて得られる下塗り層がこの例示となる。 これらのポリマーの中で、適度な可撓性を有す
るポリウレタン樹脂を主成分とするものが好まし
く、下塗り層中のその含有量は30〜95重量%の範
囲がのぞましい。かかるポリマーバインダーが30
重量%より低いと下塗り層の可撓性やポリエステ
ルフイルムとの接着性が不足し、また95重量%を
超えると三次元架橋が困難になり耐溶剤性が劣化
する。このポリウレタンを主成分とする下塗り層
中に飽和ポリエステル樹脂を下塗り層重量当り4
〜40重量%含有させると支持体との接着性が更に
優れ、媒体の耐久性が向上するので好ましい。 下塗り層はある程度の可撓性が要求される。硬
すぎると下塗り層のクツシヨン効果による耐久性
の向上が期待できず、また軟かすぎると小さな応
力で磁性層が変形されやすく応力疲労により塗膜
の耐久性が低下する。このため下塗り層は初期ヤ
ング率100〜8000Kg/cm2を有する必要があり、更
に200〜6000Kg/cm2の初期ヤング率を有すること
が好ましい。 同じ理由で下塗り層の最適な厚みも制限され
0.2〜3μmが適当であり、またこの下塗り層の効
果を充分発揮させるには磁性層の厚みが2μm以下
であることが望ましい。 これらの下塗り層には種々な目的で例えば遮光
性や導電性を付与するカーボンブラツクや炭酸カ
ルシユウム等の無機物、シリコーンオイルの如く
の潤滑剤あるいは分散剤等の有機添加剤を含有さ
せることができる。 これらの下塗り層は従来から蓄積された被覆形
成技術によつて形成でき、例えば溶液ないしは塗
料として支持体(ベースフイルム)上に塗布し、
乾燥、組成に応じた架橋処理(例えば、熱処理、
紫外線処理、電子線処理)を行つて均一な被覆を
形成させる事によつて得られる。 本発明におけるポリエステル支持体は、従来か
らフロツピーデイスクの支持体として用いられて
いるものを用いることができ、ポリエステルとは
芳香族二塩基酸またはそのエステル形成誘導体と
ジオールまたはそのエステル形成性誘導体とから
合成される線状飽和ポリエステルである。ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート、ポ
リ(1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレフ
タレート)等が好ましく例示でき、これらの共重
合体またはこれらと小割合の他樹脂とのブレンド
物なども含まれる。上述の線状飽和ポリエステル
樹脂を溶融押出し、常法でフイルム状となし、配
向結晶化並びに熱処理結晶化せしめたものが本発
明のポリエステル支持体(ベースフイルム)とし
て好適である。フイルムの厚みは通常40〜100μ
である。 磁性層は、当業界に蓄積された技術によつて形
成できる。一般に磁性層は有機高分子化合物であ
るバインダーと磁性粉および潤滑剤、帯電防止
剤、研磨剤、分散剤等からできている。そして前
記バインダーとしては例えば塩ビ−酢ビ共重合
体、ポリウレタン樹脂、ニトロセルロース、飽和
ポリエステル樹脂等の如き熱可塑性樹脂、或はエ
ポキシ樹脂や、熱可塑性樹脂に例えばポリイソシ
アネート化合物の如き架橋剤を加えた熱硬化樹
脂、更には熱、活性光線、電子線等により架橋す
る多官能アクリレート等が用いられる。また磁性
粉末としてはγ−Fe2O3,Co−γ−Fe2O3
CrO2,Fe,バリウムフエライト等の針状微粒子
が用いられ、潤滑剤としてはシリコーンオイル、
カーボングラフアイト、各種脂肪酸や脂肪酸エス
テル等が、また帯電防止剤としてはカーボンブラ
ツク等が、さらにまた研磨剤としてはAl2O3
Cr2O3等が主に用いられる。その他に分散剤とし
てレシチンや界面活性剤等が用いられる。 フロツピーデイスクは一般に75μ程度の厚さの
ポリエステルフイルムの両面に磁性層を設け、直
径3〜8インチ程度の円盤状に打抜いたものでワ
ードプロセツサー等のOA機器の記録媒体として
用いられる場合が多い。磁気記録の書き込み、呼
び出しはフロツピーデイスクの両面に対置して一
定圧力で接触している磁気ヘツドにより行われ
る。本発明における下塗り層が、特にフロツピー
デイスクの耐久性向上に効果があるのはフロツピ
ーデイスクに磁気ヘツドから両面同時に加わる摺
動低抗および接触圧力の影響をこの層が緩和する
ためと思われる。 実施例 次に実施例を掲げて本発明を更に詳述する。な
お、実施例及び比較例における「部」はすべて
「重量部」を意味する。 実施例 1 下塗り層として ポリウレタン樹脂 70部 塩化ビニル−酢酸ビニール−ビニルアルコール
共重合体 10部 ポリイソシアネートからなる架橋剤 5部 MIBK(メチルイソブチルケトン)−トルオー
ル・シクロヘキサノン混合溶剤 200部 からなる組成物を混合溶解した後75μmのボリエ
ステルフイルム基体両面に乾燥厚みが片面1.0μm
となるように塗布し、乾燥させた。 なお上記組成物をテフロンシート上に乾燥厚み
150μmになるように塗布乾燥し、短冊状にし、そ
の初期ヤング率を測定したところ800Kg/cm2であ
つた。 次いで磁性層として、 γ−Fe2O3 70部 ポリウレタンエラストマーと水酸基を有する塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体からなる磁気記
録用バインダー 17部 カーボンブラツク 5部 分散剤 2部 高級脂肪酸エステル 3部 ポリイソシアネートからなる架橋剤 2部 テトラヒドロフラン,シクロヘキサン混合溶剤
180部 からなる組成物を下塗り層両面上に乾燥厚さが片
面、1.0μmとなるように塗布し、乾燥後表面をカ
レンダー処理したうえで加熱架橋し、円板状に打
抜き、更に平均粒径2μmのアルミナを研磨材とす
るラツピングテープで磁性層の表面を磨きフロツ
ピーデイスクを得た。 実施例 2 下塗り層として ポリウレタン樹脂 60部 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体 20部 飽和ポリエステル共重合体 10部 ポリイソシアネートからなる架橋剤 10部 MIBK、トルオール・シクロヘキサノン混合溶
剤 200部 からなる組成物を実施例1と同様な方法で厚み
0.6μmの下塗り層を有し、0.8μmの磁性層のフロ
ツピーデイスクを得た。このときの下塗り層の初
期ヤング率は2000Kg/cm2であつた。 比較例 1 実施例1において下塗り層を付与せず、磁性層
を直接ポリエステルフイルム基体両面に設ける以
外は実施例1と同様にして、フロツピーデイスク
を得た。 比較例 2 実施例1において下塗り層のポリイソシアネー
ト架橋剤を含まない(すなわち下塗り層が熱可塑
型である)以外は実施例1と同様にして、フロツ
ピーデイスクを得た。 比較例 3 下塗り層として 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体 60部 ポリイソシアネートからなる架橋剤 40部 MIBK、トルオール,シクロヘキサノン混合溶
剤 200部 からなる組成物を実施例1と同様な方法で塗布し
て、1.0μmの下塗り層を設けその他は実施例1と
全く同様にしてフロツピーデイスクを得た。この
ときの下塗り層の初期ヤング率は19000Kg/cm2
あつた このようにして製作した各実施例、比較例のフ
ロツピーデイスクの耐久性の評価を5.25インチの
両面型フロツピーデイスク装置を用いて雰囲気温
度50℃で行つた。フロツピーデイスクの耐久時間
は同一トラツクで連続してヘツドロード下で回転
させて、出力レベルが初期値の80%以下になる時
間をもつて表わした。 光沢面による不良の発生については5枚のフロ
ツピーデイスクの磁性層の研磨面の霞状の蜘蛛巣
模様の斑を目視判定し、不良枚数を評価した。 この結果を表1に示す。
【表】 発明の効果 フロツピーデイスクにおいて磁性層が2μm以下
の場合には耐久性が問題であるが、本発明の下塗
り層を設けることにより、耐久性が著しく向上
し、かつデイスク製造時の歩留も良好に保持され
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ポリエステル支持体上に下塗り層を、その上
    に磁性層を設けたフロツピーデイスクにおいて、
    該磁性層の厚みが2μm以下であり、更に該下塗り
    層が初期ヤング率100〜8000Kg/cm2を有する三次
    元架橋した樹脂よりなりかつその厚みが0.2〜
    3μmであることを特徴とするフロツピーデイス
    ク。 2 下塗り層がポリウレタン樹脂を主成分とする
    ポリマーバイダーを30〜95重量%含むことを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載のフロツピーデ
    イスク。 3 ポリマーバインダーが下塗り層重量当り3〜
    40重量%の飽和ポリエステル樹脂を含むことを特
    徴とする特許請求の範囲第2項記載のフロツピー
    デイスク。
JP23515883A 1983-12-15 1983-12-15 フロツピ−デイスク Granted JPS60127533A (ja)

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JP23515883A JPS60127533A (ja) 1983-12-15 1983-12-15 フロツピ−デイスク

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JP23515883A JPS60127533A (ja) 1983-12-15 1983-12-15 フロツピ−デイスク

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JPS60127533A JPS60127533A (ja) 1985-07-08
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JP23515883A Granted JPS60127533A (ja) 1983-12-15 1983-12-15 フロツピ−デイスク

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JPH0785304B2 (ja) * 1985-10-15 1995-09-13 日立マクセル株式会社 磁気デイスク

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