JPS6012547A - 高コントラストホトレジスト現像剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な現像剤およびポジティブホトレジスト層
を現像する改良法、さらに詳しくはアルカリ可溶性樹脂
であるジアゾケトンホトレジストを処理して、現像され
たホトレジストのコントラストを高める際に使用する現
像剤に関する。本発明は、生じるすべての露出差の不利
な効果の影響紫よシ小さくする点で特に有用である。す
なわちコントラストが高ければ高いほど、露出の差によ
るホトレジストの現像・ぞターンにおける幾何学的寸法
への影響は少なくなるので、特に有用である。

但し、もちろん、ホトレジストの露出は適切なものとし
てである。

ホトレジストは、ホトレジストフィルムを基体表面に塗
布し、照射源、たとえば紫外線、にさらした後に、その
現像液に対する溶解度レスポンスが変化する材料である
。露出の結果、ホトレジストフィルムの露出部分と非露
出（マスクした）部分との間に溶解速度差が生じ、フィ
ルムの現像後、表面レリーフ・ξターンが生じる。露出
部分がよシ高度に可溶性となる。これらのホトレジスト
は、ポジティブホトレジストと呼ばれる。しかしながら
、ホトレジストの溶解度の変化は相対変化にすぎず、ホ
トレジストのあまり可溶性でない非露出部分でもある程
度溶解するので、ホトレジストの相対的に可溶性の部分
と相対的に非可溶性の部分との間の現像速度の差（一般
的にはコントラストと呼ばれる）を高める方法はすべて
有利力方法である。

ポジティブホトレジストは一般的には、水性のアルカリ
可溶性樹脂、たとえばノボラック樹脂または＄す（ｐ−
ヒドロサシスチレン）とジアゾナフトキノンスルホン酸
エステル増感剤とからなる。

樹脂および増感剤は、スピンコーティングのような方法
で、有機溶剤または溶剤混合物から支持体。

たとえばシリコンウニ７アーおよびクロムメッキガラス
プレート、上に塗布する。ポジティブホトレジストの処
理に使われてきた現像剤は水性アルカリ溶液、たとえば
珪酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、
テトラメチル水酸化アンモニウムおよび水酸化アンモニ
ウムである。現像剤は、レジストフィルムに・ξターン
を生ぜしめるために光または他の照射形態にさらされた
被覆ホトレジストフィルム部分を除去する。

現行のポジティブホトレジストシステムでは処理条件に
より３ないし５のコントラスト（ガンマ−）が得られる
。この程度のガンマであることに伴ない種々の問題が生
じることは報告されている性能から明らかである。一般
的には、高いガンマすなわちガンマ５は弱い現像剤を使
用しそして現像時間を長くすることによって得られるが
、処理をコントロールするために感度が低下する。従っ
て、感度を犠性にせずに、少なくとも５、好ましくは１
０の程度またはこれより上のガンマにしうる現像剤が望
まれていることは明らかである。

本発明によって、ホトレジストのコントラストを高める
、ポジティブホトレジスト金属イオン水性塩基現像剤が
提供される。得られるガンマは５よシ上、最適には１０
よシ上でおる。コントラストが高いと、ホトレジストの
イメージン〆の際におけるライン幅のコントロールおよ
び処理寛容度が高まる。ライン幅のコントロールは、被
覆支持体上に段または地勢が網羅されているレジストに
、細かい線をはつさシと示そうとする場合に重要である
。・ξターン化したレジストの幾何学的模様のライン幅
の寸法はラインが段を横切るときに変化する。レジスト
のコントラストが高くなるほど、段を横切る寸法変化の
効果は小さくなる。高いコントラストによって得られる
処理寛容度は、隣接部分の非露出レジストに影響を及ぼ
すことなく、霧出レジスＩｆ過度に現像する（よシ長く
現像する）ことができるためである。その結果Ｓ　１マ
イクロメ一ター未満の極く小さ表幾何学的模様をつける
ことができ、そしてレジスト処理は条件、たとえば露出
、現像剤濃度および温度、の変化にあまシ影響されない
。

高コントラストは、非イオン性フルオロカーボン界面活
性剤を水性アルカリ金属塩基、好ましくは水酸化カリウ
ムまたはナトリウム、現像剤に添加することによる本発
明に従って得られる。界面活性剤の混入で予想外のそし
てもつとも実際的な改良がホトレジスト現像剤に加えら
れる。本発明のフルオロカーボン界面活性剤変性現像剤
を使ったコントラストの改良は、界面活性剤の異なる現
像剤するいはフルオロカーボン界面活性剤を除いた現像
剤で得られるコントラストと比較すると、一般的に３倍
以上になる。

図面の数字は、フィルムを現像した後の標準化したフィ
ルムの厚み対曲線Ａで示すようなフィルム露出の対数の
プロットからなる。露出は、レジストにあたる電磁線（
ｒａｄｉａｔｉｏｎ）を説明する適当な測定単位％たと
えば平方センナメーター当シのミリジュール（、、Ｊ／
ｃｌｌ）、　で表わしうる。残留フィルムの厚みは非露
出フィルムの現像後の厚みに対して標準化する。コント
ラストは、フィルム損失が生じている直線部分上の曲線
の切線のこう配の負数として表わす。ガンマ（γ）の計
算式は以下の通）である： （式中、Ｅ、は、切線Ｅ、Ｂ　が残留フィルムのなくな
る軸をさえぎる露出量であシ、Ｅ、は曲線の切線が完全
な残留フィルムの厚みをさえぎる（点Ｂ）露出である。

本発明の現像剤を用いるホトレジストは、組成物の無用
部分が露出と同時によシ可溶性となる増感剤−樹脂組成
物である。

、この種のポジティブホトレジストに使用される適当な
増感剤は１分子の隣接位置にジアゾおよびケト基を有す
るジアゾケトン類、たとえばここに参考文献としてあげ
る米国特許第２，９５８，５９９号、第３，０４６，１
１０号、第３，０４６，１１４号、第３，０４６，１１
６号、第３，０４６，１１８号、第３，０４６，１１９
号、第３．０４６，１２１号。

第３，０４６，１２２号、第３．０４６，１２３号。

第３，１０６，４６５号、第３，１４８，９８３号、第
３，６３５，７０９号、第３，７１１，２８５号。

第４，１７４，２２２号に記載のキノン−ジアジド８ス
ルホン酸誘導体類である。ポジティブホトレジストに使
用する代表的な感光性化合物の例を表１に示す。光増感
剤は樹脂の溶解度を減じる働きをする。照射と同時に、
光増感剤は化学反応を行なって露出部分のホトレジスト
の可溶化速度を高めるカルボン酸を形成する。

（ｌ渇 ３８Ｃ 一般に、ジアゾナフトキノン基を一つよシ多く含有する
光増感剤は、ホトレジストをよシ高いコントラストのも
のにするので好ましい。適当なアルカリ可溶性樹脂をポ
ジティブホトレジストに用いうる。本発明で考えられる
これらのものは、ノボラックとして知られている市販の
プレポリマー化したフェノールアルデヒド樹脂、たとえ
ばフェノールホルムアルデヒド９、である。この種の樹
脂は、参考文献としてここにめげる、米国特許第３，２
０１，２３９号、第３．８６８，２５４号、第４，１２
３，２１９号および第４，１７３，４７０号に明らかに
されている。これうのフェノールアルデヒド″樹脂コン
パウンドは有機溶剤およびアルカリ水溶液に可溶性でな
ければならない。

周知の什成法で、いくつかのフェノール化合物類および
アルデヒドまたはアルデヒドを生成する化合物からノボ
ランク樹脂が得られる。使用しうるフェノール化合物類
にはフェノール、キシレノール、クレゾール、レゾルシ
ノール、ナフトール、ヒト９０キノン、アルキルフェノ
ール類おヨヒノ＼ロダン化フェノール類があるが、これ
らに限定されない。使用しうるアルデヒド類およびアル
デヒドを生成する化合物類の例はホルムアルデヒド、ア
セトアルデヒド、・クラホルムアルデヒドゝ、ホルマリ
ン、アクロレイン、クロトンアルデヒド９およびフルフ
ラールであるが、これらに限定されない。

本発明では、非イオン性フルオロカーボン界面活性剤を
、水性アルカリ金属塩基、好ましくは水酸化カリウム、
からなる現像剤に添加して、相当かつ予想外の改良がコ
ントラストに関して得られた。他のアルカリ塩基、たと
えば水酸化す）　ＩＪウム、珪酸ナトリウムおよび水酸
化リチウム、も用いうる。この予想外の改良を生ぜしめ
る界面活性剤は、式Ｒｆ−Ｙ−（ＯＨ２０Ｈ２０）ユＲ
〔式中、Ｙは−ＣＨ２ＣＨ２ｏ−１−８Ｏ□ＮＲ／−１
ＳＯ３，５Ｏ２Ｎ（Ｒ１）ＣＨ２ＣＯ２、ＣＯ２および
−ＧＯ−ＮＲ／　よ）なる群から選択した基であり、Ｒ
ｆは式ＣｐＦ２Ｐ＋、（式中、Ｐは３〜１７の整数であ
る）の直鎖または分岐鎖のいずれかであＪ、Ｒは水素ま
だは炭素原子数１〜３０のアシルまたはアルキルであシ
、ｍは２〜２６の整数であり、好ましくはｍは５〜２６
の整数であり、そしてＲｆ　は水素または炭素原子数１
〜６のアルキル基である〕で特徴づけられるものである
。この種のフルオロ界面活性剤の適当な例には、表■に
示すものおよび類似物そしてさらに一般的にはこれらの
混会物がある。

表■ ｂ　ＣＦ３（ＯＦ２）５−Ｃ−Ｎ（ＣＨ３）−（Ｇ（２
ＣＨ□Ｏ）１□−Ｇ（３ｃ　ＣＦ３（（Ｆ２）３−ＳＯ
２−ＮＨ−（ＣＨ２Ｏ（２０）□、−Ｇ（。

ｄ　ＣＦ′３（α２）８−田２（イ）−（１□開２Ｏ）
８−ａ−＋３ｇ　０Ｆ３（ＣｌＦ３）５−ω−０−（（
］（２Ｇ（２０）、−Ｃ４Ｈ０本発明のフルオロ界面活
性剤を含まないあるいは本発明のフルオロ界面活性剤以
外の界面活性剤たとえばエーロゾル０８（０，００５％
）の水酸化カリウム現像剤のような現像剤を使用すると
、コントラストは各々２．２および２．６であった。本
発明のフルオロカーボン界面活性剤では、たとえば、コ
ントラストは１２．５であった。比較のために使用した
ホトレジストはジアゾナフトキノンスルホｙｙエステル
光増感剤を含むノボラック樹脂であった。ホトレジスト
被覆はスピンコーティングで製造した。支持体は半導体
装置の製造に一般的に使用されるシリコンウェファ−で
あった。これらのウェファ−は２００℃で脱水ベークを
行々い、その後コーティングを行なう直前にキシレン中
の５０％へキサメチルジシラザンで２０秒間下塗り処理
した。ウェファ−を、厚み１ミクロメーター（μ７７１
）のレジストフィルムが得られるような速度で回転させ
た。被覆したウェファ−を１００℃にて３０分間、強制
空気対流炉内でベークした。ベーク後、同じウェファ−
に種々の露出量が加えられるように、裡々の光学濃度の
窓を有する、オブトーラインステップタブレットレゾル
ーションマスフでウェファ−を露出した。入射露光は、
露光しない場合から、レジストを支持体に至るまで現像
するのに十分な露光を行なう場合までの、ステップタブ
レントによる露光範囲を提供するものである。この技術
分野に熟練した人々であれば、別の方法で、評価のため
の既知の露出度の部分およびウェファ−を得ることもで
きる。

露出後、レジストを、公知の現像剤に適したいずれかの
方法、たとえば浸漬、スプレーおよび・ξドル法、で本
発明の現像剤組成物と接触させてよい。本発明の新しい
現像剤組成物は少なくともｐＨ９、好ましくはｐＨ約１
０．５より上、そしてさらに好ましくはＰＨ１２より上
で作用する。現像後、処理物を水ですすぎ、さらに従来
の方法で処理することができる。種々の露出度でのホト
レジストの残留厚みは、適当な方法、たとえば干渉計、
ブｏフィロメトリー（ｐｒｏｆｉＬｏｍｅｔｒｙ）　お
よび橢円偏光測定器、で測定できる。

曲線Ａで示すプロットはフィルムの残留厚み対各段階の
露出度の対数で作成した。コントラストは上記のように
曲線から決定した。一般、に、ガンマが高いほど、レジ
スト／現像剤システムの性能がよい。好ましいガンマ値
は、５を越えたものであり、最適なのは１０またはこれ
より上のガンマ値である。この作用の数学的関係は図面
の数字に示されている。フルオロカーボン界面活性剤の
量は現像剤の約０．０００１％〜約１．０％で使用する
のが有利である。さらに効果的なフルオロカーボン界面
活性剤の量は０．０００５％〜０．５％である。

好ましい範囲は０．００１〜０．１％である。水酸化カ
リウムの濃度は感度レイルの保持に応じて変化させなけ
ればガしない。界面活性剤を増加するにつれ、現像剤を
より高濃度にする必要がある。

アルカリ金属塩基には、ＫＯＨの他に、　ｔＪｚＯＨ。

Ｌｉ０Ｈ１珪酸ナトリウム等、または水性現像剤に溶解
したとき、水酸化カリウムと同等のイオン塩基度を供給
しうる化合物が含オれる。たとえは、珪酸ナトリウム全
使用する場合、Ｎα２０対５ＬＯ２の比は１：１〜３：
１が好ましい。アルカリ金属水酸化物の量は、たとえは
、ＫＯＨを使用する場合、約０．１％〜約１０％、好ま
しくは０．５％〜５％で変化させうる。以下の実施例で
本発明を説明する。実施例中の細部は、特許請求の範囲
に明示ししであるもの以外は限定されるものでは々い。

実施例１ ノボラック樹脂および表１の式１５に示す光増感剤をス
ピンコーティングしてホトレジスト被覆物を製造した。

支持体は、少なくとも１６時間２００℃脱水は−クを行
ない、次にコーティング直前にキシレン中の５０％へキ
サメチルジシラザンで２０秒間処理したシリコンウェフ
ァ−であった。ウェファ−は厚み１ミクロメーター（μ
ｍ）のフィルムが得られるように回転させた。被覆ウェ
ファ−を強制空気対流炉内で１００℃にて３０分間ベー
クした。ベーキング後、同じウェファ−に様々な露出量
を加えるために、種々の光学濃度の窓を有する、オプト
ーラインステップタブレットレゾルーションマスクを通
して、ウニ７アーを紫外光にさらした。入射露光は、露
光しない場合から、レジストを支持体に至るまで現像す
るのに十分な露光を行なう場合までの範囲である。０．
２５Ｎ水性水酸化カリウム現像液を製造した。上記のよ
うに７ボランク樹脂および増感剤からなるレジストを被
覆し、処理した。被覆支持体を、この現像液中で２２℃
にて６０秒間、浸漬現像した。これを脱イオン水中です
すぎ、乾燥した。コントラストおよび感度データを表■
に示す。

実施例２ ０、２５　Ｎ水性水酸化カリウム現像液を０．００５％
エーロゾルＯ８（インプロ♂ルナフタレンスルホン酸ナ
トリウム、アメリカン・サイアナミツト９社から市販さ
れている非弗素化界面活性剤）を添加して製造した。支
持体は実施例１に記載のようにして製造した。処理支持
体を、この現像液中に２２℃にて６０秒間、浸漬現像し
た。これを脱イオン水中ですすぎ、乾燥した。コントラ
ストおよび感度データを表■に示す。

実施例３ ０．２７Ｎ水性水酸化ナトリウム現像液を製造した。支
持体は実施例１に記載のように製造した。

処理した支持体を、２２℃にて６０秒間、この現像液中
で浸漬現像した。これを脱イオン水中ですすぎ、乾燥し
た。コントラストおよび感度データを表■に示す。

実施例４ ５．７％水水性メタ珪酸ナトリウム氷水化物現像液製造
した。支持体は実施例１に記載のように製造した。処理
した支持体を、２２℃にて６０秒間、この現像液中で浸
漬現像した。これを脱イオン水中ですすぎ、乾燥した。

コントラストおよび感度データを表■に示す。

実施例５ ０．２７１Ｎ水性水酸化カリウム現像液を、０．０１６
％の式Ｆ（ＣＦ２）３−６（ＣＨ２ＣＨ２０）５−２６
ＣＨ２ＣＨ２０Ｈの混合物を添加して製造した。支持体
は実施例１に記載のようにして製造した。処理した支持
体を、２２℃にて６０秒間、この現像液中で浸漬現像し
た。こ：ｎ、’ｅ脱イオン水中ですすぎ、乾燥した。コ
ントラストおよび感度を表■に示す、。

実施例６ ０．２７Ｎ水性水酸化ナトリウム現像液を、０．０１３
％の実施例５で使用した界面活性剤を加えて製造した。

支持体は実施例１に記載のようにして製造した。処理し
た支持体を、２２℃にて６０秒間、この現像液中で浸漬
現像した。これを脱イオン水中ですすぎ、乾燥した。コ
ントラストおよび感度データを表■に示す。

実施例７ ５．７％水水性メタ珪酸ナトリウム氷水化物現像液、０
．０１５％の実施例５で使用した界面活性剤を加えて製
造した。支持体は実施例１に記載のようにして製造した
。処理した支持体を、２２℃にて６０秒間、この現像液
中で浸漬現像した。これを脱イオン水中ですすぎ、乾燥
した。コントラストおよび感度データを表■中に示す。

実施例８ ０．２７Ｎ水性水酸化カリウム現像液を、ｏ、ｏｏｓ％
（７）弐Ｒｆ、−５ｏ２−Ｎ（Ｅｔ）−（ＣＨ２０Ｈ２
０）　１５−２６−ＧＯ−Ｃ２４Ｈ４９（式中、Ｒｆは
飽和フルオロアルキル０５Ｆ１１〜０７Ｆ□５　であり
、約２０％）Ｒｆハ分岐していた）の界面活性剤混合物
を加えて製造した。

支持体は実施例１に記載のようにして製造した。

処理した支持体を、２２℃にて６０秒間、この功像液中
で浸漬現像した。これを脱イオン水中ですすぎ、乾燥し
た。コントラストおよび感度は表ｍ中に示す。

実施例９ ０．２７水性水酸化カリウム現像液を、０．１２％ノ式
Ｒｆ−（ＣＨ２ａ（２０）２−２ｏ−ＣＨ２０Ｈ２ｏＣ
Ｈ３（式中、Ｒｆは飽和フルオロアルキルＣ３Ｆ１、〜
Ｃ７Ｆ□５　であり、約２０％のＲｆは分岐していた）
のフルオロカーボン化分物の混合物を添加して製造した
。支持体は実施例１に記載のようにして製造した。処理
した支持体を、２２℃にて６０秒間、この現像液中で浸
漬現像した。これを脱イオン水中ですすぎ、乾燥した。

コントラストおよび感度ブータラ表ｍに示す。

実施例１０ ５．７％水性メタ珪酸ナトリウム五水化物全、０．１２
％の実施例９で使用したフルオロカーボン界面活性剤の
混合物で製造した。支持体は実施例１に記載のようにし
て製造した。処理した支持体を、２２°Ｇ６０秒、この
現像液中で浸漬現像した。

これを脱イオン水中ですすぎ、乾燥した。コントラスト
および感度データ全表ｍに示す。

実施例１１ ０．１６Ｎ水性水酸化ナトリウム現像液を製造した。二
酸化シリコン支持体く増感剤が６０／３０／１０比の表
１の例１１／１／７から々る以外は、実施例１に記載の
ようにして製造した。処理した支持体を％２２℃にて６
０秒間、この現像液中で浸漬現像した。これを脱イオン
水中ですすぎ、乾燥した。コントラストおよび感度デー
タを表■に示す。

実施例１２ ０．１６Ｎ水性水酸化ナトリウム現像液を、０．０１５
％の実施例５で使用した界面活性剤混合物を加えて製造
した。支持体は実施例１１に記載のようにして製造した
。処理した支持体を、２２℃にて６０秒間、この現像液
中で浸漬現像した。

これを脱イオン水中ですすぎ、乾燥した。コントラスト
および感度データを表■に示す。

実施例１３ ０．１６Ｎ水性水酸化す）　Ｉ）ラム現像液を、ｏ、ｏ
ｏｓ％の実施例８の界面活性剤混会物で製造した。支持
体は実施例１１に記載のようにして製造した。処理した
支持体を、２２℃にて６０秒間、この現像液中で浸漬現
像した。これを脱イオン水中ですすき、乾燥した。コン
トラストおよび感度データを表■に示す。

実施例１４ 実施例５と同様な現像液を製造した。支持体は実施例１
に記載のようにして製造した。処理した支持体を、２２
℃にて３０秒間、この現像液中で・ぐドル現像した。こ
れを脱イオン水中ですすぎ、乾燥した。コントラストお
よび感度データを表■・　に示す。

実施例１５ ０．０１％のＣＦ３（ＯＦ２）５−Ｃｏ−Ｎ（ＯＨ３）
−（ＣＨ２０Ｈ２０）□３ＣＨ３′ｆｔ含有する０、１
６Ｎ水性水酸化ナトリウム現像液を製造した。支持体を
実施例１に記載のようにして製造した。処理した支持体
を、２２℃にて６０秒間、この現像液中で浸漬現像した
。これを脱イオン水中ですすぎ、乾燥した。コントラス
トおよび感度データを表■に示す。

実施例１６ ０．０１％のＣＦ３（ＣＦ２）３−８０２−ＮＨ−（Ｃ
Ｈ２ＣＨ２０）□４ＣＨ３ヲ含有する０、１６Ｎ水性水
酸化ナトリウム現像液を製造した。支持体は実施例１に
記載のようにして製造した。処理した支持体を、２２℃
にて６０秒間、この現像液中で浸漬現像した。これを脱
イオン水中ですすぎ、乾燥した。コントラストおよび感
度を表■１に示す。

実施例１７ ０．０１％のＣＦ３（ＣＦ２）８−８０２−〇−（ＣＨ
２ＣＨ２０）８−ＣＨ３を含有する０、２５Ｎ水性水酸
化カリウム現像液を製造した。支持体は実施例１１に記
載のようにして製造した。処理した支持体を、２２℃に
て６０秒間、この現像液中で浸漬現像した。これを脱イ
オン水中ですすぎ、乾燥した。コントラストおよび感度
データを表ｍに示す。

実施例１８ ０．０１％ノａＥ′３（ＣＦ２）５−■−（）−（ＯＨ
２０Ｈ２０）９Ｃ４Ｈ。

を含有する０、１６Ｎ水性水酸化ナトリウム現像液を製
造した。支持体は実施例１に記載のようにして製造した
。処理した支持体を、２２℃にて６０秒間、この現像液
中で浸漬現像した。これを脱イオン水中ですすぎ、乾燥
した。コントラストおよび感度データ全表■に示す。

実施例１９ ０、０１　％　Ｃ７）　式Ｒｆ−８ｏ２−Ｎ　（Ｅｔ　
）−ａ（２ＣＯ□−（ＣＨ２ＣＨ２０）　１５−２６−
ｃ２５Ｈ５１のフルオロカーボン界面活性剤混会物を含
有する０、２５Ｎ水性水酸化カリウム現像液を製造した
。支持体は実施例１１に記載のようにして製造した。処
理した支持体を、２２℃にて６０秒間、この現像液中で
浸漬混会した。これを脱イオン水中ですすき゛、乾燥し
た。コントラストおよび感度を表■に示す。

（２印 表■ ｌ　ＫＯＨナシ　２５　２．２ ２　ＫＯＨインプロピル−ナフタレ　２５　２．６ンス
ルホ４唆ナトリウム ３　ＮαＯＨナシ　４１．９ ４Ｎα２ＳｚＯ３ナシ９　１．８ ５　ＫＯＨＦ（ＣＦ２０Ｆ２）３−６−　ｓ　１２．５
（Ｃ；Ｈ２ＣＨ２０）５−２６− ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ ６ＮαＯＨ実施例５参照　１７　７．６７　Ｎα２８　
ＬＱ　ａ　実施例５参照　２６　８．３８　ＫＯＨ（ｃ
ｚｌ　Ｒｆ−ｓＯ２−Ｎ　（Ｅｔ）−１１１６，４（Ｏ
Ｈ２田２０）１５−２６− ＣｏＣ２４Ｈ４９ ９ＫＯＨ’　Ｉα）Ｒｆ−（ＣＨ２０Ｈ２０）　１１　
３．３（ＣＨ２ＣＨ２０）２−２ｏＣＨ３ １０Ｎα２ＳｔＯ３実施例９参照　１４　２．８１１　
ＮａＯＨナシ１１　３．２ （２９） １２　ＮａＯＨ実施例５参照　２８　１０．２１３　Ｎ
αＯＨ実施例８参照　２９　８．８１４　ＫＯＨ実施例
５参照　８　１２，０１５　ＮａＯＨ０Ｆ３（ＯＦ２）
５−００−Ｎ　２０　１０．０（ＣＨ３）−（ＣＨ２ａ
（□０）１□ −田。

１６　ＮαＯＨＣＦ３（ＣＦ２）３−８Ｏ２−ＮＨ−２
０１０，０（ａ（２ＣｙｒＸ２０）１４−ＣＨ３ １７Ｋｏ）（’　ＣＦ３（ＣＦ２）８−８Ｏ３−１０１
０，０（ＣＨ２ＣＨ２０）８−ＣＩ（３ １８ＮαＯＨ（ＣＦ３（ＣＦ２）５−００２−　１５　
１０．０（ＣＨ２ＣＨ２０）９−ａ（３ １９ＫＯＨ（α）■畳幻２−Ｎ（Ｅｔ　）−１５１０，
０Ｃ）（２ＣＯ２−（ＯＨ２０Ｈ２０） １ｓ−２６−Ｃ２５ＨＢ□ （α）Ｒｆ＝０５Ｆ、１−０７Ｆ１５テ、約２０　％（
Ｄ　Ｒｆは分岐している。

本発明は紫外光（２９０〜５００　ｎｍ）　に敏感なポ
ジティブホトレジストに関して述べてきたが、この新し
い現像剤は電子ビーム、Ｘ線、イオンビーム、ディープ
紫外（２２０〜２９０　ｎｍ）　光および他の電磁線に
敏感なポジティブレジストにも適用できる。

本発明を好ましい具体例に関して特に述べてきたが、こ
の技術分野に熟練した人々には、本発明の精神および範
囲から逸脱することなく形態および詳細の変更ができる
ことは言うまでもないであろう。

【図面の簡単な説明】

添付の図面は、フィルム現像後の、標準化したフィルム
の厚み対フィルム露出の対数をプロットした、現像剤コ
ントラスト曲線である。 特許出願人　アライド・コーポレーション０　０　Ｕ ｏ　’ｔ’ｒ ケ二一 アメリカ合衆国ニューヨーク州 １４２１９プラスデル・ジャックス ・トレイル４８０２

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）キノンジアジドスルホン酸誘導体類およびアルカ
   リ可溶性樹脂を支持体上に塗布したものからなる、そし
   て表面レリーフ・ξターンを形成するために電磁線（ｒ
   ａｄ、１ａｔｉｏｎ）に露出した、電磁線感応性ポジテ
   ィブレジストフィルムを現像する方法であって、 フィルムの露出部分が少なくとも部分的に溶解するまで
   、 露出フィルムを、現像剤の１量に基づいて少なくとも０
   ．０００１％の式： ％式％） 〔式中、Ｙは−ＣＨ２ＣＨ２０−１Ｓ○２ＮＲ／、Ｓ０
   ３．５Ｏ２Ｎ’（Ｒｆ）ＣＨ２ＣＯ２、ｃＯ２オヨび−
   Ｃ○−ＮＲ／、ｌｊ）なる群から選択した基であシ、Ｒ
   ｆは式ＣＰＦ２Ｐ＋□　（式中、Ｐは３〜１７の整数で
   ある）の直鎖および分岐鎖よりなる群から選択した基で
   あシ、Ｒは水素または炭素原子数１〜３０のアシルまた
   はアルキルであり、ｍは２〜２６の整数であシ、そして
   Ｒ′は水素または炭素原子数１〜６のアルキル基である
   〕 で表わされるフルオロカーボン界面活性剤を含む水性ア
   ルカリ現像剤と接触させる、 ことよシなる上記の方法。 （２）（α）水性アルカリ金属塩基 （ｂ）　水および ＜ｃ＋　全重量に基づいて少なくとも０．０００１％の
   式： ％式％） 〔式中、Ｙは−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−１−８Ｏ２ＮＲ／。 ＳＯ３，５０２Ｎ（Ｒ１）ＣＨ２ＣＯ２、ＧＯ□オヨヒ
   −Ｃｏ−ＮＲ／　よシなる群から選択した基であシ、Ｒ
   ｆは式ＣｐＦ２ｐ＋□　（式中、Ｐは３〜１７の整数で
   ある）の直鎖および分岐鎖よシなる群から選択した基で
   あシ、Ｒは水素または炭素原子数１〜３０のアシルまた
   はアルキル基であり、ｍは２〜２６の整数であシ、そし
   てＲ′は水素または炭素原子数１〜６のアルキル基であ
   る〕 で表されるフルオロカーボン界面活性剤よシなる電磁線
   感応性フィルム用の現像剤。 （３）（α）が水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム
   よシなる群から選択したものであシ、そして（Ｃ１が約
   ０．００１％〜約０．１％の量で存在する、特許請求の
   範囲第（２）項記載の現像剤。 （４）　（Ｃ１が式： ％式％） 〔式中、Ｒｆは式ＣｐＦ２Ｐ＋１（式中、ｐは５〜１０
   の整数である）で表わされる分岐または非分岐フルオロ
   カーボンフラグメントであシ、Ｙバー５Ｏ２−Ｎ（Ｒ’
   ）−ＣＨ２ＣＯ２−−？ｌ’６す、Ｒ′は炭素原子数１
   〜４のアルキル基であり、ｍは１５〜２６の整数であり
   、そしてＲは炭素原子数１５〜３０のアルキル基である
   〕で表わされるフルオロケミカル界面活性剤である、特
   許請求の範囲第（２）項記載の現像剤。 （５１（Ｃ１が式： ％式％） 〔式中、Ｒｆは式ＣＰＦ２Ｐ＋１（式中、ｐは５〜，１
   ０の整数である）の分岐または非分岐フルオロカーボン
   であり、Ｙは一３Ｏ２Ｎ（Ｒｆ）−でロシ、Ｒ′は炭素
   原子数１〜４のアルキル基であシ、ｍは１５〜２６の整
   数であり、そしてＲは炭素原子数１５〜３０のアシル基
   である〕 で表わされるフルオロケミカル界面活性剤である、特許
   請求の範囲第（２）項記載の現像剤。 （６）半導体装置を形成するために支持体上に塗布した
   感光性樹脂フィルムの露光したものを、現像するための
   現像剤組成物であって、約１０．５よシ上のｐＨとする
   のに十分なアルカリ金属水酸化物を含有し、そして約０
   ．０００１〜約１．０００％の式： ％式％） 〔式中、Ｙは−ＣＨ２ＣＨ２０−１ＳＯ２ＮＲ１１ＳＯ
   ３，５Ｏ２Ｎ（Ｒ１）ＣＨ２ＣＯ３ＣＯ２および−Ｇｏ
   −ＮＲ／よシなる群から選択した基であり、Ｒｆは式Ｃ
   ＰＦ２Ｐ＋□　（式中、ｐは３〜１７の整数である）で
   表わされる直鎖および分岐鎖よシなる群から選択した基
   であシ、Ｒは水素または炭素原子数１〜３０のアシルま
   たはアルキル基でめシ、ｍは２〜２６の整数であシ、そ
   してＲ′は水素または炭素原子数１〜６のアルキル基で
   ある〕 で表わされるフルオロカーボン界面活性剤を含む、水溶
   液からなる上記の現像剤組成物。 （カ　アルカリ金属水酸化物が水酸化カリウムである、
   特許請求の範囲第（６）項記載の組成物。 （８）（α）水性アルカリ金属塩基、 （ｈ）　水および （？ｌ　式： ％式％） 〔式中、　Ｒｆ　ｆ−ｉ式ＣＰＦ２ｐ＋□　のフルオロ
   カーボンフラグメントであり、Ｐは３〜１７の整数でめ
   シ、Ｙは−ＣＨ２ＣＨ２０−であシ、ｍは５〜２６の整
   数で１）、そしてＲはＨである〕 で表わされるフルオロケミカル界面活性剤よシなる電磁
   線感応性フィルム用の現像剤。 （９）（α）が水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム
   よシなる群から選択したものであシ、そして（Ｃ１が約
   ０．０００５％〜約０．５％の量で存在する、特許請求
   の範囲第（８）項記載の現像剤。