JPS60122138A - 情報記録円板の製造装置 - Google Patents
情報記録円板の製造装置Info
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- JPS60122138A JPS60122138A JP23035883A JP23035883A JPS60122138A JP S60122138 A JPS60122138 A JP S60122138A JP 23035883 A JP23035883 A JP 23035883A JP 23035883 A JP23035883 A JP 23035883A JP S60122138 A JPS60122138 A JP S60122138A
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- JP
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- resin layer
- vacuum
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- Pending
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Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/44—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with means for, or specially constructed to facilitate, the removal of articles, e.g. of undercut articles
- B29C33/46—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with means for, or specially constructed to facilitate, the removal of articles, e.g. of undercut articles using fluid pressure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
- B29C43/32—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C43/50—Removing moulded articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D17/00—Producing carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records; Producing record discs from master stencils
- B29D17/005—Producing optically read record carriers, e.g. optical discs
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
１１Ｌ」
本発明は、放射線硬化樹脂を用いた情報記録円板（以下
単にディスクと称する）の製造装置に関するものである
。
単にディスクと称する）の製造装置に関するものである
。
丘１」Ｕ（
この種の装置においては、ベース上に接着剤等で固定さ
れたスタンバ−の信号面上に液状の放射線硬化樹脂を塗
布し、その上に透明な基板をｄさ、これを介して放射線
を照射し放射線硬化樹脂を硬化させてスタンバ−に刻ま
れた信号を転写し、しかる後硬化した樹脂層を透明基板
と一体にスタンバ−から剥離することにより、ディスク
を製造するようになされている。そして剥離されたディ
スクにアルミ蒸着膜をつ番）、更にＡ゛−バーコードす
ることにより完成品となるのである。
れたスタンバ−の信号面上に液状の放射線硬化樹脂を塗
布し、その上に透明な基板をｄさ、これを介して放射線
を照射し放射線硬化樹脂を硬化させてスタンバ−に刻ま
れた信号を転写し、しかる後硬化した樹脂層を透明基板
と一体にスタンバ−から剥離することにより、ディスク
を製造するようになされている。そして剥離されたディ
スクにアルミ蒸着膜をつ番）、更にＡ゛−バーコードす
ることにより完成品となるのである。
このディスクの製造に−３いて、スタンバ−の信号面に
塗布された液状の樹脂の上に透明基板を載置するときに
、泡を巻き込み易く、泡を巻き込／ｖだまま硬化させる
と、泡の部分ではスタンバ−の信号を転写できないこと
になる。この樹脂層内への泡の混入を防止すうために、
従来、種々の方法が提案されているが、未だ完全なもの
はない。
塗布された液状の樹脂の上に透明基板を載置するときに
、泡を巻き込み易く、泡を巻き込／ｖだまま硬化させる
と、泡の部分ではスタンバ−の信号を転写できないこと
になる。この樹脂層内への泡の混入を防止すうために、
従来、種々の方法が提案されているが、未だ完全なもの
はない。
ｌ乱立１に
そこで、本発明は、樹ｍ層内への泡の混入を確実に防止
し、スタンパ−から樹脂層ｌ＼の信号の転写を確実に行
い得る情報記録円板の製造装置を捉供することを目的と
する。
し、スタンパ−から樹脂層ｌ＼の信号の転写を確実に行
い得る情報記録円板の製造装置を捉供することを目的と
する。
本発明による製造装置において＆、１、スタンパ−が同
定されたベースとスタンパ−」に液状の／ＩＩ身・１線
硬化樹脂を介して載置されｌこ透明Ｊ１（板との間を所
定の真空度に減圧するど共に、該透明基板をベース側と
その反対側との気圧差にＪ、つ−（スタンパ−に押しつ
ける構成となっ（いる。
定されたベースとスタンパ−」に液状の／ＩＩ身・１線
硬化樹脂を介して載置されｌこ透明Ｊ１（板との間を所
定の真空度に減圧するど共に、該透明基板をベース側と
その反対側との気圧差にＪ、つ−（スタンパ−に押しつ
ける構成となっ（いる。
丸１１
以下、本発明の実施例を図面に導、１づいて説明覆る。
第１図において、本発明に係るディスクの製造装置は、
スタンパ−の信号面上に液状の放射線硬化樹脂（以下フ
ォトポリマーど称りる〉を塗４ｒりる工程を担う塗布装
置１ど、ノＡ１−ポリマー上に透明基板を載置し加圧し
−Ｃ前記スタンパーに刻まれた信号をフォトポリマーに
転写りる工程及び次の照射工程を経て硬化した樹脂層を
前記透明連Ｊ板と一体にスタンパ−から剥＠Ｊる工程を
担う転写・剥離装置２と、スタンパ−と透明基板との間
に充填されている液状のフォトポリマーを紫外線照射に
よって硬化させる工程を担う照射装置３とからなり、各
装置に頁って設りられたリニアスライド軌道台４上をデ
ープル本体５が移動りることによって上記一連の工程を
連続しＣ行い、ディスクを製造する構成となっている。
スタンパ−の信号面上に液状の放射線硬化樹脂（以下フ
ォトポリマーど称りる〉を塗４ｒりる工程を担う塗布装
置１ど、ノＡ１−ポリマー上に透明基板を載置し加圧し
−Ｃ前記スタンパーに刻まれた信号をフォトポリマーに
転写りる工程及び次の照射工程を経て硬化した樹脂層を
前記透明連Ｊ板と一体にスタンパ−から剥＠Ｊる工程を
担う転写・剥離装置２と、スタンパ−と透明基板との間
に充填されている液状のフォトポリマーを紫外線照射に
よって硬化させる工程を担う照射装置３とからなり、各
装置に頁って設りられたリニアスライド軌道台４上をデ
ープル本体５が移動りることによって上記一連の工程を
連続しＣ行い、ディスクを製造する構成となっている。
塗布装置１において、ベース板６」−に直立したロッド
７．７には基台８が上下動自在に取りイ」けられ、この
基台８には軸９が回転自在に取り（＝Ｊ（ノられている
。第２図から明らかな様に、軸９はその上端に固定され
たプーリ１０に架設されたベルト１１を介して、基台８
上に担持されたモータ１２により回転駆動される。軸９
の下端には吐出装置１３が収り句けられている。吐出装
置１］ま軸９の軸芯から所定比１１１［ｆＬだり離れて
設番プられたニードル部１４を備え、このニードル部１
４を後述するスタンパ−１５（第２図参照）の信号面上
に液状のフォ１−ポリマーを一定吊吐出づる。このとき
吐出装置１３がモータ１２の回転に伴って軸９と一体に
回転し、かつニードル部１４が軸９の軸芯から所定距離
したけ離れているので、スタンパ−１５の信＠向上に吐
出されるノＡ１−ポリマーは上記所定比１１ｔＬを半径
と覆る環状となる。上記所定距離しはニードル部１４の
位１ｒりを調整リーる調整機構１６によって可変であり
、スタンパ−１５の信号面の面積、フォトポリマーの語
数等に応じ（−適当に設定される。調整機構１６は、ニ
ードル部１４の本体に螺合した螺旋軸１７及びこれを回
転せしめるハンドル１８等により構成される。
７．７には基台８が上下動自在に取りイ」けられ、この
基台８には軸９が回転自在に取り（＝Ｊ（ノられている
。第２図から明らかな様に、軸９はその上端に固定され
たプーリ１０に架設されたベルト１１を介して、基台８
上に担持されたモータ１２により回転駆動される。軸９
の下端には吐出装置１３が収り句けられている。吐出装
置１］ま軸９の軸芯から所定比１１１［ｆＬだり離れて
設番プられたニードル部１４を備え、このニードル部１
４を後述するスタンパ−１５（第２図参照）の信号面上
に液状のフォ１−ポリマーを一定吊吐出づる。このとき
吐出装置１３がモータ１２の回転に伴って軸９と一体に
回転し、かつニードル部１４が軸９の軸芯から所定距離
したけ離れているので、スタンパ−１５の信＠向上に吐
出されるノＡ１−ポリマーは上記所定比１１ｔＬを半径
と覆る環状となる。上記所定距離しはニードル部１４の
位１ｒりを調整リーる調整機構１６によって可変であり
、スタンパ−１５の信号面の面積、フォトポリマーの語
数等に応じ（−適当に設定される。調整機構１６は、ニ
ードル部１４の本体に螺合した螺旋軸１７及びこれを回
転せしめるハンドル１８等により構成される。
第３図にＪ３いて、転写・剥１ＩＩＩｌ装置２は、先述
したテーブル本体５上に担１４されｃ８装置間を移動Ｊ
る下部ハウジング２０と１．１１・動自在にｍ ４）ら
れ下部ハウジング２０とにＪ：っＣ適宜密開室を形成す
る上部ハウジング２１とを含ｌυでいる。下部、ハウジ
ング２０の上面凹部２０ａにはスタンパ−ベース２２が
嵌着され、下部ハウジング２０の中心孔２０ｂには駆動
部本体２３が嵌着されている。
したテーブル本体５上に担１４されｃ８装置間を移動Ｊ
る下部ハウジング２０と１．１１・動自在にｍ ４）ら
れ下部ハウジング２０とにＪ：っＣ適宜密開室を形成す
る上部ハウジング２１とを含ｌυでいる。下部、ハウジ
ング２０の上面凹部２０ａにはスタンパ−ベース２２が
嵌着され、下部ハウジング２０の中心孔２０ｂには駆動
部本体２３が嵌着されている。
駆動部本体２３の中心部にはシＩｌフト２／Ｉが上下動
自在に挿通され、このシャツ１〜２４の上端には担持部
材としてのセンターボス２５が嵌着されている。駆動部
本体２３とシャツｔ−２４どの間にはスクレーパ２６及
びシール２７が介在し、ベース２２の内周部にお＆Ｎ
−（０リングＪ ２ ａ ｌ Ｊ ２ｂと協働してベー
ス２２と後述するＶブストレートどの間の気密性を維持
する手段を構成りる。シｔ／フト２４の下端にはカム押
え２８を介してカムノＡロア２９が回転自在に設（〕ら
れており、このカカムフロロア２はシャツ］−３０に固
定されたカム３１のカム面に、スプリング３２の弾発力
によりＬＥ接している。シ１シフト３０は図示せぬ駆動
源により適宜駆動され、これにＪ：リヒンターボス２５
が上下動りるが、通常は上が位置にある。スタンパ−ベ
ース２２上にはスタンパ−１５が接着剤等により固着さ
れている。スタンパ−１５最外周部及び最内周部に沿っ
て環状溝３３ａ 、３３ｂが形成されて６３す、これら
環状溝３３ａ、３３ｂは下部ハウジング２０及び駆動部
本体２３にそれぞれ形成された連通路３４ａ 、３４ｂ
及び真空配管３５゜３６を介して減圧手段である図示ゼ
ぬ真空ポンプに連通している。
自在に挿通され、このシャツ１〜２４の上端には担持部
材としてのセンターボス２５が嵌着されている。駆動部
本体２３とシャツｔ−２４どの間にはスクレーパ２６及
びシール２７が介在し、ベース２２の内周部にお＆Ｎ
−（０リングＪ ２ ａ ｌ Ｊ ２ｂと協働してベー
ス２２と後述するＶブストレートどの間の気密性を維持
する手段を構成りる。シｔ／フト２４の下端にはカム押
え２８を介してカムノＡロア２９が回転自在に設（〕ら
れており、このカカムフロロア２はシャツ］−３０に固
定されたカム３１のカム面に、スプリング３２の弾発力
によりＬＥ接している。シ１シフト３０は図示せぬ駆動
源により適宜駆動され、これにＪ：リヒンターボス２５
が上下動りるが、通常は上が位置にある。スタンパ−ベ
ース２２上にはスタンパ−１５が接着剤等により固着さ
れている。スタンパ−１５最外周部及び最内周部に沿っ
て環状溝３３ａ 、３３ｂが形成されて６３す、これら
環状溝３３ａ、３３ｂは下部ハウジング２０及び駆動部
本体２３にそれぞれ形成された連通路３４ａ 、３４ｂ
及び真空配管３５゜３６を介して減圧手段である図示ゼ
ぬ真空ポンプに連通している。
一方、上部ハウジング２′１は通常下部ハウジング２０
から離間した位置に保持され（Ｊ５す、塗布工程から転
写工程への移行が完了すると、下降して下部ハウジング
２０とによって密閉室を形成りる。上部ハウジング２１
にはその中心に関して等角度にて例えば６個の真空パッ
ド；３７が後述りるサブストレートの上面に吸８′！Ｉ
る吸ｊ′ｊ手段とし゛（設けられ、更にこれら真空パッ
ドご′３７の外側に（，１これら真空パッド３７間に位
１首りるＪ、うに例えば６個の真空パッド３８がそれぞ
れ上下動自在に設りられている。これら真空パッド３７
．３８は真空配管３９．４０を介して図示Ｕぬ真空ポン
プに連通しており、上部ハ１クジング２１の上面に設（
ノられたジグシリンダ４１．４２によつ−（’−Ｌ小動
Ｕしめられる。ジグシリンダ４１は、空−油変模を行っ
た油駆動のもので、微速度送りが川面である。
から離間した位置に保持され（Ｊ５す、塗布工程から転
写工程への移行が完了すると、下降して下部ハウジング
２０とによって密閉室を形成りる。上部ハウジング２１
にはその中心に関して等角度にて例えば６個の真空パッ
ド；３７が後述りるサブストレートの上面に吸８′！Ｉ
る吸ｊ′ｊ手段とし゛（設けられ、更にこれら真空パッ
ドご′３７の外側に（，１これら真空パッド３７間に位
１首りるＪ、うに例えば６個の真空パッド３８がそれぞ
れ上下動自在に設りられている。これら真空パッド３７
．３８は真空配管３９．４０を介して図示Ｕぬ真空ポン
プに連通しており、上部ハ１クジング２１の上面に設（
ノられたジグシリンダ４１．４２によつ−（’−Ｌ小動
Ｕしめられる。ジグシリンダ４１は、空−油変模を行っ
た油駆動のもので、微速度送りが川面である。
−Ｌ部ハウジング２１の中火突出部２１ａには、トンタ
ーボス２５上に載置され／、：透明基板（以上リブスト
レートと称する）４３の中火部を押えるｌ、：めのセン
ター押え４４が１−不動自在に嵌合している。このセン
ター押え４４はスプリング４５ににり下方に付勢され、
ストッパ−／Ｉ ６によって１！１ＩｌｌＩ１２防止が
図られている。真空パッド３７はハウジング密１１１状
態の初期にａ５い′Ｃサブストレーｉ〜４３の上面に接
触する高さ位置に保持されている。
ーボス２５上に載置され／、：透明基板（以上リブスト
レートと称する）４３の中火部を押えるｌ、：めのセン
ター押え４４が１−不動自在に嵌合している。このセン
ター押え４４はスプリング４５ににり下方に付勢され、
ストッパ−／Ｉ ６によって１！１ＩｌｌＩ１２防止が
図られている。真空パッド３７はハウジング密１１１状
態の初期にａ５い′Ｃサブストレーｉ〜４３の上面に接
触する高さ位置に保持されている。
スタンバ−１５の最外周部に沿っ−Ｃ形成された環状溝
３３ａを覆うための環状シール４７が設【ノられている
。この環状シール４７は石英ガラス。
３３ａを覆うための環状シール４７が設【ノられている
。この環状シール４７は石英ガラス。
アクリル樹脂等の紫外線透過性の材質からムリ、その上
面四部に固着された磁性板４８が、上部ハウジング２１
に適当な間隔で埋設されたマグネット４９に吸着される
ことにより、上部ハウジング２１に取り付けられた状態
に保持される。ごの環状シール４７は真空パッド３８が
減Ｊ１状態で上下動覆るとぎに、これに吸引された状態
で一体に上下動し、降下状態にあるとぎには、真空パッ
ド３８と協働してザブストレート４３の外周部をスタン
バ−１５に対して押しつける手段を構成すると共に、ベ
ース２２の外周部においてＯリング５１と協働してベー
ス２２とリブストレート４３との間の気密性を維持する
手段を侶成りる１゜転写工程が終了すると、上部ハウジ
ング２′１が」−Ｈし、下部ハウジング２０は第１図に
示す照射装置３の下方に移動づる。そしく“照Ｑ’ｌ装
？ｉ ３ ／Ｊ’ ＋３紫外線が照射され、これにＪ、
リスタンバー１５とりブストレ−１−４３との間に充填
され（いる液状の）Ａトポリマーが硬化し、樹脂層を形
成−リ′る。。
面四部に固着された磁性板４８が、上部ハウジング２１
に適当な間隔で埋設されたマグネット４９に吸着される
ことにより、上部ハウジング２１に取り付けられた状態
に保持される。ごの環状シール４７は真空パッド３８が
減Ｊ１状態で上下動覆るとぎに、これに吸引された状態
で一体に上下動し、降下状態にあるとぎには、真空パッ
ド３８と協働してザブストレート４３の外周部をスタン
バ−１５に対して押しつける手段を構成すると共に、ベ
ース２２の外周部においてＯリング５１と協働してベー
ス２２とリブストレート４３との間の気密性を維持する
手段を侶成りる１゜転写工程が終了すると、上部ハウジ
ング２′１が」−Ｈし、下部ハウジング２０は第１図に
示す照射装置３の下方に移動づる。そしく“照Ｑ’ｌ装
？ｉ ３ ／Ｊ’ ＋３紫外線が照射され、これにＪ、
リスタンバー１５とりブストレ−１−４３との間に充填
され（いる液状の）Ａトポリマーが硬化し、樹脂層を形
成−リ′る。。
照射工程が終了すると、下部ハウジング２０は内び上部
ハウジング２１の下りに移動ｌハ剥離工程に移行する。
ハウジング２１の下りに移動ｌハ剥離工程に移行する。
スタンバ−１５の内周部及び外周部には、第４図から特
に明らかな様に、好ましくは４５°の傾きを有する傾斜
部１５ａ、１５ｂが形成されている。スタンバ−１５の
信号面上に環状に吐出された液状のフォトポリマーは、
その土にり゛ジストレート４３が載置されると、スタン
バ−１５とり−ブストレート４３との間をスタンバ−１
５の信３’３ ｊ６ｊ全面に亘って広がるのであるが、
このとき、スタンバ−１５の内周部においては、ノＪ
Ｉ−ポリマーが傾斜部１５ａの位置で表面張力と段Ｚ−
により円形状に停止覆ることになる。また、スタンバ−
の外周部においては、硬化したフＡ［〜ポリマーを剥離
するときに、はみ出した）７Ｉｌ−ポリマーが残り易い
のであるが、傾斜部１５１１が略４５°の傾斜角度をな
しているので、剪断応力にＪ、るＪべり破壊により、硬
化後のフォトポリマーを残りことなく剥離が行え、フォ
トポリマーの最外周部の剥離性番向上できることになる
。
に明らかな様に、好ましくは４５°の傾きを有する傾斜
部１５ａ、１５ｂが形成されている。スタンバ−１５の
信号面上に環状に吐出された液状のフォトポリマーは、
その土にり゛ジストレート４３が載置されると、スタン
バ−１５とり−ブストレート４３との間をスタンバ−１
５の信３’３ ｊ６ｊ全面に亘って広がるのであるが、
このとき、スタンバ−１５の内周部においては、ノＪ
Ｉ−ポリマーが傾斜部１５ａの位置で表面張力と段Ｚ−
により円形状に停止覆ることになる。また、スタンバ−
の外周部においては、硬化したフＡ［〜ポリマーを剥離
するときに、はみ出した）７Ｉｌ−ポリマーが残り易い
のであるが、傾斜部１５１１が略４５°の傾斜角度をな
しているので、剪断応力にＪ、るＪべり破壊により、硬
化後のフォトポリマーを残りことなく剥離が行え、フォ
トポリマーの最外周部の剥離性番向上できることになる
。
次に、本発明による製造装置の動作について説明する。
まず、第１図において、下部ハウジング２０がテーブル
本体５と一体に吐出装置１３の下方まで移動し、塗布工
程となる。塗布工程では、吐出装置１３が駐台８と一体
に下降し、ニードル部１４の先端がスタンバ−１５（第
３図参照）の信号面に近接した位置で停止し、しかる後
モータ１２の駆動力によって軸９と一体に回転する。こ
れに伴いニードル部１４が軸９の周りを回動しつつ液状
のフォトポリマーをスタンバ−１５の信号面上に吐出す
る。フォトポリマーとして４Ｊ 、例えば、粘度が数１
０〜１ｏｏｏｃｐｓＰｉ！度で、真空中においＣも粘性
や重量等の変化がない）７クリル゛しツマ−のものが用
いられる。吐出されたフ７１１−ポリマーは軸９とニー
ドル部１４との間の距１１１１１Ｌ（第２図参照）を半
径とする環状どなる。田川装置１３が一回転すると、フ
ォトポリマーの１１１出を停止し、初期位置まで上昇す
る。塗布」程が終了すると、下部ハウジング２０が上部
ハウジング２１の下方まで移動し、転写工程に移行Ｊる
。
本体５と一体に吐出装置１３の下方まで移動し、塗布工
程となる。塗布工程では、吐出装置１３が駐台８と一体
に下降し、ニードル部１４の先端がスタンバ−１５（第
３図参照）の信号面に近接した位置で停止し、しかる後
モータ１２の駆動力によって軸９と一体に回転する。こ
れに伴いニードル部１４が軸９の周りを回動しつつ液状
のフォトポリマーをスタンバ−１５の信号面上に吐出す
る。フォトポリマーとして４Ｊ 、例えば、粘度が数１
０〜１ｏｏｏｃｐｓＰｉ！度で、真空中においＣも粘性
や重量等の変化がない）７クリル゛しツマ−のものが用
いられる。吐出されたフ７１１−ポリマーは軸９とニー
ドル部１４との間の距１１１１１Ｌ（第２図参照）を半
径とする環状どなる。田川装置１３が一回転すると、フ
ォトポリマーの１１１出を停止し、初期位置まで上昇す
る。塗布」程が終了すると、下部ハウジング２０が上部
ハウジング２１の下方まで移動し、転写工程に移行Ｊる
。
転写工程については、第３図及び第５図（ω〜（ｅ）に
基づいて説明りる。転写工程の初ｕｌＪ状態にＪｊいて
は、第５図（ωに示す様に、下部ハウジング２０に対し
て上部ハウジング２１が離間しＣおり、またサブストレ
ート４３を担１．１シたピンターポス２５及び真空バッ
ド３７．３（３４ま上ｒ？、 Ｌ、 ’Ｕいる。この初
期状態から上部ハウジング２１が下降し、第５図中）に
示す様に、下部ハウジング２０との間に密閉室を形成す
る。上部、下部ハウジング２１゜２０の外縁部間にはＯ
リング５０が介在し、密閉室の気密性を維持する。この
とぎ、センター押え４４はスプリング４５の弾発力によ
ってサブストレー］−４３をセンターボスに２５に押し
つ番ノ、また真空パッド３７はザブストーレート４３の
上面に接触し、更に負圧−６５Ｏｎ＋ｍ１−１ ＣＩ程
度の真空度の減圧状態とされることによりザブストレー
ト４３を吸着する。その後、前記密閉室が下部ハウジン
グ２０に形成された連通路３４ａ 、３４１１及び真空
配管３５．３６を介して図示せぬ真空ポンプにより、負
圧−５Ｑ Ｑ ｍｌ ｌ−１（＋程度の真空度に減圧さ
れ、その状態が保たれる。この状態では、真空パッド３
７内と密閉室内との間には約１５０ ｍｍｔ−Ｉ ｇの
差圧があり、この差圧によりザブストレー１〜４３は真
空バッド３７に吸着されでいる。
基づいて説明りる。転写工程の初ｕｌＪ状態にＪｊいて
は、第５図（ωに示す様に、下部ハウジング２０に対し
て上部ハウジング２１が離間しＣおり、またサブストレ
ート４３を担１．１シたピンターポス２５及び真空バッ
ド３７．３（３４ま上ｒ？、 Ｌ、 ’Ｕいる。この初
期状態から上部ハウジング２１が下降し、第５図中）に
示す様に、下部ハウジング２０との間に密閉室を形成す
る。上部、下部ハウジング２１゜２０の外縁部間にはＯ
リング５０が介在し、密閉室の気密性を維持する。この
とぎ、センター押え４４はスプリング４５の弾発力によ
ってサブストレー］−４３をセンターボスに２５に押し
つ番ノ、また真空パッド３７はザブストーレート４３の
上面に接触し、更に負圧−６５Ｏｎ＋ｍ１−１ ＣＩ程
度の真空度の減圧状態とされることによりザブストレー
ト４３を吸着する。その後、前記密閉室が下部ハウジン
グ２０に形成された連通路３４ａ 、３４１１及び真空
配管３５．３６を介して図示せぬ真空ポンプにより、負
圧−５Ｑ Ｑ ｍｌ ｌ−１（＋程度の真空度に減圧さ
れ、その状態が保たれる。この状態では、真空パッド３
７内と密閉室内との間には約１５０ ｍｍｔ−Ｉ ｇの
差圧があり、この差圧によりザブストレー１〜４３は真
空バッド３７に吸着されでいる。
次いで、センターボス２５がカム３１の回転に応動して
下降する。このとき、サブストレート４３の外周部は真
空バッド３７に吸着されており、サブストレート４３の
内周部のみがセンターボス２５ど一体に下降し、第５図
（Ｃ）に示す様に、まず勺ブストレート４３の内周がス
タンバ−１５上のフォトポリマー２Ｐに接触する。これ
によりフォトポリマ−２Ｐはその表面張力によりスタン
バ−１５の信号面の内周部全面にｑって広がる。次いで
、第５図（小に示’１ｔＡ１ ＜、真空バッドこ３７が
下降すると、フォトポリマー２Ｐがスタンバ−１５とサ
ブストレート４３との間に全面に亘って充填されること
になる。このように、負圧−５００＋＋ｕａｌ１ｇ程度
の真空度に減圧された密閉室内に−３いＣ１サブストレ
ート４３をスタンバ−１５に対してその内周部から外周
部にか番）で徐々に下降さぼることにより、フォトポリ
マー２Ｐ内への泡の巻き込みを極めて少なくすることが
できる。
下降する。このとき、サブストレート４３の外周部は真
空バッド３７に吸着されており、サブストレート４３の
内周部のみがセンターボス２５ど一体に下降し、第５図
（Ｃ）に示す様に、まず勺ブストレート４３の内周がス
タンバ−１５上のフォトポリマー２Ｐに接触する。これ
によりフォトポリマ−２Ｐはその表面張力によりスタン
バ−１５の信号面の内周部全面にｑって広がる。次いで
、第５図（小に示’１ｔＡ１ ＜、真空バッドこ３７が
下降すると、フォトポリマー２Ｐがスタンバ−１５とサ
ブストレート４３との間に全面に亘って充填されること
になる。このように、負圧−５００＋＋ｕａｌ１ｇ程度
の真空度に減圧された密閉室内に−３いＣ１サブストレ
ート４３をスタンバ−１５に対してその内周部から外周
部にか番）で徐々に下降さぼることにより、フォトポリ
マー２Ｐ内への泡の巻き込みを極めて少なくすることが
できる。
フォトポリマー２Ｐがスタンバ−１５とり”ブストレー
ト４３との間に充填されると、第５図（０）に示す様に
、環状シール４７が真空バッド３８により吸着された状
態で真空バッド３８と共に下降し、サブストレート４３
の外縁部を押えるとバに、スタンバ−１５の最外周部に
沿っ〔形成された環状溝３３ａを覆う。このとき環状シ
ール／１７と下部ハウジング２０との間にＯリング５１
が介在し、これにより環状溝３３ａの気密性が維持され
る。
ト４３との間に充填されると、第５図（０）に示す様に
、環状シール４７が真空バッド３８により吸着された状
態で真空バッド３８と共に下降し、サブストレート４３
の外縁部を押えるとバに、スタンバ−１５の最外周部に
沿っ〔形成された環状溝３３ａを覆う。このとき環状シ
ール／１７と下部ハウジング２０との間にＯリング５１
が介在し、これにより環状溝３３ａの気密性が維持され
る。
次いでサブストレート４３の」三方の密閉室内が大気圧
に戻されるが、環状溝３３ａ 、３３ｂが連通路３４ａ
、３４ｂを介して減圧されており、）Ａトボリマ−２
Ｐによる樹脂層が真空状態になり、かつサブストレート
４３がスタンバ−１５に大気圧で押しつけられるので、
樹脂層内に巻き込まれた泡が真空源方向ずなわらサブス
トレート４３の内周及び外周方向に押し出されて除去さ
れる。同時に樹脂層の厚さが約１０μｍ以下に均一に保
たれる。その後上部ハウジング２１が１臂し、同時に真
空バッド３７も上部ハウジング２１に対して上昇する。
に戻されるが、環状溝３３ａ 、３３ｂが連通路３４ａ
、３４ｂを介して減圧されており、）Ａトボリマ−２
Ｐによる樹脂層が真空状態になり、かつサブストレート
４３がスタンバ−１５に大気圧で押しつけられるので、
樹脂層内に巻き込まれた泡が真空源方向ずなわらサブス
トレート４３の内周及び外周方向に押し出されて除去さ
れる。同時に樹脂層の厚さが約１０μｍ以下に均一に保
たれる。その後上部ハウジング２１が１臂し、同時に真
空バッド３７も上部ハウジング２１に対して上昇する。
環状シール４７は環状溝３３ａを覆った状態を持続する
。
。
下部ハウジング２０は、環状溝３３８．３３１１が減圧
された状態で、第１図に示す照射装Ｎ３の下方まで移動
し、照射工程に移行する。照射工程では、環状溝３３８
．３３１１の減圧によりフォトポリマ−２Ｐからなる樹
脂層はそｄ厚みが約１０μ−以下に保たれた状態でサブ
ストレート４３を介して照射装置３により紫外線照射を
受【ノ、硬化する。硬化した樹脂層の厚みは約“ｌ Ｏ
μｍ以］・どなる。サブストレー１〜４３の外縁部上に
は環状シール４７が存在づるが、当該シール４７は紫外
線透過性の材質からなっているのｅ１樹脂層全体に亘っ
て良好に紫外線が照射されることになる。照射工程が終
了すると、下部ハウジング２０が１りび上部ハウジング
２１の下１．’ ：ｋ ’（ｊ移動し、ａ ｍ１１程に
移行°りる。
された状態で、第１図に示す照射装Ｎ３の下方まで移動
し、照射工程に移行する。照射工程では、環状溝３３８
．３３１１の減圧によりフォトポリマ−２Ｐからなる樹
脂層はそｄ厚みが約１０μ−以下に保たれた状態でサブ
ストレート４３を介して照射装置３により紫外線照射を
受【ノ、硬化する。硬化した樹脂層の厚みは約“ｌ Ｏ
μｍ以］・どなる。サブストレー１〜４３の外縁部上に
は環状シール４７が存在づるが、当該シール４７は紫外
線透過性の材質からなっているのｅ１樹脂層全体に亘っ
て良好に紫外線が照射されることになる。照射工程が終
了すると、下部ハウジング２０が１りび上部ハウジング
２１の下１．’ ：ｋ ’（ｊ移動し、ａ ｍ１１程に
移行°りる。
剥離工程については、第３図及び第６図（ａ）〜山）に
基づいて説明する。剥離工程に移行りると、上部ハウジ
ング２１が下降し、第６図（ａ）に示り様に、下部ハウ
ジング２０との間に１りび密開室を形成し、また真空バ
ッド３８が下降状態にあるので環状シール４７の上面に
当接し、ザブストレー１〜４３の外縁部を押しつ番プる
。次いでカム３１が回転し、これに応動してセンターボ
ス２５が、サブストレート４３と一体に硬化したフ４１
−ポリマー２ｌ−）（樹脂層）の最内周をスタンバ−１
ミ５から剥離できる程度、例えば１〜３ｙａＩＩＰｌ瓜
１打づる。これにより樹ｗＢ層の最内周が剥離される１
、なお、レンターボス２５の最大ストロークは例えば８
ｍｍ程度である。
基づいて説明する。剥離工程に移行りると、上部ハウジ
ング２１が下降し、第６図（ａ）に示り様に、下部ハウ
ジング２０との間に１りび密開室を形成し、また真空バ
ッド３８が下降状態にあるので環状シール４７の上面に
当接し、ザブストレー１〜４３の外縁部を押しつ番プる
。次いでカム３１が回転し、これに応動してセンターボ
ス２５が、サブストレート４３と一体に硬化したフ４１
−ポリマー２ｌ−）（樹脂層）の最内周をスタンバ−１
ミ５から剥離できる程度、例えば１〜３ｙａＩＩＰｌ瓜
１打づる。これにより樹ｗＢ層の最内周が剥離される１
、なお、レンターボス２５の最大ストロークは例えば８
ｍｍ程度である。
この状態において、図示せぬ空気圧送手段から真空配管
３６及び連通路３４ｂを介して圧縮空気（１〜５Ｋ（］
程度）を樹脂層の最内周に送ることにより、サブストレ
ー１〜４３の外縁部が環状シール４７で押えられている
ので、ＩＦ縮空気はりブストレート４３の外縁部から漏
れることなく仝而に亘って流れ、これにより樹脂層は第
６図中）に示す如く、環状シール４７で押えられた最外
縁部を除く全面に亘って剥離する。次いで、真空パッド
３８が減圧され、環状シール４７を吸引後上Ｒする。
３６及び連通路３４ｂを介して圧縮空気（１〜５Ｋ（］
程度）を樹脂層の最内周に送ることにより、サブストレ
ー１〜４３の外縁部が環状シール４７で押えられている
ので、ＩＦ縮空気はりブストレート４３の外縁部から漏
れることなく仝而に亘って流れ、これにより樹脂層は第
６図中）に示す如く、環状シール４７で押えられた最外
縁部を除く全面に亘って剥離する。次いで、真空パッド
３８が減圧され、環状シール４７を吸引後上Ｒする。
同時に、真空バッド３７が下降し、第６図（Ｃ）に示す
如（、サプストレート４３の上面に当接づる。
如（、サプストレート４３の上面に当接づる。
そして真空パッド３７は負圧−６５０１ａｌｌ−（０程
度の真空度に減圧され、これによりザブストレート４３
を吸引し、この状態で上昇することにより樹脂層の最外
周部を剥離する。その後減圧状態が解除される。続いて
カム３１の回転に応動してセンターボス２５がサブスト
レート４３を担持し゛Ｃ上昇し、第６図ｃ山に示づ初期
状態に戻る。しかる後上部ハウジング２１が上昇し、剥
覇「［程を終了す゛る。以後アルミ蒸＠膜を付番）、更
にオーバーコートすることにより、光学式ディスクの完
成品となる。
度の真空度に減圧され、これによりザブストレート４３
を吸引し、この状態で上昇することにより樹脂層の最外
周部を剥離する。その後減圧状態が解除される。続いて
カム３１の回転に応動してセンターボス２５がサブスト
レート４３を担持し゛Ｃ上昇し、第６図ｃ山に示づ初期
状態に戻る。しかる後上部ハウジング２１が上昇し、剥
覇「［程を終了す゛る。以後アルミ蒸＠膜を付番）、更
にオーバーコートすることにより、光学式ディスクの完
成品となる。
なお、上記実施例においては、１ノブス１゛・レート４
３の内周部及び外周部の両方の気密性を維持しかつサブ
ストレート４３の内周部を僅かに持ら上げた後、空気を
圧送して樹脂層をり゛ブスＩ−レー１−４３と一体に剥
離する構成としたが、基本的にｌ、Ｌ 。
３の内周部及び外周部の両方の気密性を維持しかつサブ
ストレート４３の内周部を僅かに持ら上げた後、空気を
圧送して樹脂層をり゛ブスＩ−レー１−４３と一体に剥
離する構成としたが、基本的にｌ、Ｌ 。
樹脂層とスタンバ−との結合力が各々の材質上から比較
的弱いので、サブストーレー１〜４３３の内周部の気密
性を維持するのみで空気を圧送することにより、樹脂層
の剥離を行えるのである。。
的弱いので、サブストーレー１〜４３３の内周部の気密
性を維持するのみで空気を圧送することにより、樹脂層
の剥離を行えるのである。。
一部１
以上説明したように、本発明にＪ、れば、スタンバ−が
固定されたベースとスタンバ−上に液状の７オトポリマ
ーを介して戟欝され／Ｃ−ＩＪブスｉ・レートとの聞を
所定の真空度に減圧すると共に、該サブストレートをベ
ース側とその反対側との気圧差によってスタンバ−に押
しつ【プることにより、樹脂層内に巻き込まれた泡を確
実に除去づるようにしたので、樹脂層への泡の混入を確
実に防止でき、スタンバ−から樹脂層への信号の転写を
確実に行い得るディスク製造装置が得られる。 −
固定されたベースとスタンバ−上に液状の７オトポリマ
ーを介して戟欝され／Ｃ−ＩＪブスｉ・レートとの聞を
所定の真空度に減圧すると共に、該サブストレートをベ
ース側とその反対側との気圧差によってスタンバ−に押
しつ【プることにより、樹脂層内に巻き込まれた泡を確
実に除去づるようにしたので、樹脂層への泡の混入を確
実に防止でき、スタンバ−から樹脂層への信号の転写を
確実に行い得るディスク製造装置が得られる。 −
第１図は本発明に係る製造装置の一部断面図を含む正面
図、第２図は第１図におりる塗布装置の一部断面を含む
側面図、第３図はｍ１図にお１ノる転写・剥離装置の断
面図、第４図は第３図の要部拡大図、第５図（ａ）〜（
ｅ）は転写工程における動作説明図、第６図（ω〜ｔｄ
＞は剥離工程にお【プる動作説明図である。 主要部分の符号の説明 １・・・・・・塗布装置 ２・・・・・・転写・剥離装置 ３・・・・・・照射装置 １３・・・・・・吐出装置１
４・・・・・・ニードル部 １５・・・・・・スタンバ
−２０・・・・・・下Ｂｓハウジング ２１・・・・・・上部ハウジング ２５・・・・・・センターボス ３１・・・・・・カム ３７．３８・・・・・・真空パッド ４３・・・・・・ザブストレート ４７・・・・・・環状シール ４９・・・・・・マグネッＩ・ 出願人 バイＡニア株式会ネ１ 代理人 弁理士 停刊元彦 （外′１名） 入４０ 簗、６図 （０） 犀、５ 図 （Ｃ） （ｄ） 地５ 図 （ｅ） ＃４ 図 （α」 ＃乙 図 （Ｃ〕
図、第２図は第１図におりる塗布装置の一部断面を含む
側面図、第３図はｍ１図にお１ノる転写・剥離装置の断
面図、第４図は第３図の要部拡大図、第５図（ａ）〜（
ｅ）は転写工程における動作説明図、第６図（ω〜ｔｄ
＞は剥離工程にお【プる動作説明図である。 主要部分の符号の説明 １・・・・・・塗布装置 ２・・・・・・転写・剥離装置 ３・・・・・・照射装置 １３・・・・・・吐出装置１
４・・・・・・ニードル部 １５・・・・・・スタンバ
−２０・・・・・・下Ｂｓハウジング ２１・・・・・・上部ハウジング ２５・・・・・・センターボス ３１・・・・・・カム ３７．３８・・・・・・真空パッド ４３・・・・・・ザブストレート ４７・・・・・・環状シール ４９・・・・・・マグネッＩ・ 出願人 バイＡニア株式会ネ１ 代理人 弁理士 停刊元彦 （外′１名） 入４０ 簗、６図 （０） 犀、５ 図 （Ｃ） （ｄ） 地５ 図 （ｅ） ＃４ 図 （α」 ＃乙 図 （Ｃ〕
Claims (1)
- ベース上に固定されたスタンバ−の信号面と透明基板と
の間に充填されている液状の放ｆ）Ｊ線硬化樹脂を、放
射線照射により硬化さＬるにうになされた情報記録円板
の製造装置であって、前記ベースと前記透明基板との間
の気密性を報持りる手段と、前記ベースと前記透明基板
との問を所定の直空度に減圧する減圧手段とを備え、ｌ
Ｐｊ ｒ１！透明基数を前記ベース側とその反対側との
気圧差ににつ（前記スタンバ−に押しつり名ことを特徴
とり゛る情報記録円板の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23035883A JPS60122138A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 情報記録円板の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23035883A JPS60122138A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 情報記録円板の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60122138A true JPS60122138A (ja) | 1985-06-29 |
Family
ID=16906606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23035883A Pending JPS60122138A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 情報記録円板の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60122138A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0170516U (ja) * | 1987-10-29 | 1989-05-11 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53116105A (en) * | 1977-03-14 | 1978-10-11 | Philips Nv | Method and device for making plastic record |
| JPS56167419A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-23 | Toppan Printing Co Ltd | Manufacturing device for high-density information recording carrier |
-
1983
- 1983-12-06 JP JP23035883A patent/JPS60122138A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53116105A (en) * | 1977-03-14 | 1978-10-11 | Philips Nv | Method and device for making plastic record |
| JPS56167419A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-23 | Toppan Printing Co Ltd | Manufacturing device for high-density information recording carrier |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0170516U (ja) * | 1987-10-29 | 1989-05-11 | ||
| JPH0442091Y2 (ja) * | 1987-10-29 | 1992-10-05 |
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