JPS60121532A - 磁気記録媒体の作成方法 - Google Patents
磁気記録媒体の作成方法Info
- Publication number
- JPS60121532A JPS60121532A JP23008083A JP23008083A JPS60121532A JP S60121532 A JPS60121532 A JP S60121532A JP 23008083 A JP23008083 A JP 23008083A JP 23008083 A JP23008083 A JP 23008083A JP S60121532 A JPS60121532 A JP S60121532A
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- Japan
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- film
- magnetic recording
- recording medium
- pet1
- medium
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、高分子成形物基板上へ磁気記録面に対して垂
直方向に磁化容易軸を持つ垂直磁気記録媒体を作成する
方法に関する。
直方向に磁化容易軸を持つ垂直磁気記録媒体を作成する
方法に関する。
従来、高分子成形物基板上への垂直磁気記録媒体の製造
方法とし、蒸着−スパッタ等の薄膜製造技術が用いられ
てきた。蒸着・スパッタで垂直磁気記録媒体を製造する
場合、出来るだけ基板温度を高温にすれば磁気特性上良
好な垂直磁気記録媒体が得られ、磁極膜の密着強度の向
上が計られる。
方法とし、蒸着−スパッタ等の薄膜製造技術が用いられ
てきた。蒸着・スパッタで垂直磁気記録媒体を製造する
場合、出来るだけ基板温度を高温にすれば磁気特性上良
好な垂直磁気記録媒体が得られ、磁極膜の密着強度の向
上が計られる。
しかしながら、これら蒸着・スパッタ法は、真空中で高
エネルギーの金属原子を基板に衝突させることで磁性膜
を形成するため、基板はさらに高温になる。つまり、溶
融あるいは昇華あるいは分解温度を持つ高分子成形物基
板では、無制限に基板温度を高くすることはできず、通
常これら溶融・昇華・分解温度よル１００℃程度低い温
度が上限である。
エネルギーの金属原子を基板に衝突させることで磁性膜
を形成するため、基板はさらに高温になる。つまり、溶
融あるいは昇華あるいは分解温度を持つ高分子成形物基
板では、無制限に基板温度を高くすることはできず、通
常これら溶融・昇華・分解温度よル１００℃程度低い温
度が上限である。
ところが、高分子成形物基板には５組成中に未反応の単
量体や低重合度の重合体（以下、オリゴマーと呼ぶ）が
必ず含まれているため、高温に保持した時、このオリゴ
ム−が基板表面に析出し、その上に軟磁性膜（パーマロ
イ・ＣｏＴｉａＣＱＴ、＊ＣｏＺｒＮｂ等）や垂直磁化
膜ＣＣｏＣｒ、ＣＱＷ、ＣｃＬＭＱ、００１等〕を作成
した場合、基板表面のオリゴマーの悪影響、つまシ凹凸
により膜そのものにも凹凸が生じるため、媒体−ヘッド
間のへラドタッチが悪くなり再生出力の劣化が生じる。
量体や低重合度の重合体（以下、オリゴマーと呼ぶ）が
必ず含まれているため、高温に保持した時、このオリゴ
ム−が基板表面に析出し、その上に軟磁性膜（パーマロ
イ・ＣｏＴｉａＣＱＴ、＊ＣｏＺｒＮｂ等）や垂直磁化
膜ＣＣｏＣｒ、ＣＱＷ、ＣｃＬＭＱ、００１等〕を作成
した場合、基板表面のオリゴマーの悪影響、つまシ凹凸
により膜そのものにも凹凸が生じるため、媒体−ヘッド
間のへラドタッチが悪くなり再生出力の劣化が生じる。
又、この凹凸によシ軟磁性膜は磁壁のピンニングをうけ
磁気特性の劣化が生じる。さらに回転する媒体上の凸部
は、ヘッドとの衝突部分を作るため、媒体へのキズ・膜
ハゲの原因にな多耐久性の非常な劣化となる。そして、
この凹凸によるヘッドタッチの不安定は、媒体からの磁
束のヘッドへの吸収の不安定要因ともなり、エンベロー
プ特性の著し１劣化・記録密度特性り、の劣化ｅｔｃ。
磁気特性の劣化が生じる。さらに回転する媒体上の凸部
は、ヘッドとの衝突部分を作るため、媒体へのキズ・膜
ハゲの原因にな多耐久性の非常な劣化となる。そして、
この凹凸によるヘッドタッチの不安定は、媒体からの磁
束のヘッドへの吸収の不安定要因ともなり、エンベロー
プ特性の著し１劣化・記録密度特性り、の劣化ｅｔｃ。
はなはだしい悪影響を及ぼすものであった。
尚、このオリゴマーは、高分子成形物基板を製造するた
めに製法王道けられないだけでなく、フィルムに加工す
る際の延伸性の付与のため意識的に含まれているもので
ある。
めに製法王道けられないだけでなく、フィルムに加工す
る際の延伸性の付与のため意識的に含まれているもので
ある。
従来は、膜形成した後オリゴマーによる凹凸を無くすた
め、パフ研磨によって突起を削って平滑度を向上させて
いたが、膜の連続性を損うのみか、摩耗粉でさらに膜面
を傷つけるという欠点を有し〔目的〕 本発明は上記の点に鑑み、膜形成前に全ての面で悪影響
を及ぼすオリゴマーを除去し、膜形成後の処理をするこ
となく、平滑性・磁気特性ゆ耐久性ｅ再生出力・エンベ
ロープ特性・記録密度特性等の優れた垂直磁気記録媒体
を得ることを目的とするものである。
め、パフ研磨によって突起を削って平滑度を向上させて
いたが、膜の連続性を損うのみか、摩耗粉でさらに膜面
を傷つけるという欠点を有し〔目的〕 本発明は上記の点に鑑み、膜形成前に全ての面で悪影響
を及ぼすオリゴマーを除去し、膜形成後の処理をするこ
となく、平滑性・磁気特性ゆ耐久性ｅ再生出力・エンベ
ロープ特性・記録密度特性等の優れた垂直磁気記録媒体
を得ることを目的とするものである。
本発明は、垂直磁気記録媒体において、前記媒体の高分
子成形物基板を前記基板の溶融あるいは昇華あるいは分
解の温度以下で熱処理を行ない、前記基板に析出したオ
リゴマーを溶剤で洗浄した後、磁性層を形成し凹凸の非
常に少ない磁気記録媒体を作成しようというものである
。
子成形物基板を前記基板の溶融あるいは昇華あるいは分
解の温度以下で熱処理を行ない、前記基板に析出したオ
リゴマーを溶剤で洗浄した後、磁性層を形成し凹凸の非
常に少ない磁気記録媒体を作成しようというものである
。
以下、図・表とともに本発明の実施例について述べる。
本実施例として、高分子成形物基板にはＰＩＴ（ポリエ
チレンテレフタラート）を用い、溶剤トしてアセトンを
用すた。この溶剤は他に、トリクレン・キシレン第１図
は本発明の媒体作成のための工程の流れ図である。まず
ＰＩＴｔ−１８０℃１時間恒温槽の内へ入れておき、オ
リゴマーの析出した上記ＰＥＴｔ−アセトンに浸す。次
にｐＨ！Ｔ上にアセトンの蒸発残シを無くすためアルコ
ールに浸す。その後ＢＩＴ上に残りたアルコールを吹き
つけ窒素にて吹き飛ばし、スパッタ装置内にＢＩＴをセ
ットし、その上に軟磁性膜としてＣｏＴｉ。
チレンテレフタラート）を用い、溶剤トしてアセトンを
用すた。この溶剤は他に、トリクレン・キシレン第１図
は本発明の媒体作成のための工程の流れ図である。まず
ＰＩＴｔ−１８０℃１時間恒温槽の内へ入れておき、オ
リゴマーの析出した上記ＰＥＴｔ−アセトンに浸す。次
にｐＨ！Ｔ上にアセトンの蒸発残シを無くすためアルコ
ールに浸す。その後ＢＩＴ上に残りたアルコールを吹き
つけ窒素にて吹き飛ばし、スパッタ装置内にＢＩＴをセ
ットし、その上に軟磁性膜としてＣｏＴｉ。
垂直磁化膜としてｃＯｃγ膜を基板温度１５０’Ｃでス
パッタした。第２図の（ａｌは本発明によって出来た垂
直磁気記録媒体でらＤｓｌはオリゴマーを析出した後ア
セトン処理をしたＰ］ｌ！！Ｔ、２はＣＱＴｊ軟磁性脱
磁性膜０１ｍ 、 ８はＣａＣ２−垂直磁化膜０．５μ
ｍである。第２図のｔｂｒは従来法の媒体である。
パッタした。第２図の（ａｌは本発明によって出来た垂
直磁気記録媒体でらＤｓｌはオリゴマーを析出した後ア
セトン処理をしたＰ］ｌ！！Ｔ、２はＣＱＴｊ軟磁性脱
磁性膜０１ｍ 、 ８はＣａＣ２−垂直磁化膜０．５μ
ｍである。第２図のｔｂｒは従来法の媒体である。
つまりＰＫＴをそのままスパッタ装置にセットし、基板
温度１５０℃でスパッタしたものである。４はＰＦ；Ｔ
、 ２はＣｏ Ｔｓ ６％ ８はＣｏＣｒ膜、５は析
出したオリゴマーである。表１に上記媒体の表面荒さを
示す。
温度１５０℃でスパッタしたものである。４はＰＦ；Ｔ
、 ２はＣｏ Ｔｓ ６％ ８はＣｏＣｒ膜、５は析
出したオリゴマーである。表１に上記媒体の表面荒さを
示す。
表１
これら第２図１表１から明らかなように本、発明による
媒体の表面性は従来法から比較して、非常に平滑である
ことがわかる。また表２に磁気特性を示す。
媒体の表面性は従来法から比較して、非常に平滑である
ことがわかる。また表２に磁気特性を示す。
表２゜
これからも、わかるように本発明による媒体は垂直磁化
膜として良す特性を示している。次に第８図・第４図で
再生出力・記録密度特性・エンベロープを示す。これら
はすべて媒体回転数８００τｐｍ、線速度２ｍ／ｓヘッ
ド主磁極膜厚０．５μｍで測定したものである。第８図
は記録密度特性で（ａｌが本発明による媒体、（ｂｌが
従来法による媒体でおる。
膜として良す特性を示している。次に第８図・第４図で
再生出力・記録密度特性・エンベロープを示す。これら
はすべて媒体回転数８００τｐｍ、線速度２ｍ／ｓヘッ
ド主磁極膜厚０．５μｍで測定したものである。第８図
は記録密度特性で（ａｌが本発明による媒体、（ｂｌが
従来法による媒体でおる。
この第８図のデータを表８にまとめる。
これら第８図・表８かられかるように再生出力では、本
発明媒体は２倍の出力が出ている。また、出力が半分に
なる記録密度り、も８倍近く伸びてｂる。第４図はエン
ベロープ特性を示す、 （ａｌは本発明媒体、１６１は
従来法媒体である。このエンベロープは記録密度が５
Ｋ ＢＰ工のものでおる。本発明による媒体は非常＆Ｃ
ＪＬｌ、−ａエンベロープ特性を示してｂる。Ｅ！ｐは
出力、ｔは時間を表す。一方従来法による媒体のエンベ
ロープは再出出力に大きなバラツキがちシ、媒体の欠陥
である信号のドロップアウトも２カ所見られる。最後に
耐久性では本発明媒体は同一トラック１０００万パス後
も媒体に傷が見られなかったが、従来法媒体は１００万
バスの時点で傷・膜ハゲが生じてしまった。
発明媒体は２倍の出力が出ている。また、出力が半分に
なる記録密度り、も８倍近く伸びてｂる。第４図はエン
ベロープ特性を示す、 （ａｌは本発明媒体、１６１は
従来法媒体である。このエンベロープは記録密度が５
Ｋ ＢＰ工のものでおる。本発明による媒体は非常＆Ｃ
ＪＬｌ、−ａエンベロープ特性を示してｂる。Ｅ！ｐは
出力、ｔは時間を表す。一方従来法による媒体のエンベ
ロープは再出出力に大きなバラツキがちシ、媒体の欠陥
である信号のドロップアウトも２カ所見られる。最後に
耐久性では本発明媒体は同一トラック１０００万パス後
も媒体に傷が見られなかったが、従来法媒体は１００万
バスの時点で傷・膜ハゲが生じてしまった。
以上述べたごとく、本発明による垂直磁気記録媒体は従
来法に比較して、種々の効果ある。以下にその効果をま
とめる。
来法に比較して、種々の効果ある。以下にその効果をま
とめる。
◎再生出力の向上
◎記録密度特性の向上
◎エンベロープ特性の向上
◎媒体欠陥の減少
◎磁気特性の向上
◎耐久性の向上
さらに、真空槽内にＰＥＴｔ−セットする前に、オリゴ
マーを処理しているため、真空度の向上につなが９、ま
た所定真空度に達する時間の短縮にな少コストダウン出
来るものである。又、真空槽内へ汚れも激減するという
効果も併せ持つ。
マーを処理しているため、真空度の向上につなが９、ま
た所定真空度に達する時間の短縮にな少コストダウン出
来るものである。又、真空槽内へ汚れも激減するという
効果も併せ持つ。
なお、本実施例では、高分子成形物基板として１’ｌＴ
ｌ使用したが、アラミド・ポリイミド等の耐熱高分子成
形物基板の場合でも本発明は有効である。又、本実施例
に使用した溶剤は、アセトン・トリクレン−キシレン等
であるがこれらをアルコール類で希釈して用いても本発
明は有効である。
ｌ使用したが、アラミド・ポリイミド等の耐熱高分子成
形物基板の場合でも本発明は有効である。又、本実施例
に使用した溶剤は、アセトン・トリクレン−キシレン等
であるがこれらをアルコール類で希釈して用いても本発
明は有効である。
さらに、上記解削を蒸気で用りても一層の効果がある。
又、本実施例は軟磁性層としてＣ６Ｔｉｍ垂直磁化膜と
してＣＱＣｆ膜を使用したが、これら以外の軟磁性ｐｉ
ｉ （バー −ｖ ｏ イ、 ＣｏＴａ、 ＣｏＺｒＨ
ｂ等） ＋１垂直磁化膜（ＣＱＷ 、 ｃｏｖ ）でも
本発゛明は有効である。
してＣＱＣｆ膜を使用したが、これら以外の軟磁性ｐｉ
ｉ （バー −ｖ ｏ イ、 ＣｏＴａ、 ＣｏＺｒＨ
ｂ等） ＋１垂直磁化膜（ＣＱＷ 、 ｃｏｖ ）でも
本発゛明は有効である。
さらに、２層膜媒体以外にＣＱＣｆ単層でも有効であり
、Ｂα−Ｆｅｒｒｉｔｅ塗布型垂直磁気記録媒体でも効
果がある。また、本実施例は、７ｏツピ一用媒体として
作成したが％ １６ 關ｖＴ Ｒ用テープ・８ ｍ Ｖ
ＴＲ用テープ・オーディオ用テープとしても同様の効果
を発揮する。
、Ｂα−Ｆｅｒｒｉｔｅ塗布型垂直磁気記録媒体でも効
果がある。また、本実施例は、７ｏツピ一用媒体として
作成したが％ １６ 關ｖＴ Ｒ用テープ・８ ｍ Ｖ
ＴＲ用テープ・オーディオ用テープとしても同様の効果
を発揮する。
尚１本実施例ではＰＲＩＴを恒温槽で１８０℃１時間保
持して込るが、温度は溶融・昇華・分解温度以下であれ
ば何度でもよく、また時１１ＪＪは保持温度、ＰＩＩｉ
Ｔの種類・ＰＥＴの厚みで変わるものでる少−概に言え
な込。
持して込るが、温度は溶融・昇華・分解温度以下であれ
ば何度でもよく、また時１１ＪＪは保持温度、ＰＩＩｉ
Ｔの種類・ＰＥＴの厚みで変わるものでる少−概に言え
な込。
また、本実施例ではＰＥＴを恒温槽で熱処理することに
よ少オリゴマーを析出させているが、真空中で熱処理を
すればオリゴマーの析出時間の短縮になる。また１本実
施例では析出したオリゴマーの除去に溶剤を用いている
が、超音波・紫外線照射・荷電粒子照射・オゾンによる
酸化も有効である。
よ少オリゴマーを析出させているが、真空中で熱処理を
すればオリゴマーの析出時間の短縮になる。また１本実
施例では析出したオリゴマーの除去に溶剤を用いている
が、超音波・紫外線照射・荷電粒子照射・オゾンによる
酸化も有効である。
第１図は、本発明による垂直磁気記録媒体の作成のため
の製造工程図である。第２図（α）
の製造工程図である。第２図（α）
【ｂ）はそれぞれ本
発明媒体・従来法媒体の断面図である。第８図は記録密
度特性、第４図はエンベロープを示す。 １・・オリゴマーを析出した後アセトン処理をしたＰＩ
ＩｉＴ ２ＩＩＩＩＣＯＴｉスパツタ膜 ８・ｌＩＣ０ＣＴスパツタ膜 ４・・ＰＩＣＴ（何も処理をしていないもの）５１１・
オリゴマー Ｃω・・本発明による媒体 （６１ψ・従来法による媒体 （ｄ） 第１図 ｂｌ 第２図 第４．ｌｉ 丁続補ｉＥ書（自発） 昭和５９年３ 月２４日 】 事件の表示 昭和５８年 特許願 第２５００８０号Ｚ発明の名称 磁気記録媒体の作成方法 ３ 補正をする者 ４ｉｕ 理 人 代表取締役 中 村 恒 也手続補正
書（自発） １、図面 第１図、第２図、第３図、第４図をＨＩＪ紙
の如く補正し添付する。 以上 第１０ 第２図 第３図 第４図
発明媒体・従来法媒体の断面図である。第８図は記録密
度特性、第４図はエンベロープを示す。 １・・オリゴマーを析出した後アセトン処理をしたＰＩ
ＩｉＴ ２ＩＩＩＩＣＯＴｉスパツタ膜 ８・ｌＩＣ０ＣＴスパツタ膜 ４・・ＰＩＣＴ（何も処理をしていないもの）５１１・
オリゴマー Ｃω・・本発明による媒体 （６１ψ・従来法による媒体 （ｄ） 第１図 ｂｌ 第２図 第４．ｌｉ 丁続補ｉＥ書（自発） 昭和５９年３ 月２４日 】 事件の表示 昭和５８年 特許願 第２５００８０号Ｚ発明の名称 磁気記録媒体の作成方法 ３ 補正をする者 ４ｉｕ 理 人 代表取締役 中 村 恒 也手続補正
書（自発） １、図面 第１図、第２図、第３図、第４図をＨＩＪ紙
の如く補正し添付する。 以上 第１０ 第２図 第３図 第４図
Claims (1)
- 磁気記録面に対して垂直方向に磁化容易軸を持つ垂直磁
気記録媒体において、前記媒体の高分子成形物基板を前
記基板の溶融あるいは昇華あるいは分解のいずれかの温
度以下で熱処理を行ない、前記基板表面上の析出物を除
去した後、前記析出物を除去した高分子成形物基板上に
磁性層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の作成
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23008083A JPS60121532A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 磁気記録媒体の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23008083A JPS60121532A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 磁気記録媒体の作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60121532A true JPS60121532A (ja) | 1985-06-29 |
| JPH0516090B2 JPH0516090B2 (ja) | 1993-03-03 |
Family
ID=16902231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23008083A Granted JPS60121532A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 磁気記録媒体の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60121532A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6361409A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-17 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1983
- 1983-12-06 JP JP23008083A patent/JPS60121532A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6361409A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-17 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0833983B2 (ja) * | 1986-09-01 | 1996-03-29 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0516090B2 (ja) | 1993-03-03 |
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