JPS60121267A - 多孔質タ−ゲツトの急速排気方法 - Google Patents

多孔質タ−ゲツトの急速排気方法

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Publication number
JPS60121267A
JPS60121267A JP22540183A JP22540183A JPS60121267A JP S60121267 A JPS60121267 A JP S60121267A JP 22540183 A JP22540183 A JP 22540183A JP 22540183 A JP22540183 A JP 22540183A JP S60121267 A JPS60121267 A JP S60121267A
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JP
Japan
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target
porous
torr
inert gas
vacuum
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Application number
JP22540183A
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English (en)
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JPH0341546B2 (ja
Inventor
Kenichi Agawa
阿川　健一
Hisaharu Obinata
小日向　久治
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Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Nihon Shinku Gijutsu KK
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Publication date
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Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はＴａｚＯｒ＋　、　Ｍｏ　Ｓ　ｉｚ等の多孔質
ターゲットの急速排気方法に関する。
一般にこの種のターゲットは実質的な表面積が大きいの
で一旦大気中にさらすと大量に水分等を吸着し、その後
の排気に非常に時間が掛り、多孔質ターゲットを使用し
てのスパッタリングを迅速に開始出来ない不都合がある
。
本発明はこのような不都合を解消することを目的とした
もので、真空室内にＴａ２Ｏ３その他の多孔質ターゲッ
トを設け、該真空室内を約ｔ　ｏ−’乃至１０−５Ｔｏ
ｒｒ程度まで真空排気し、Ａｒガスその他の不活性ガス
を注入して該室内を約１０−”　Ｔｏｒｒ台程度とした
のち該多孔質ターゲットに短時間のスパッタリングを施
し、不活性ガスを排気することを特徴とする。
本発明の実施例は次の通りである。
真空室内にＴａ１ｏｎの多孔質ターゲラ）＆設け、大気
を導入し、５分間放置して該ターゲットに空気中の水分
等を吸着させた。
次いで該真空室内をＩ　Ｘ　ｌ　Ｏ−’　Ｔｏｒｒ　Ｋ
排気し、Ａｒ　ガスを注入して室内を５　Ｘ　１０−３
Ｔｕｒｒ　とし、１５Ｋｗの成力で５分間スパッタした
。このあとＡｒ　ガスを排気して室内全５　Ｘ　１０＝
Ｔｏ　ｒ　ｒとしたが、この圧力にまでｌＸｌ０’Ｔｏ
ｒｒＯ時から要した時間はスパッタリングの５分間を含
めて２５分間であった。
途中のｌ　Ｘ　ｌ　Ｏ＝　Ｔｏｒｒ　ＶＣなるまではわ
ずか１８分間２　Ｘ　１．０＝　Ｔｏｒｒまでは１０分
間であった。
これに対し前記と同条件で真空室内にＴａｚ０５の多孔
質ターゲットを設け、大気を導入し、５分間放置して該
ターゲットに空気中の水分等を吸着させ、直ちに前記と
同一の排気系［工り排気した。この場合２　Ｘ　ｌ　Ｏ
””　Ｔｏｒｒまで到達するには３７分も掛り、２時間
経過しても室内は５　Ｘ　ｌ　０−６Ｔｏｒｒにならな
かった。
このように本発明によるときは多孔質ターゲットを設け
た室内を１０−４〜ｌ　Ｏ−’　Ｔｏｒｒとしたのち不
活性ガスを注入して約１０−３’ｐｏｒｒ台とし、該タ
ーゲットに数分間のプレスノゼツタを施して室内紫排気
することにより画一的に排気を続けるエリも短時間で高
い真空度が得られ、多孔質ターゲットのスパッタリング
を迅速に行なえる等の効果がある。
外２名

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 真空室内にＴａｚＯｓその他の多孔質ターゲットを設け
    １．亥真空室内を約ｌ０−４乃至１０−５Ｔｏｒｒ程度
    まで真空排気し、Ａｒガスその他の不活性ガスを注入し
    て該室内を約１０−３Ｔｏｒｒ台程度としたのち１亥多
    孔質ターゲツトに短時間のスパッタリングを施し、不活
    性ガスを排気すること全特徴とする多孔質ターゲットの
    急速排気方法。
JP22540183A 1983-12-01 1983-12-01 多孔質タ−ゲツトの急速排気方法 Granted JPS60121267A (ja)

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JP22540183A JPS60121267A (ja) 1983-12-01 1983-12-01 多孔質タ−ゲツトの急速排気方法

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JPS60121267A true JPS60121267A (ja) 1985-06-28
JPH0341546B2 JPH0341546B2 (ja) 1991-06-24

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01215969A (ja) * 1988-02-23 1989-08-29 Fujitsu Ltd 酸化タンタルの成膜方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57207330A (en) * 1981-06-15 1982-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of stabilizing treatment for target material

Patent Citations (1)

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JPS57207330A (en) * 1981-06-15 1982-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of stabilizing treatment for target material

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01215969A (ja) * 1988-02-23 1989-08-29 Fujitsu Ltd 酸化タンタルの成膜方法

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JPH0341546B2 (ja) 1991-06-24

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