CN105908140A - Ito玻璃及其制备方法 - Google Patents

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金海涛
薛辉
昌江
任俊春
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Abstract

本发明公开了一种ITO玻璃及其制备方法，其中，所述制备方法包括：将玻璃基片送入真空室中，将真空室盖盖好，先用机械泵对真空室进行预抽，当真空室内压强抽至3‑5Pa后，开启分子泵，将室内压强抽至4×10‑5‑5×10‑5Pa；对玻璃基片进行加热处理；通入反应气体，并开启靶材机构进行溅射；稳定溅射10‑15min后，移开衬底挡板，靶材机构对玻璃基片进行溅射处理，得到所述ITO玻璃，制得的ITO玻璃稳定性较好、外表无缺陷。

Description

ITO玻璃及其制备方法
技术领域
本发明涉及ITO玻璃，具体地，涉及ITO玻璃及其制备方法。
背景技术
ITO玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟锡(俗称ITO)膜加工制作成的。在溅射过程中需要控制好室内的真空度和和溅射时间，溅射工艺直接影响到玻璃的镀膜质量。
因此，提供一种稳定性较好、外表无缺陷的ITO玻璃及其制备方法是本发明亟需解决的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种稳定性较好、外表无缺陷的ITO玻璃及其制备方法。
为了实现上述目的，本发明提供了一种ITO玻璃的制备方法，其中，所述制备方法包括：
(1)将玻璃基片送入真空室中，将真空室盖盖好，先用机械泵对真空室进行预抽，当真空室内压强抽至3-5Pa后，开启分子泵，将室内压强抽至4×10-5-5×10-5Pa；
(2)对玻璃基片进行加热处理；
(3)通入反应气体，并开启靶材机构进行溅射；
(4)稳定溅射10-15min后，移开衬底挡板，靶材机构对玻璃基片进行溅射处理，得到所述ITO玻璃。
本发明还提供了一种ITO玻璃，其中，所述ITO玻璃由上述的制备方法制得。
通过上述技术方案，本发明提供的ITO玻璃的制备方法包括：将玻璃基片送入真空室中，将真空室盖盖好，先用机械泵对真空室进行预抽，当真空室内压强抽至3-5Pa后，开启分子泵，将室内压强抽至4×10-5-5×10-5Pa；对玻璃基片进行加热处理；通入反应气体，并开启靶材机构进行溅射；稳定溅射10-15min后，移开衬底挡板，靶材机构对玻璃基片进行溅射处理，得到所述ITO玻璃，制得的ITO玻璃表面无缺陷，玻璃温度性优良，同时制备该ITO玻璃的方法简单。
本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
具体实施方式
以下对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
本发明提供了一种ITO玻璃的制备方法，其中，所述制备方法包括：将玻璃基片送入真空室中，将真空室盖盖好，先用机械泵对真空室进行预抽，当真空室内压强抽至3-5Pa后，开启分子泵，将室内压强抽至4×10-5-5×10-5Pa；对玻璃基片进行加热处理；通入反应气体，并开启靶材机构进行溅射；稳定溅射10-15min后，移开衬底挡板，靶材机构对玻璃基片进行溅射处理，得到所述ITO玻璃。制得的ITO玻璃表面无缺陷，玻璃温度性优良，同时制备该ITO玻璃的方法简单。
在本发明的一种优选的实施方式中，为了使得溅射离子能够更好的附着在玻璃基片的表面，提高镀膜质量，所述加热处理中，加热温度为130-135℃，加热时间为10-15min。
为了进一步提高镀膜质量，所述反应气体由氩气和氧气组成，优选的，所述氩气和所述氧气的体积比为3-5:1。
在本发明的一种优选的实施方式中，为了使得玻璃表面的镀膜层无缺陷，所述靶材机构对玻璃基片进行溅射处理的时间为5-15min。
为了去除靶材表面的氧化膜和杂质，尽量减少杂质对薄膜的影响，提高成膜质量，所述靶材机构在使用前需进行高功率溅射处理，处理时间为15-20min。
本发明还提供了一种ITO玻璃，其中，所述ITO玻璃由上述的制备方法制得。
以下将通过实施例对本发明进行详细描述。
实施例1
将玻璃基片送入真空室中，将真空室盖盖好，先用机械泵对真空室进行预抽，当真空室内压强抽至3Pa后，开启分子泵，将室内压强抽至4×10-5Pa；对玻璃基片进行加热处理(加热温度为130℃，加热时间为10min)；通入反应气体(所述反应气体由氩气和氧气组成，且氩气和氧气的体积比为3:1)，并开启靶材机构进行溅射；稳定溅射10min后，移开衬底挡板，靶材机构对玻璃基片进行溅射处理(时间为5min)，得到所述ITO玻璃A1。
实施例2
将玻璃基片送入真空室中，将真空室盖盖好，先用机械泵对真空室进行预抽，当真空室内压强抽至5Pa后，开启分子泵，将室内压强抽至5×10-5Pa；对玻璃基片进行加热处理(加热温度为135℃，加热时间为15min)；通入反应气体(所述反应气体由氩气和氧气组成，且氩气和氧气的体积比为5:1)，并开启靶材机构进行溅射；稳定溅射15min后，移开衬底挡板，靶材机构对玻璃基片进行溅射处理(时间为15min)，得到所述ITO玻璃A2。
实施例3
将玻璃基片送入真空室中，将真空室盖盖好，先用机械泵对真空室进行预抽，当真空室内压强抽至4Pa后，开启分子泵，将室内压强抽至4.5×10-5Pa；对玻璃基片进行加热处理(加热温度为132℃，加热时间为12min)；通入反应气体(所述反应气体由氩气和氧气组成，且氩气和氧气的体积比为4:1)，并开启靶材机构进行溅射；稳定溅射12min后，移开衬底挡板，靶材机构对玻璃基片进行溅射处理(时间为10min)，得到所述ITO玻璃A3。
对比例1
将玻璃基片送入真空室中，将真空室盖盖好，先用机械泵对真空室进行预抽，当真空室内压强抽至2Pa后，开启分子泵，将室内压强抽至3×10-5Pa；对玻璃基片进行加热处理(加热温度为120℃，加热时间为5min)；通入反应气体(所述反应气体由氩气和氧气组成，且氩气和氧气的体积比为1:1)，并开启靶材机构进行溅射；稳定溅射5min后，移开衬底挡板，靶材机构对玻璃基片进行溅射处理(时间为3min)，得到所述ITO玻璃D1。
对比例2
将玻璃基片送入真空室中，将真空室盖盖好，先用机械泵对真空室进行预抽，当真空室内压强抽至7Pa后，开启分子泵，将室内压强抽至7×10-5Pa；对玻璃基片进行加热处理(加热温度为145℃，加热时间为20min)；通入反应气体(所述反应气体由氩气和氧气组成，且氩气和氧气的体积比为6:1)，并开启靶材机构进行溅射；稳定溅射20min后，移开衬底挡板，靶材机构对玻璃基片进行溅射处理(时间为20min)，得到所述ITO玻璃D2。
测试例1
对制得的ITO玻璃A1-A3、D1和D2进行附着力和稳定性测试，在附着力测试中：用胶带贴附在膜层表面并迅速撕下，观察膜层损伤情况，在稳定性测试中：将ITO玻璃在300℃下加热，贯穿ITO玻璃变形情况。
表1
实施例编号 膜层损伤情况 玻璃变形情况
A1 表面膜层无损伤 无变形
A2 表面膜层无损伤 无变形
A3 表面膜层无损伤 无变形
D1 表面膜层有轻微损伤 有轻微变形
D2 表面膜层有严重损伤 有严重变形
通过上述表格数据可以看出，在本发明范围内制得的ITO玻璃A1-A3在附着力测试和稳定性测试中，其表面膜层无损伤，且也无变形情况，而在本发明范围外制得的ITO玻璃D1和D2表面膜层有轻微损伤或严重损伤，高温下玻璃也有变形情况。
以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。

Claims (7)

1.一种ITO玻璃的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
(1)将玻璃基片送入真空室中，将真空室盖盖好，先用机械泵对真空室进行预抽，当真空室内压强抽至3-5Pa后，开启分子泵，将室内压强抽至4×10-5-5×10-5Pa；
(2)对玻璃基片进行加热处理；
(3)通入反应气体，并开启靶材机构进行溅射；
(4)稳定溅射10-15min后，移开衬底挡板，靶材机构对玻璃基片进行溅射处理，得到所述ITO玻璃。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述加热处理中，加热温度为130-135℃，加热时间为10-15min。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述反应气体由氩气和氧气组成。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述氩气和所述氧气的体积比为3-5:1。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述靶材机构对玻璃基片进行溅射处理的时间为5-15min。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述靶材机构在使用前需进行高功率溅射处理，处理时间为15-20min。
7.一种ITO玻璃，其特征在于，所述ITO玻璃由权利要求1-6中任意一项所述的制备方法制得。
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