JPS60119794A - プリント基板の製造方法 - Google Patents

プリント基板の製造方法

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JPS60119794A
JPS60119794A JP22804583A JP22804583A JPS60119794A JP S60119794 A JPS60119794 A JP S60119794A JP 22804583 A JP22804583 A JP 22804583A JP 22804583 A JP22804583 A JP 22804583A JP S60119794 A JPS60119794 A JP S60119794A
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JP
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metal core
semi
hole
providing
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JP22804583A
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English (en)
Inventor
中井 達司
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、絶縁特性が優れ0強度が強く、高精度な導体
パターンを実現できる、金属芯を有するプリント基板の
製造方法に関するものである。
〔従来技術〕
従来、金属芯入りプリント基板は、ガラスエポキシ基板
9紙エポキシ基板等に比べ、放熱性能が極めて良い1寸
法安定性が良い、シールド効果を有する2機械的構造要
素として装置に用いることができる等の利点があり、電
子機器部品の実装に用いられている。
従来の金属芯入りプリント基板の絶縁膜の形成方法とし
ては、(イ)樹脂充填法、 (ロ)流動浸漬塗装法、 
(ハ)静電粉体塗装法、 (ニ)電着塗装法等が用いら
れている。また、従来の絶縁膜形成後の導体形成方法と
しては、(alサブトラクティブ法、(b)アディティ
ブ法がある。そして、高密度のプリント基板を形成でき
る絶縁膜形成法と導体形成法との組み合わせとして、従
来、上記(イ)の樹脂充填法と(a)のザブトラクチイ
ブ法との組み合わせ、(ニ)の電着塗装法と(blのア
ディティブ法との組み合わせが一般に実施されている。
第1図は、上記(イ)の樹脂充填法と(alのサブトラ
クティブ法との組み合わせによるプリント基板の製造方
法を説明するための構成図である。図において、1はア
ルミニウム、鉄、銅等の金属である金属芯、(2)はエ
ポキシ系等の樹脂からなる樹脂膜、3は電気伝導のよい
銅等の導体からなる導体パターン、4は部品5のリード
を貫通させてハンダ付けするスルーホールであり、この
スルーホール4は表、裏面(同図においては上面と下面
)間を導通させるスルーホールメッキ穴としても用いら
れる。
第1図の構造を有するプリント基板の製造工程を説明す
ると、まず金属芯1にプレスやドリルによりスルーホー
ル4を明ける。そして金属芯lの表面処理を行なった後
、半硬化状態の樹脂と銅箔とを金属芯lの両面に積層加
熱プレスする。その際、樹脂がスルーボール4に充填さ
れる。次ニ再度、スルーボール4をあけた後、ザブトラ
クチイブ法により所要の導体パターン3を形成する。
第2図は、上記(ニ)の電着塗装法とfb)のアディテ
ィブ法との組み合わせによるプリント基板の製造方法を
説明するための構成図である。図において1〜5は第2
図と同−又は相当部分を示し、6は電着塗装法によるエ
ポキシイL(脂、アクリル樹脂等の電着樹脂膜である。
第2図め構造を有するプリント基板の製造工程について
説明すると、まず金属芯lにプレスやトリルによりスル
ーホール4をあける。そして金属芯1の表面処理を行な
った後、金属芯lの全面にわたって電着塗装により電着
樹脂膜6を形成する。
次にアディティブ法により導体パターン3を形成する。
上記従来の第1図に示す樹脂充填法では、スルーホール
内のボイドをなくすためには、樹脂膜2を形成するため
の樹脂量を充分多くする必要があり、そのため樹脂膜2
が厚くなり、部品5と金属芯1との間の熱抵抗が太き(
なる欠点があった。
また、ボイドを皆無にすることは難しく、そのためこの
従来方法ではボイドに銅メッキが侵入し内部の金属芯と
短絡して絶縁耐圧不良となるという欠点があった。
また、上記従来の第2図に示す電着塗装法では、電気分
解でのガスのため膜にピンボールが生じたり、スルーホ
ールのエツジ部の膜厚が焼付は硬化時に薄くなり、その
ため絶縁耐圧が低下する欠点があった。またアディティ
ブ法による導体形成は引張り強度が充分でながったり、
導体金属が脆くて信頼性に問題があり、細い幅の高密度
パターンができない欠点があった。
〔発明の概要〕
本発明は、上記のような従来の欠点を除去するためにな
されたもので、絶縁膜形成に電着塗装法と樹脂充填法と
を併用して相補的に絶縁膜を形成することにより、絶縁
膜を比較的薄くして絶縁特性、放熱特性を向上でき、ま
た導体形成法としてサブトラクティブ法を適用すること
ができ高密度な導体パターンの形成が可能な金属芯入り
プリント基板の製造方法を提供することを目的としてい
る。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の実施例を図について説明する。
第3図及び第4図は本願の第1ないし第3の発明の一実
施例を説明するためのもので、第3図はパターン形成に
入る前の絶縁処理が完了した状態の構成図であり、第4
図は第3図の状態からさらに2次穴明け、パターン形成
が終了し、部品を実装した状態を示す図である。
図において、工は金属芯、2ば半硬化樹脂による樹脂膜
、3aは導体である銅箔、3はパターン形成後の導体パ
ターン、4はスルーボール、5は部品、6は電着樹脂膜
である。
次に本実施例方法を第3図、第4図について説明する。
(1)金属芯工は一般にアルミニウム、銅、鉄などを用
いるが、本実施例では比重、熱伝導で有利なアルミニウ
ム板を用い、また必要放熱量から厚さを決定する。 こ
のアルミニウム板lにドリルで2000〜5000’R
P Mで穴明けしてスルーホール4を形成する(第1工
程)。穴径は部品のリード径。
樹脂膜厚、電着膜厚、メッキ厚、はんだ厚により決定す
る。本実施例では部品5のリード径+1.0鰭で穴明け
した。
(2)上記アルミニウム板1に接着強度向上のた100
μm厚の電着樹脂膜を形成する(第2工程)。
(3)スルーボール4の分布に応じた所要の樹脂量の半
硬化シートとその表面に接着強度向上処理が施された導
体膜である銅箔3aとを両面に重ね、この状態で積層加
熱プレスを行なう(第3工程)。
これにより、上記半硬化樹脂が電着樹脂膜6を被覆する
とともにスルーホール4に流入充填され、プリント基板
は第3図の状態となる。
(4)次に上記スルーホール4内に充填された樹脂に穴
をドリル回転数50000 I? P Mでもって明り
、さらに無電界メッキ、電気メッキ、露光、現像。
エツチング等通常のサブトラクティブ法によるプリント
基板製造法プロセスにより導体パターンを形成する(第
4工程)。これにより第4図に示すプリント基板が得ら
れた。
本実施例のプリント基板では、短絡不良はなく、瞬時耐
圧は1.5KVrms以上であり、長時間印加絶縁特性
に向上が見られ、また、導体パターンの引張強度、スル
ーボール引張強度、パターン密度等は一般のガラスエポ
キシ高密度基板と同等の性能が得られた。
このように、本実施例では、しかも電着樹脂膜とその上
に設けた樹脂膜との複合効果により、絶縁特性を向上さ
せることができ、しかもこの複合効果により所要の絶縁
特性を樹脂厚を薄くしてf4?ることができるので、部
品から発生した熱をより容易に金属芯に伝導して放熱性
を向上でき、また電着樹脂膜の上に半硬化樹脂及び銅簿
を重ね、加熱プレスするようにしたので表面が平坦にな
り、高精度で高密度な導体パターンが得られ、さらに銅
箔と樹脂との界面が、従来から用いられている一般ガラ
スエポキシ基板等の場合と同等となり、それらの信頼性
を保有することができる。しかも電着塗装工程以後の工
程は一般のガラスエポキシ基板の製造設備およびプロセ
スをそのまま適用でき、従って高密度配線化に対応して
、あまりプロセスを変更することなく多層配線が可能で
あり、高放熱、最短配線、シールド効果、絶縁特性、接
続信頼性等をより向上できる金属芯入りプリント基板を
実現できる。
第5図は本願の第4ないし第6の発明の一実施例を説明
するためのもので、本実施例によるプリント基板では、
第4図におけるものに比べ導体、<ターンを形成した層
が1層分多くなっている。
同図において2は電着樹脂膜6と共に絶縁特性を向上さ
せるための半硬化樹脂からなる樹脂膜であり、2aは内
層パターン3aと外層パターン3とを絶縁するための、
ガラス基材等が入った樹脂膜であり、該内層パターン3
aと樹脂膜2aとにより既にパターンが形成されたパタ
ーン形成プリント基板である銅張積層板7となっている
。また本実施例では、スルーホール4は内層パターン3
aと外層パターン3とを、あるいは外層パターン同志を
接続するためのものであり、また該スルーボール4は部
品5のリードを挿入するためにも用いられている。
本実施例方法は、上記第3図、第4図の実施例の第3工
程において、下面には銅箔3aのかわりに内層パターン
3aとなる銅箔面をパターン形成した銅張積層板7を重
ね、この状態で加熱プレスしたものであり、その後は第
4図の実施例と同じ工程で行なわれるものである。
本実施例では、上記第3図、第4図の効果に加えて、多
層の導体パターンを有する金属芯入りプリント基板が容
易に得られる効果がある。
なお、上記両実施例では、導体形成にザブトラクチイブ
法を用いた場合について説明したが、導体形成後のパタ
ーンが充分な信頼性を保有するアディティブ法があれば
、本発明方法により絶縁膜を形成した後、このアディテ
ィブ法を通用してもよく、このようにしても上記実施例
と同様の93J果が得られる。
〔発明の効果〕
以上のように本願の第1ないし第3の本発明Gこ係るプ
リント基板の製造方法によれ番ヨ、絶lff1l史形成
に電着塗装法と樹脂充填法とを併用し、■■?ioりに
絶縁膜を形成するようにしたので、絶縁性及び放熱性を
向上できる効果があり、また高精度な導体パターンが容
易に得られる効果があり、また本願の第4ないし第6の
発明に係るプリント基板の製造方法によれば、さらに上
記効果Gこ加えて多層の導体パターンが容易に得られる
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は各々従来の樹脂充填法、電着塗装法に
よるプリント基板の製造方法を説明するための構成図、
第3図、第4図は本願の第1なG1し第3の発明の一実
施例によるプリント基板の製造方法を説明するための構
成図、第5図しよ本願の第4ないし第6の発明の一実施
例によるブIJント基板の製造方法を説明するための構
成図である。 図中、lは金属芯、2は半硬化樹脂膜、3は導体パター
ン、3aは導体膜(銅箔)、4はスル−ホール、6は電
着樹脂膜、7はパターン形成プリント基板(銅張積層板
)である。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 金属芯にスルーホールを設ける第1工程と、上
    記金属芯の上、下表面及びスルーホールの壁面に電着塗
    装により絶縁性電着樹脂膜を設ける第2工程と、上記電
    着樹脂膜上に絶縁性半硬化樹脂シートを重ねこれを加熱
    プレスして該半硬化樹脂により上記電着樹脂膜を被覆す
    る第3工程とを備えたことを特徴とするプリント基板の
    製造方法。
  2. (2)金属芯にスルーホールを設ける第1工程と、上記
    金属芯の上、下表面及びスルーホールの壁面に電着塗装
    により絶縁性電着樹脂膜を設ける第2工程と、上記電着
    樹脂膜上に絶縁性半硬化樹脂シートを重ねこれを加熱プ
    レスして該半硬化樹脂により上記電着樹脂膜を被覆する
    第3工程と、上記半硬化樹脂膜上に導体膜を形成する第
    4工程と、」二記導体膜の一部を削除して所定の導体パ
    ターンを形成する第5工程とを備えたことを特徴とする
    プリント基板の製造方法。
  3. (3) 金属芯にスルーホールを設ける第1工程と、上
    記金属芯の上、下表面及びスルーボールの壁面に電着塗
    装により絶縁性電着樹脂膜を設ける第2工程と、上記電
    着樹脂膜上に絶縁性半硬化樹脂シートとその上に導体膜
    とを重ねこれを加熱フッスして該半硬化樹脂により上記
    電着樹脂膜を被覆する第3工程と、上記導体膜の一部を
    削除して所定の導体パターンを形成する第4工程とを備
    えたことを特徴とするプリント基板の製造方法。
  4. (4)金属芯にスルーホールを設ける第1工程と、上記
    金属芯の上、下表面及びスルーボールの壁面に電着塗装
    により絶縁性電着樹脂膜を設ける第2工程と、上記電着
    樹脂膜上に絶縁性半硬化樹脂シートとその上に既に下面
    側に導体回路パターンが形成されたパターン形成プリン
    ト基板とを一対又は複数対重ねこれを加熱プレスして該
    半硬化樹脂により上記電着樹脂膜を被覆する第3工程と
    を備えたことを特徴とするプリント基板の製造方法。
  5. (5) 金属芯にスルーホールを設ける第1工程と、上
    記金属芯の上、下表面及びスルーホールの壁面に電着塗
    装により絶縁性電着樹脂膜を設ける第2工程と、上記電
    着樹脂膜上に絶縁性半硬化樹脂シートとその上に既に下
    面側に導体回路パターンが形成されたパターン形成プリ
    ント基板とを一対又は複数対重ねこれを加熱プレスして
    該半硬化樹脂により上記電着樹脂膜を被覆する第3工程
    と、外表面の半硬化樹脂膜又はプリント基板上に導体膜
    を形成する第4工程と、上記導体膜の一部を削除して所
    定の導体パターンを形成する第5工程とを備えたことを
    特徴とするプリント基板の製造方法。
  6. (6)金属芯にスルーホールを設ける第1工程と、上記
    金属芯の上、下表面及びスルーホールの壁面に電着塗装
    により絶縁性電着樹脂膜を設ける第2工程と、上記電着
    樹脂股上に絶縁性半硬化樹脂シートとその上に既に下面
    側に導体回路パターンが形成されたパターン形成プリン
    ト基板とを一対又は複数対重ねさらに外表面の半硬化樹
    脂シート又はプリント基板上に導体膜を重ねこれを加熱
    プレスして該半硬化樹脂により上記電着樹脂膜を被覆す
    る第3工程と、上記導体膜の一部を削除して所定の導体
    パターンを形成する第4工程とを備えたことを特徴とす
    るプリント基板の製造方法。
JP22804583A 1983-11-30 1983-11-30 プリント基板の製造方法 Pending JPS60119794A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003031719A (ja) * 2001-07-16 2003-01-31 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体パッケージ及びその製造方法並びに半導体装置
JP2008053847A (ja) * 2006-08-22 2008-03-06 Tdk Corp 非可逆回路素子及び通信装置

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