JPS6011150B2 - 布帛の低温プラズマ連続処理装置 - Google Patents
布帛の低温プラズマ連続処理装置Info
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- JPS6011150B2 JPS6011150B2 JP57000818A JP81882A JPS6011150B2 JP S6011150 B2 JPS6011150 B2 JP S6011150B2 JP 57000818 A JP57000818 A JP 57000818A JP 81882 A JP81882 A JP 81882A JP S6011150 B2 JPS6011150 B2 JP S6011150B2
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- Japan
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- temperature plasma
- fabric
- low
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
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- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06B—TREATING TEXTILE MATERIALS USING LIQUIDS, GASES OR VAPOURS
- D06B23/00—Component parts, details, or accessories of apparatus or machines, specially adapted for the treating of textile materials, not restricted to a particular kind of apparatus, provided for in groups D06B1/00 - D06B21/00
- D06B23/14—Containers, e.g. vats
- D06B23/16—Containers, e.g. vats with means for introducing or removing textile materials without modifying container pressure
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M10/00—Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements
- D06M10/02—Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements ultrasonic or sonic; Corona discharge
- D06M10/025—Corona discharge or low temperature plasma
-
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- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
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- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
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- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、編物、織物、不織布等の布畠を連続的に低温
プラズマ処理するための処理装置に関するものである。
プラズマ処理するための処理装置に関するものである。
従来工業的に織物、編物など布毎を連続的に処理する工
程は、染色前の工程では、布常に付着している溌水性爽
雑物を除去、あるいは親水化し布岳に染料液が容易に浸
透せしめるための精練工程および染色後柔軟、縦水、静
電防止、防汚、吸水などの特性を付与する仕上工程があ
るが、いずれの工程も水系で処理を行っていた。たとえ
ば精練工程では、木綿を含む布常の場合カセィソーダ、
ソーダ灰などのアルカリと、精練助剤を付与し、１００
ｏ前後で２０分以上スチー′ミングあるいはアルカリ、
精練助剤を含む水溶液で煮沸して、溌水性爽雑物を水溶
化せしめ次いで、処理布常に付着している薬剤および可
溶化された爽雑物等の付着物を除去するための手段とし
て水洗を繰り返し行い更には水洗後乾燥する工程が必要
であった。
程は、染色前の工程では、布常に付着している溌水性爽
雑物を除去、あるいは親水化し布岳に染料液が容易に浸
透せしめるための精練工程および染色後柔軟、縦水、静
電防止、防汚、吸水などの特性を付与する仕上工程があ
るが、いずれの工程も水系で処理を行っていた。たとえ
ば精練工程では、木綿を含む布常の場合カセィソーダ、
ソーダ灰などのアルカリと、精練助剤を付与し、１００
ｏ前後で２０分以上スチー′ミングあるいはアルカリ、
精練助剤を含む水溶液で煮沸して、溌水性爽雑物を水溶
化せしめ次いで、処理布常に付着している薬剤および可
溶化された爽雑物等の付着物を除去するための手段とし
て水洗を繰り返し行い更には水洗後乾燥する工程が必要
であった。
また仕上り工程においては、水に溶解あるいは分散させ
た仕上加工剤を付与した後乾燥機を通して水分を蒸発除
去させる工程が必要であり、加工目的によってはさらに
高温熱処理により仕上剤を反応固着せしめる工程が必要
であった。ところがかかる処理手段では、処理用の薬剤
がコスト高になること、薬剤を布織こ反応せしめるため
に多量の熱量を必要とすること、更には精練工程の場合
その熱及び薬液により反応処理された布常に含まれる銭
液あるし、は爽雑物等の付着物を除去せしめるための多
数の水洗機及びこれらの各水洗機内に供孫舎すべき多量
の水資源が必要であること、更には水洗された排液を廃
棄処理するための装置が必要である等のことから、布毎
を処理するには、多量の水資源、熱エネルギーを費して
いるのが現状である。また水洗機より排出された廃液中
には必然的にも薬剤が含まれることから、鱗液公害等の
問題も生じ、該廃液の処理にも多大なる設備費、人件費
等がかさんでいるもので、特に繊維加工業会におては経
済性に欠けるものであった。本発明はかかることから鑑
みてなされたもので、熱エネルギー、水資源を殆んど使
用することなく布帯の処理を連続的に行なうことができ
る処理装置を提供するものである。
た仕上加工剤を付与した後乾燥機を通して水分を蒸発除
去させる工程が必要であり、加工目的によってはさらに
高温熱処理により仕上剤を反応固着せしめる工程が必要
であった。ところがかかる処理手段では、処理用の薬剤
がコスト高になること、薬剤を布織こ反応せしめるため
に多量の熱量を必要とすること、更には精練工程の場合
その熱及び薬液により反応処理された布常に含まれる銭
液あるし、は爽雑物等の付着物を除去せしめるための多
数の水洗機及びこれらの各水洗機内に供孫舎すべき多量
の水資源が必要であること、更には水洗された排液を廃
棄処理するための装置が必要である等のことから、布毎
を処理するには、多量の水資源、熱エネルギーを費して
いるのが現状である。また水洗機より排出された廃液中
には必然的にも薬剤が含まれることから、鱗液公害等の
問題も生じ、該廃液の処理にも多大なる設備費、人件費
等がかさんでいるもので、特に繊維加工業会におては経
済性に欠けるものであった。本発明はかかることから鑑
みてなされたもので、熱エネルギー、水資源を殆んど使
用することなく布帯の処理を連続的に行なうことができ
る処理装置を提供するものである。
即ち本発明を具体的に述べれば、処理すべき布常を連続
的に低温プラズマの雰囲気中に移行せしめ、該移行する
布常に低温プラズマを作用させて、精練工程の場合繊維
の表面及び繊維間に付着されている溌水性爽雑物等の不
純物を酸化分解させて親水化し、特に繊維の内芯部に及
ぶ精練処理効果を有効に行なうことができ、また仕上加
工の場合は気相で布幕の仕上処理ができるようにすると
共に薬液、熱エネルギー、水資源の使用が従来法に比べ
「極めて少量ですむことにより経済的に、しかも廃液に
よる公害問題を引き起すことなく布幕を処理することが
できる処理装置を提供することを目的とするものである
。以下に本発明を図面に示す実施例に基いて詳細に説明
する。
的に低温プラズマの雰囲気中に移行せしめ、該移行する
布常に低温プラズマを作用させて、精練工程の場合繊維
の表面及び繊維間に付着されている溌水性爽雑物等の不
純物を酸化分解させて親水化し、特に繊維の内芯部に及
ぶ精練処理効果を有効に行なうことができ、また仕上加
工の場合は気相で布幕の仕上処理ができるようにすると
共に薬液、熱エネルギー、水資源の使用が従来法に比べ
「極めて少量ですむことにより経済的に、しかも廃液に
よる公害問題を引き起すことなく布幕を処理することが
できる処理装置を提供することを目的とするものである
。以下に本発明を図面に示す実施例に基いて詳細に説明
する。
１は反応器であって、この反応器１には、処理すべき布
尾２をこの反応器１内に連続的に導入するための導入口
３と、反応器１内の布岳を連続的に導出させるための導
出口４が設けられている。
尾２をこの反応器１内に連続的に導入するための導入口
３と、反応器１内の布岳を連続的に導出させるための導
出口４が設けられている。
またこの導入口３及び導出口４の夫々には、布尾を連続
的に挿通することはできるが、反応器１内を真空（０．
１〜ｌｍｏｎ、望ましくは０．５〜２Ｔｏｎ）に保つこ
とができるシール機構５及び６が設けられているが、か
かるシール機構５，６は、本発明者らが開発している公
知のシール機構を利用することによって反応器１の導入
口及び導出口をシールすることができる。７は、反応器
１内において側面チドリ状に配談した上下２段の布畠ガ
イドロールであって、これらのガイドロールによって反
応器１内の布岳２は蛇行状に移行されるものである。
的に挿通することはできるが、反応器１内を真空（０．
１〜ｌｍｏｎ、望ましくは０．５〜２Ｔｏｎ）に保つこ
とができるシール機構５及び６が設けられているが、か
かるシール機構５，６は、本発明者らが開発している公
知のシール機構を利用することによって反応器１の導入
口及び導出口をシールすることができる。７は、反応器
１内において側面チドリ状に配談した上下２段の布畠ガ
イドロールであって、これらのガイドロールによって反
応器１内の布岳２は蛇行状に移行されるものである。
８はガイドロール７によってガイドされる布精２の進行
を妨げないように位置され、しかもガス流体を布用の移
送路に沿って流動せしめるために、反応器１内に配段さ
れた流体ガイド壁であって、上下のガイド壁が布岳２の
移送方向へ交互に配設されている。
を妨げないように位置され、しかもガス流体を布用の移
送路に沿って流動せしめるために、反応器１内に配段さ
れた流体ガイド壁であって、上下のガイド壁が布岳２の
移送方向へ交互に配設されている。
９は反応器１の布岳導出口４近傍に設けられたガス供ｖ
給口であり、更にこのガス供給口９の近傍かつ反応器１
内部には一対の電極板１０及び１０′が配置されている
。
給口であり、更にこのガス供給口９の近傍かつ反応器１
内部には一対の電極板１０及び１０′が配置されている
。
１１は反応器１の布岳導入口近傍に設けたバキューム口
であってこのバキューム口１１‘ま図示しない真空ポン
プに接続されている。
であってこのバキューム口１１‘ま図示しない真空ポン
プに接続されている。
以上が本実施例の構成であるが、次にその作用について
述べると、先ず真空ポンプを駆動して反応器１内を減圧
してその真空度をＩＴｏｎ以下望ましくは０．５Ｔｏｎ
以下にした後ガス供給口９より反応器１内へ所定のガス
を供給して真空ポンプによる排気量とガス供Ｖ給量を調
節することにより反応器１内の真空度を０．１〜ｌＯＴ
ｏｒｒ望ましくは０．５〜２ｒｏｒｒに調節する。
述べると、先ず真空ポンプを駆動して反応器１内を減圧
してその真空度をＩＴｏｎ以下望ましくは０．５Ｔｏｎ
以下にした後ガス供給口９より反応器１内へ所定のガス
を供給して真空ポンプによる排気量とガス供Ｖ給量を調
節することにより反応器１内の真空度を０．１〜ｌＯＴ
ｏｒｒ望ましくは０．５〜２ｒｏｒｒに調節する。
尚この真空度条件を０．１〜ｌＯＴｏｒｒに限定した理
由は、真空度がｌＯＴｏｎ以上では後述する低温プラズ
マの発生が不安定になり、また０．１Ｔｏｎ以下の真空
度に保持することは真空ポンプ容量およびシール機構な
どの面で設備コストおよび維持、運転コストが高くなる
ほか、低温プラズマガス濃度が低下するため処理効果も
低下するからである。かくして反応器１内を所定のガス
により所定の真空度に調整した後電極板１０，１０′へ
高周波、望ましくはｌｋＨｚ〜３００ＭＨｚの範囲内の
高周波電力を印加する。
由は、真空度がｌＯＴｏｎ以上では後述する低温プラズ
マの発生が不安定になり、また０．１Ｔｏｎ以下の真空
度に保持することは真空ポンプ容量およびシール機構な
どの面で設備コストおよび維持、運転コストが高くなる
ほか、低温プラズマガス濃度が低下するため処理効果も
低下するからである。かくして反応器１内を所定のガス
により所定の真空度に調整した後電極板１０，１０′へ
高周波、望ましくはｌｋＨｚ〜３００ＭＨｚの範囲内の
高周波電力を印加する。
かくすれば電極板１０，１０′間を中心として反応室１
内に低温プラズマが発生する。
内に低温プラズマが発生する。
この低温プラズマはバキューム口１１によるバキューム
作用により、そのバキューム口１１方向へガイド壁８間
をぬって移行される。
作用により、そのバキューム口１１方向へガイド壁８間
をぬって移行される。
このとき布韓導入口３より布常導出口４へ向けて布畠２
を蛇行状に連続移行せしめることにより、その布畠の移
行方向に逆らって低温プラズマが流動（カウンターカー
レント）される。従って反応器１内を連続的に移行され
る布常２が、その反応器１の布常導出口４に近ずくにつ
れて、該布常２には新鮮な低温プラズマで処理されるこ
とから、連続移行される布常が特に反応器１内の出口に
近ずくにつれて、布常への低温プラズマ処理が有効にな
されるものである。更に反応器内で進行する布常に対し
て、その布常の進行方向に流動する低温プラズマが作用
することから、その布常に対して低温プラズマが効率よ
く作用し、反応器内における低温プラズマの完全消化が
可能であって低温プラズマの無駄もなくなる効果もある
。また他の実施例として第２図に示す如く活性化された
低温プラズマのライフに応じて、蛇行路の途中において
、高周波を発生させる電極１２，１２′を配置し、気体
の再度活性化を行うようにすれば、処理効率が更に高め
られる効果もある。
を蛇行状に連続移行せしめることにより、その布畠の移
行方向に逆らって低温プラズマが流動（カウンターカー
レント）される。従って反応器１内を連続的に移行され
る布常２が、その反応器１の布常導出口４に近ずくにつ
れて、該布常２には新鮮な低温プラズマで処理されるこ
とから、連続移行される布常が特に反応器１内の出口に
近ずくにつれて、布常への低温プラズマ処理が有効にな
されるものである。更に反応器内で進行する布常に対し
て、その布常の進行方向に流動する低温プラズマが作用
することから、その布常に対して低温プラズマが効率よ
く作用し、反応器内における低温プラズマの完全消化が
可能であって低温プラズマの無駄もなくなる効果もある
。また他の実施例として第２図に示す如く活性化された
低温プラズマのライフに応じて、蛇行路の途中において
、高周波を発生させる電極１２，１２′を配置し、気体
の再度活性化を行うようにすれば、処理効率が更に高め
られる効果もある。
以上のように本発明は、布畠を連続的に導入、導出する
ことを許すが、器内を真空に保持することができるシー
ル機構を具備せしめた反応器と、この反応器内に配設さ
れかつ反応器内に供給された布幕を蛇行状に移行せしめ
たるためのガイドロール群と、これらのガイドロール群
によって移行される布常の進行を妨げることなく、布畠
の蛇行路を形成するガイド壁と、反応器の布畠導入口近
傍に設けられたバキューム口と、反応器の布毎導出口近
傍に設けられ、前記の蛇行路に向けてガスを噴出するガ
ス供給口と、このガス供給口より噴出されたガスにより
低温プラズマを発生せしめるための電極板を具備せしめ
ている布岳の低温プラズマ連続処理装置であるから、こ
の装置によれば、布畠の進行に逆らって流動する低温プ
ラズマが、その布精に作用されるので、該進行布幕の低
温プラズマ作用効果が高められ、反応器内の低温プラズ
マが完全消化される。また反応器内で進行する布泉は低
温プラズマ処理時間が長く確保できるので布泉に対する
低温プラズマ処理が有効かつ完全になされることから布
帯の進行スピードを上昇せしめることができ、更に、そ
の反応器の出口近傍ではその布島へ新鮮な低温プラズマ
が作用するので、充分かつ効果的な低温プラズマ処理が
でき、これにより熱エネルギー、水資源あるいは薬液を
使用することなく、糊抜きを含む前処理及び熱エネルギ
ー消費の極めて少なし、仕上加工が可能であることから
繊維製品の処理が経済的にしかも公害を招くことなく迅
速になされる効果がある。
ことを許すが、器内を真空に保持することができるシー
ル機構を具備せしめた反応器と、この反応器内に配設さ
れかつ反応器内に供給された布幕を蛇行状に移行せしめ
たるためのガイドロール群と、これらのガイドロール群
によって移行される布常の進行を妨げることなく、布畠
の蛇行路を形成するガイド壁と、反応器の布畠導入口近
傍に設けられたバキューム口と、反応器の布毎導出口近
傍に設けられ、前記の蛇行路に向けてガスを噴出するガ
ス供給口と、このガス供給口より噴出されたガスにより
低温プラズマを発生せしめるための電極板を具備せしめ
ている布岳の低温プラズマ連続処理装置であるから、こ
の装置によれば、布畠の進行に逆らって流動する低温プ
ラズマが、その布精に作用されるので、該進行布幕の低
温プラズマ作用効果が高められ、反応器内の低温プラズ
マが完全消化される。また反応器内で進行する布泉は低
温プラズマ処理時間が長く確保できるので布泉に対する
低温プラズマ処理が有効かつ完全になされることから布
帯の進行スピードを上昇せしめることができ、更に、そ
の反応器の出口近傍ではその布島へ新鮮な低温プラズマ
が作用するので、充分かつ効果的な低温プラズマ処理が
でき、これにより熱エネルギー、水資源あるいは薬液を
使用することなく、糊抜きを含む前処理及び熱エネルギ
ー消費の極めて少なし、仕上加工が可能であることから
繊維製品の処理が経済的にしかも公害を招くことなく迅
速になされる効果がある。
図面はいずれも本発明よりなる連続低温プラズマ処理装
置の実施例を示し、第１図はその第１実施例を示した断
面図、第２図はその第２実施例の断面図である。 １・・・・・・反応器、２・・・・・０布常、３・・・
…導入口、４・・・・・・導出口、６，６……シール機
構、７・・・…反応器、８……ガイド壁、９……ガス供
給口、１０，１０′…・・・電極板、１１……バキュー
ム口、１２，１２′・・・・・・電極板。 第１図 第２図
置の実施例を示し、第１図はその第１実施例を示した断
面図、第２図はその第２実施例の断面図である。 １・・・・・・反応器、２・・・・・０布常、３・・・
…導入口、４・・・・・・導出口、６，６……シール機
構、７・・・…反応器、８……ガイド壁、９……ガス供
給口、１０，１０′…・・・電極板、１１……バキュー
ム口、１２，１２′・・・・・・電極板。 第１図 第２図
Claims (1)
- １ 布帛を連続的に導入、導出することを許すが、器内
を真空に保持することができるシール機構を具備せしめ
た反応器と、この反応器内に配設されかつ反応器内に供
給された布帛を蛇行状に移行せしめるためのガイドロー
ル群と、これらのガイドロール群によつて移行される布
帛の進行を妨げることなく、布帛の蛇行路を形成するガ
イド壁と、反応器の布帛導入口近傍に設けられたバキユ
ーム口と、反応器の布帛導出口近傍に設けられ、前記の
蛇行路に向けてガスを噴出するガス供給口と、このガス
供給口より噴出されたガスにより低温プラズマを発生せ
しめるための電極板を具備せしめていることを特徴とす
る布帛の低温プラズマ連続処理装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57000818A JPS6011150B2 (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 布帛の低温プラズマ連続処理装置 |
| US06/452,786 US4437324A (en) | 1982-01-06 | 1982-12-27 | Apparatus for treating a cloth continuously with the use of low-temperature plasma |
| DE19833300096 DE3300096A1 (de) | 1982-01-06 | 1983-01-04 | Anlage zum kontinuierlichen behandeln von stoff mit einem niedertemperatur-plasma |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57000818A JPS6011150B2 (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 布帛の低温プラズマ連続処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58120862A JPS58120862A (ja) | 1983-07-18 |
| JPS6011150B2 true JPS6011150B2 (ja) | 1985-03-23 |
Family
ID=11484245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57000818A Expired JPS6011150B2 (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 布帛の低温プラズマ連続処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4437324A (ja) |
| JP (1) | JPS6011150B2 (ja) |
| DE (1) | DE3300096A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3312307A1 (de) * | 1983-04-06 | 1984-10-11 | Sando Iron Works Co., Ltd., Wakayama, Wakayama | Vorrichtung zum behandeln eines textilguts |
| US4829189A (en) * | 1986-07-18 | 1989-05-09 | Sando Iron Works Co., Ltd. | Apparatus for low-temperature plasma treatment of sheet material |
| US4968918A (en) * | 1987-07-06 | 1990-11-06 | Kanebo, Ltd. | Apparatus for plasma treatment |
| US5314539A (en) * | 1990-05-10 | 1994-05-24 | Eastman Kodak Company | Apparatus for plasma treatment of continuous material |
| DE29600991U1 (de) * | 1996-01-20 | 1997-05-22 | Straemke Siegfried Dr Ing | Plasmareaktor |
| DE60102903T2 (de) * | 2000-02-11 | 2005-05-12 | Dow Corning Ireland Ltd., Midleton | Eine plasmaanlage mit atmosphärischem druck |
| JP4822378B2 (ja) * | 2001-02-06 | 2011-11-24 | 株式会社ブリヂストン | 成膜装置および成膜方法 |
| US20060118242A1 (en) * | 2001-02-12 | 2006-06-08 | Anthony Herbert | Atmospheric pressure plasma system |
| JP4977754B2 (ja) * | 2006-05-02 | 2012-07-18 | ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド | ウェブシール装置 |
| EP2013396A1 (en) * | 2006-05-02 | 2009-01-14 | Dow Corning Ireland Limited | Fluid replacement system |
| CN106222861A (zh) * | 2016-08-12 | 2016-12-14 | 江苏宋和宋智能科技有限公司 | 一种布面清洗装置及其方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5298064A (en) * | 1976-02-13 | 1977-08-17 | Toray Industries | Method of modification of surface condition and treating apparatus thereof |
-
1982
- 1982-01-06 JP JP57000818A patent/JPS6011150B2/ja not_active Expired
- 1982-12-27 US US06/452,786 patent/US4437324A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
- 1983-01-04 DE DE19833300096 patent/DE3300096A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5298064A (en) * | 1976-02-13 | 1977-08-17 | Toray Industries | Method of modification of surface condition and treating apparatus thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58120862A (ja) | 1983-07-18 |
| US4437324A (en) | 1984-03-20 |
| DE3300096A1 (de) | 1983-07-28 |
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