JPS60108428A - 導電性ポリアミド組成物の製造方法 - Google Patents
導電性ポリアミド組成物の製造方法Info
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- JPS60108428A JPS60108428A JP21722983A JP21722983A JPS60108428A JP S60108428 A JPS60108428 A JP S60108428A JP 21722983 A JP21722983 A JP 21722983A JP 21722983 A JP21722983 A JP 21722983A JP S60108428 A JPS60108428 A JP S60108428A
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- Japan
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- electrically conductive
- conductive particles
- diamine
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は導電性ポリアミド組成物の新規な製造方法、さ
らに詳しくいえば、導電性粒子を高配合でかつ均一に分
散して成るポリアミド組成物を製造する新規な方法に関
するものである。
らに詳しくいえば、導電性粒子を高配合でかつ均一に分
散して成るポリアミド組成物を製造する新規な方法に関
するものである。
近年、導電性プラスチックは電磁波シールド材や帯電防
止性材料として、電子・電気分野、あるいは精密機械分
野などにおいて極めて注目されている。
止性材料として、電子・電気分野、あるいは精密機械分
野などにおいて極めて注目されている。
ところで、ポリアミドに導電性粒子を配合することによ
って、それに導電性を付与しうることは周知である。こ
の場合、該導電性粒子はか々り高濃度に、しかも均一に
混合分散されることが必要である。
って、それに導電性を付与しうることは周知である。こ
の場合、該導電性粒子はか々り高濃度に、しかも均一に
混合分散されることが必要である。
従来、ポリアミドに導電性粒子を配合する方法はすべて
、予めポリアミドとして形成された物質に、何らかの手
段によって導電性粒子を配合する方法が採られている。
、予めポリアミドとして形成された物質に、何らかの手
段によって導電性粒子を配合する方法が採られている。
しかしながら、この方法においては、該導電性粒子を多
量に配合すると分散性が低下して、均一に分散させるた
めには配合量に限度があるという欠点を有している。
量に配合すると分散性が低下して、均一に分散させるた
めには配合量に限度があるという欠点を有している。
本発明者らは、このような欠点を克服し、導電性粒子を
高配合でかつ均一に分散して成るポリアミド組成物につ
いて鋭意研究を重ねた結果、導電性粒子の存在下で界面
重縮合反応を行わせポリアミドを生成させることにより
、その目的を達成しうることを見出し、この知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。
高配合でかつ均一に分散して成るポリアミド組成物につ
いて鋭意研究を重ねた結果、導電性粒子の存在下で界面
重縮合反応を行わせポリアミドを生成させることにより
、その目的を達成しうることを見出し、この知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、ポリアミドに導電性粒子を配合し
て導電性ポリアミド組成物を製造するに当り、あらかじ
め導電性粒子を反応帯域に存在させ、ジアミンとジカル
ボン酸シバライドとを界面重縮合させることを特徴とす
る導電性ポリアミド組成物の製造方法を提供するもので
ある。
て導電性ポリアミド組成物を製造するに当り、あらかじ
め導電性粒子を反応帯域に存在させ、ジアミンとジカル
ボン酸シバライドとを界面重縮合させることを特徴とす
る導電性ポリアミド組成物の製造方法を提供するもので
ある。
本発明方法においては、導電性粒子の存在下に、ジアミ
ンとジカルボン酸シバライドとを酸受容体を用いて界面
重縮合することにより、ポリアミドを生成させることが
必要である。
ンとジカルボン酸シバライドとを酸受容体を用いて界面
重縮合することにより、ポリアミドを生成させることが
必要である。
前記のジアミンとしては、１，６−へキサメチレンジア
ミンが代表例として挙げられ、ジカルボン酸シバライド
としては、例えばアジピン酸クロリド、セバシン酸クロ
リド、テレフタル酸クロリド及び相当するプロミドなど
が好ましく挙げられる。
ミンが代表例として挙げられ、ジカルボン酸シバライド
としては、例えばアジピン酸クロリド、セバシン酸クロ
リド、テレフタル酸クロリド及び相当するプロミドなど
が好ましく挙げられる。
また、酸受容体としては、水酸化す） ＩＪウムや炭酸
ナトリウムなどの塩基性物質が、導電性粒子としては、
グラファイトやカーボンブラック、あるいはこれらを種
々の方法で処理したものなどが代表例として挙げられる
。
ナトリウムなどの塩基性物質が、導電性粒子としては、
グラファイトやカーボンブラック、あるいはこれらを種
々の方法で処理したものなどが代表例として挙げられる
。
本発明方法における界面重縮合は、通常ポリアミドの界
面重縮合に用いられている方法により行われる。すなわ
ち、前記のジアミンと酸受容体を含む水溶液を第１溶液
とし、前記ジカルボン酸シバライドを含む、水と実質的
に相溶しない有機溶媒溶液を第２溶液として、これらの
２種の溶液を混合することにより２両液の界面で該ジア
ミンと該ジカルボン酸シバライドとを重縮合反応させて
ポリアミドを生成させる。
面重縮合に用いられている方法により行われる。すなわ
ち、前記のジアミンと酸受容体を含む水溶液を第１溶液
とし、前記ジカルボン酸シバライドを含む、水と実質的
に相溶しない有機溶媒溶液を第２溶液として、これらの
２種の溶液を混合することにより２両液の界面で該ジア
ミンと該ジカルボン酸シバライドとを重縮合反応させて
ポリアミドを生成させる。
この界面重縮合反応に用いる有機溶媒としては、二塩化
エチレン、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼン
、ジクロロベンゼン々どの有ｉ塩素化物、ｎ−ヘキサン
やシクロヘキサン々どの脂肪族又は環状脂肪族炭化水素
、ベンゼン、′トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水
素などが挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても
よいし、２種以上混合して用いてもよい。
エチレン、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼン
、ジクロロベンゼン々どの有ｉ塩素化物、ｎ−ヘキサン
やシクロヘキサン々どの脂肪族又は環状脂肪族炭化水素
、ベンゼン、′トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水
素などが挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても
よいし、２種以上混合して用いてもよい。
本発明方法における前記のジアミンとジカルボン酸シバ
ライドとの使用割合について、通常理論量が用いられ、
また反応温度については、使用するジアミン及びジカル
ボン酸シバライドの種類によって異なるが、一般に０〜
５０℃の範囲である。
ライドとの使用割合について、通常理論量が用いられ、
また反応温度については、使用するジアミン及びジカル
ボン酸シバライドの種類によって異なるが、一般に０〜
５０℃の範囲である。
と前記の第１溶液とを均一に混合したのち、これに前記
の第２溶液を加える方法、（２）導電性粒と相溶性のあ
る有機溶媒を均一に混合したのち。
の第２溶液を加える方法、（２）導電性粒と相溶性のあ
る有機溶媒を均一に混合したのち。
これに第２溶液を加える方法、（３）導電性粒子と第２
溶液とを均一に混合したのち、これに第１溶液を加える
方法、（４）導電性粒子、第２后液及び水を均一に混合
したのち、これに第ｘｉ液を加える方法などが用いられ
る。
溶液とを均一に混合したのち、これに第１溶液を加える
方法、（４）導電性粒子、第２后液及び水を均一に混合
したのち、これに第ｘｉ液を加える方法などが用いられ
る。
本発明方法においては、これらの反応系に。
両液の混合あるいは導電性粒子の分散を均一にして反応
させるために、適当な乳化剤や分散剤を加えることが好
ましい。導電性粒子をモノマー合計量（ジアミン＋ジカ
ルボン酸シバライド）の１０倍以上の重量で配合するこ
とも可能である。
させるために、適当な乳化剤や分散剤を加えることが好
ましい。導電性粒子をモノマー合計量（ジアミン＋ジカ
ルボン酸シバライド）の１０倍以上の重量で配合するこ
とも可能である。
このようにして、界面重縮合反応を行ったのち。
ろ過、洗浄及び乾燥することにより１本発明の組成物が
得られる。このものは、公知のホットプレス成形法によ
り成形することができる。
得られる。このものは、公知のホットプレス成形法によ
り成形することができる。
々お、前記のように、界面重縮合させる２種の溶液の一
方の溶液中に固体粒子を分散させたのち。
方の溶液中に固体粒子を分散させたのち。
他方の溶液を加えで重縮合反応させる反応形式は、マイ
クロカプセル化法に利用されている周知の方法であり、
また、固体粒子としてセルロースを主とする種々の物質
（カーボンブラックも含まれている）をカプセル化する
方法（米国特許第３，２７２，８９７号明細書）が報告
されている。しかしながら、これらの方法は固体粒子を
ポリマーで十分に包む、すなわちカプセル化することを
目的とするものであって、ポリマーに導電性を付与する
目的で固体粒子は扱われていない。これに対し、本発明
の目的は導電性を付与されたポリマー組成物を得ること
にあって、固体粒子の完全々カプセル化は、むしろその
導電性を阻害する。
クロカプセル化法に利用されている周知の方法であり、
また、固体粒子としてセルロースを主とする種々の物質
（カーボンブラックも含まれている）をカプセル化する
方法（米国特許第３，２７２，８９７号明細書）が報告
されている。しかしながら、これらの方法は固体粒子を
ポリマーで十分に包む、すなわちカプセル化することを
目的とするものであって、ポリマーに導電性を付与する
目的で固体粒子は扱われていない。これに対し、本発明
の目的は導電性を付与されたポリマー組成物を得ること
にあって、固体粒子の完全々カプセル化は、むしろその
導電性を阻害する。
本発明の導電性ポリアミド組成物の製造方法は、従来の
方法があらかじめ形成されたポリマーに導電性粒子を配
合する形式であるのに対し、モノマー段階で該導電性粒
子を混合したのち、ポリマーを生成させる形式であるた
め、従来法に比べて、該導電性粒子を高配合でかつ均一
に分散して成る、導電性Ｋ（ｌｌれたポリアミド組成物
を与える。この導電性ポリアミド組成物は、電磁波シー
ルド材や帯電防止性材料として、電子・電気分野、精密
機械分野などで有効に用いられる。
方法があらかじめ形成されたポリマーに導電性粒子を配
合する形式であるのに対し、モノマー段階で該導電性粒
子を混合したのち、ポリマーを生成させる形式であるた
め、従来法に比べて、該導電性粒子を高配合でかつ均一
に分散して成る、導電性Ｋ（ｌｌれたポリアミド組成物
を与える。この導電性ポリアミド組成物は、電磁波シー
ルド材や帯電防止性材料として、電子・電気分野、精密
機械分野などで有効に用いられる。
次に実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１
グラフアイ） Ａｃ、ＰｌｏｏＯ（日本黒鉛工業社製、
粒度１〜３０μ、平均粒径６．θμ） ４．０９−に、
１．６−へキサメチレンジアミン０．４３９−及び水酸
化ナトリウム０．３０ ｐを水１００ｒｎｌＶｉＣ溶解
した水溶液を加え、これをかきまぜながら、アジピン酸
クロリド０．６８７を酵解した四塩化炭素溶液２〇−を
約２０分間で滴下し、さらに約１０分間かきまぜた。次
いで同相をろ別し、水及びメタノールで洗浄したのち、
乾燥した。生成物は４．０５ ｆであった。
粒度１〜３０μ、平均粒径６．θμ） ４．０９−に、
１．６−へキサメチレンジアミン０．４３９−及び水酸
化ナトリウム０．３０ ｐを水１００ｒｎｌＶｉＣ溶解
した水溶液を加え、これをかきまぜながら、アジピン酸
クロリド０．６８７を酵解した四塩化炭素溶液２〇−を
約２０分間で滴下し、さらに約１０分間かきまぜた。次
いで同相をろ別し、水及びメタノールで洗浄したのち、
乾燥した。生成物は４．０５ ｆであった。
実施例２
グラファイトＦ＋１（日本黒鉛工業社製、粒度２９７μ
以上＝５０％以上）４．０５１１ｍ、１．６−ヘキサメ
チレンジアミン０．４３ｆ、水酸化ナトリウム０．３０
９−及び乳化剤ノイゲンＢＴ１７を水ｉｏ。
以上＝５０％以上）４．０５１１ｍ、１．６−ヘキサメ
チレンジアミン０．４３ｆ、水酸化ナトリウム０．３０
９−及び乳化剤ノイゲンＢＴ１７を水ｉｏ。
ｍｌに溶解した水溶液を加え、これをかきまぜながら、
アジピン酸クロリド０．６８１ｉ１−を溶解した四塩化
炭素溶液２０−を滴下し、滴下開始より３０分間かきま
ぜた。次いで固相をろ別し、水及びメタノールで繰り返
し洗浄したのち、乾燥した。生成物は４．０４ ｐであ
った。
アジピン酸クロリド０．６８１ｉ１−を溶解した四塩化
炭素溶液２０−を滴下し、滴下開始より３０分間かきま
ぜた。次いで固相をろ別し、水及びメタノールで繰り返
し洗浄したのち、乾燥した。生成物は４．０４ ｐであ
った。
実施例３
グラファイトＡＯＰ １０００ ４．０グに、■、６−
へキサメチレンジアミン０．３７ ｐ、水酸化ナトリウ
ム０．２５９−及びラウリル硫酸ナトリウム１１を水１
００７！に溶解した水溶液を加え、これをかきまぜなが
ら、セバシン酸クロリド０．７５７を溶解した四塩化炭
素溶液２０−を約２０分間で滴下し、さらに約１０分間
かきまぜた。次いでエタノール１００−を加えたのち、
固相をろ別し、水及びメタノールで繰り返し洗浄後、乾
燥した。生成物は４．７１ ｐであった。
へキサメチレンジアミン０．３７ ｐ、水酸化ナトリウ
ム０．２５９−及びラウリル硫酸ナトリウム１１を水１
００７！に溶解した水溶液を加え、これをかきまぜなが
ら、セバシン酸クロリド０．７５７を溶解した四塩化炭
素溶液２０−を約２０分間で滴下し、さらに約１０分間
かきまぜた。次いでエタノール１００−を加えたのち、
固相をろ別し、水及びメタノールで繰り返し洗浄後、乾
燥した。生成物は４．７１ ｐであった。
実施例４
グラフアイ）Ｆｅ２（日本黒鉛工業社製、粒度４８〜１
０５μ＝３５〜５０チ、１０５μ以上：１５％以下）４
．０７を、１，６−へキサメチレンジアミン０．４１
ｆＩ−及び炭酸ナトリｒ） ム０．３７ ｆを水２０−
に酵解した水溶液に約１時間浸漬し、これに乳化剤スパ
ン８５１ｖｏ’１％を含むシクロヘキサン８０−を加え
た。これをかきまぜながら、テレフタル酸クロリド０．
７１ ｆＩ−をクロロホルム２５−に溶解した溶液を滴
下した。滴下開始後１時間かきまぜたのち、固相をろ別
し、クロロホルム、水及びメタノールで洗浄後、乾燥し
た。生成物は４．６７？であった。
０５μ＝３５〜５０チ、１０５μ以上：１５％以下）４
．０７を、１，６−へキサメチレンジアミン０．４１
ｆＩ−及び炭酸ナトリｒ） ム０．３７ ｆを水２０−
に酵解した水溶液に約１時間浸漬し、これに乳化剤スパ
ン８５１ｖｏ’１％を含むシクロヘキサン８０−を加え
た。これをかきまぜながら、テレフタル酸クロリド０．
７１ ｆＩ−をクロロホルム２５−に溶解した溶液を滴
下した。滴下開始後１時間かきまぜたのち、固相をろ別
し、クロロホルム、水及びメタノールで洗浄後、乾燥し
た。生成物は４．６７？であった。
実施例５
グラファイトＡＯＰ １０００ ４．０９−を、１．６
−ヘキサメチレンジアミン０．４３ ％及び炭酸ナトリ
ウム０．３９７を水２０ゴに溶解した水溶液に約１時間
浸漬したのち、これに乳化剤スパン８５ １ｖ０１％ヲ
含ムクロロホルムーシクロヘキサン（ｖｏｌ比１：３）
８０ｙｄを加えた。これをかきまぜながら、アジピン酸
クロリド０．６８７をクロロホルム−シクロヘキサン（
ｖｏｌ比１：３）２０ｍｇに酵解した溶液を滴下した。
−ヘキサメチレンジアミン０．４３ ％及び炭酸ナトリ
ウム０．３９７を水２０ゴに溶解した水溶液に約１時間
浸漬したのち、これに乳化剤スパン８５ １ｖ０１％ヲ
含ムクロロホルムーシクロヘキサン（ｖｏｌ比１：３）
８０ｙｄを加えた。これをかきまぜながら、アジピン酸
クロリド０．６８７をクロロホルム−シクロヘキサン（
ｖｏｌ比１：３）２０ｍｇに酵解した溶液を滴下した。
滴下開始後１時間かきまぜたのち、同相をろ別し、クロ
ロホルム−シクロヘキサン（ｖ０１比１： ａ ）、水
及びメタノールで洗浄後、乾燥した。生成物は４．６３
ｆであった。
ロホルム−シクロヘキサン（ｖ０１比１： ａ ）、水
及びメタノールで洗浄後、乾燥した。生成物は４．６３
ｆであった。
実施例６
実施例５において１，６−へキサメチレンジアミン１．
５５ ｆ、炭酸ナトリウム１．４２ ｆ、アジピン酸ク
ロリド２．４５ ｆＩ−を用いる以外は、実施例５と同
様にして生成物５．７７９−を得た。
５５ ｆ、炭酸ナトリウム１．４２ ｆ、アジピン酸ク
ロリド２．４５ ｆＩ−を用いる以外は、実施例５と同
様にして生成物５．７７９−を得た。
実施例７
グラフアイ）Ｆｅ２（日本黒鉛工業社製１粒度１０５〜
１７７μｍ６０〜８０％、１７７μ以上＝２５％以下）
４．０９−を、ｌ、６−へキサメチレンジアミン０．３
７ ｐ及び炭酸ナトリウム０．３４７を水２〇−に溶解
した水溶液に約１時間浸漬したのち、これに乳化剤スパ
ン８５１ＶＯ１％を含むクロロホルム−シクロヘキサン
（ｖｏｌ比に３）８０ｔｎｌを加えた。これをかきまぜ
ながら、セバシン酸クロリド０．７７？をクロロホルム
−シクロヘキサン（ｖ０１比１：３）２０−に溶解した
溶液を滴下した。滴下開始後１時間かきまぜたのち、固
相をろ別り、クロロホルム−シクロヘキサン（ｖｏｌ比
１：３）、水及びメタノールで洗浄後乾燥した。生成物
は４．６３７であった。
１７７μｍ６０〜８０％、１７７μ以上＝２５％以下）
４．０９−を、ｌ、６−へキサメチレンジアミン０．３
７ ｐ及び炭酸ナトリウム０．３４７を水２〇−に溶解
した水溶液に約１時間浸漬したのち、これに乳化剤スパ
ン８５１ＶＯ１％を含むクロロホルム−シクロヘキサン
（ｖｏｌ比に３）８０ｔｎｌを加えた。これをかきまぜ
ながら、セバシン酸クロリド０．７７？をクロロホルム
−シクロヘキサン（ｖ０１比１：３）２０−に溶解した
溶液を滴下した。滴下開始後１時間かきまぜたのち、固
相をろ別り、クロロホルム−シクロヘキサン（ｖｏｌ比
１：３）、水及びメタノールで洗浄後乾燥した。生成物
は４．６３７であった。
実施例８
グラファイトｙ＋ｔ４．ｏｆ！−を四塩化炭素２〇−に
浸漬し、これに１，６−へキサメチレンジアミン０３７
ｙ−、水酸化ナトリウム０．２５ ｆＦ及びラウリル
硫酸ナトリウム１１を水１００ｒｎｌに溶解した水溶液
を加えた。これをかきまぜながら、セバシン酸クロリド
０．７５ ｆを四塩化炭素２０７！に溶解した溶液を滴
下し、３０分間かきまぜた。次いでエタノール１００−
を加えたのち、固相をろ別し、水及びメタノールで洗浄
後、乾燥した。生成物は４．６１？であった。
浸漬し、これに１，６−へキサメチレンジアミン０３７
ｙ−、水酸化ナトリウム０．２５ ｆＦ及びラウリル
硫酸ナトリウム１１を水１００ｒｎｌに溶解した水溶液
を加えた。これをかきまぜながら、セバシン酸クロリド
０．７５ ｆを四塩化炭素２０７！に溶解した溶液を滴
下し、３０分間かきまぜた。次いでエタノール１００−
を加えたのち、固相をろ別し、水及びメタノールで洗浄
後、乾燥した。生成物は４．６１？であった。
実施例９
グラファイトＦ４３４．０７を、アジピン酸クロリド０
．６８ ｐを四塩化炭素２０７！に溶解した溶液に浸漬
し、これに１，６−へキサメチレンジアミン０．４３７
．水酸化ナトリウム０．３０７及び乳化剤ノイゲンＥＴ
ＩＦ１−を水１００−に溶解した水溶液を加えて３０分
間かきまぜた。次いで固相をろ別し。
．６８ ｐを四塩化炭素２０７！に溶解した溶液に浸漬
し、これに１，６−へキサメチレンジアミン０．４３７
．水酸化ナトリウム０．３０７及び乳化剤ノイゲンＥＴ
ＩＦ１−を水１００−に溶解した水溶液を加えて３０分
間かきまぜた。次いで固相をろ別し。
水及びメタノールで洗浄後、乾燥した。生成物は４．１
７７であった。
７７であった。
実施例１０
グラファイトＡＯＰ １０００４．Ｏｆを、セバシン酸
クロリド０．７５ Ｆｔを四塩化炭素２０ｆｎ１．に溶
解しり溶液に浸漬し、これに１．６−へキサメチレンジ
アミン０．３７ ｉｂ水酸化ナトリウム０．２５７及び
ラウリル硫酸ナトリウム１１を水１００１ｎｌ［溶解し
た水溶液を加えて３０分間かきまぜた。次いで固相をろ
別し、水及びメタノールで洗浄後、乾燥した。生成物は
４．６２ ｉであった。
クロリド０．７５ Ｆｔを四塩化炭素２０ｆｎ１．に溶
解しり溶液に浸漬し、これに１．６−へキサメチレンジ
アミン０．３７ ｉｂ水酸化ナトリウム０．２５７及び
ラウリル硫酸ナトリウム１１を水１００１ｎｌ［溶解し
た水溶液を加えて３０分間かきまぜた。次いで固相をろ
別し、水及びメタノールで洗浄後、乾燥した。生成物は
４．６２ ｉであった。
−１ｌ 一
実施例１１
グラファイトＡＯＰ １０００４．０ Ｐを、セバシン
酸クロリド０．７５ｉを四塩化炭素２０７！に溶解した
溶液に浸漬し、これに水酸化ナトリウム０．２５７及び
ラウリル硫酸ナトリウムＩＦ！−を水ｉｏｏ ｍｌＫ溶
解した水溶液を加えた。これをかきまぜながら、１．６
−へキサメチレンジアミン０．３７ ｆＩ−を水２〇−
に溶解した水溶液を滴下した。滴下開始後約３０分間か
きまぜたのち、エタノール１００−を加えた。次いで固
相をろ別し、水及びメタノールで洗浄後、乾燥した。生
成物は４．３２ Ｆ！−であった。
酸クロリド０．７５ｉを四塩化炭素２０７！に溶解した
溶液に浸漬し、これに水酸化ナトリウム０．２５７及び
ラウリル硫酸ナトリウムＩＦ！−を水ｉｏｏ ｍｌＫ溶
解した水溶液を加えた。これをかきまぜながら、１．６
−へキサメチレンジアミン０．３７ ｆＩ−を水２〇−
に溶解した水溶液を滴下した。滴下開始後約３０分間か
きまぜたのち、エタノール１００−を加えた。次いで固
相をろ別し、水及びメタノールで洗浄後、乾燥した。生
成物は４．３２ Ｆ！−であった。
参考例
以上の各実施例で得られた生成物の成形体について、そ
の密度、曲げ強さ及び導電率を測定した。
の密度、曲げ強さ及び導電率を測定した。
その結果を次表に示す。
１２−
特許出願人 工業技術院長 川 １）裕 部指定代理人
工業技術院大阪工業技術試験所長内 藤 −男
工業技術院大阪工業技術試験所長内 藤 −男
Claims (1)
- １ ポリアミドに導電性粒子を配合して導電性ポリアミ
ド組成物を製造するに当り、あらかじめ導電性粒子を反
応帯域に存在させ、ジアミンとジカルボン酸ジノ・ライ
ドとを界面重縮合させることを特徴とする導電性ポリア
ミド組成物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21722983A JPS60108428A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | 導電性ポリアミド組成物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21722983A JPS60108428A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | 導電性ポリアミド組成物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60108428A true JPS60108428A (ja) | 1985-06-13 |
| JPS6131133B2 JPS6131133B2 (ja) | 1986-07-18 |
Family
ID=16700865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21722983A Granted JPS60108428A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | 導電性ポリアミド組成物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60108428A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0596702A1 (en) | 1992-11-02 | 1994-05-11 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for production of polyamide, polyamide produced by said process, and polyamide film or sheet |
| JP2002348468A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-04 | Dainippon Ink & Chem Inc | 導電性ポリアミド複合体、及びその製造方法 |
| JP2008144085A (ja) * | 2006-12-13 | 2008-06-26 | Unitika Ltd | 導電性ポリアミド樹脂組成物およびその製造方法 |
| JP2008150400A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-03 | Unitika Ltd | ポリアミド樹脂組成物およびその製造方法 |
| DE102007037316A1 (de) | 2007-08-08 | 2009-02-12 | Lanxess Deutschland Gmbh | Thermisch leitfähige und elektrisch isolierende thermoplastische Compounds |
-
1983
- 1983-11-17 JP JP21722983A patent/JPS60108428A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0596702A1 (en) | 1992-11-02 | 1994-05-11 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for production of polyamide, polyamide produced by said process, and polyamide film or sheet |
| JP2002348468A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-04 | Dainippon Ink & Chem Inc | 導電性ポリアミド複合体、及びその製造方法 |
| JP2008144085A (ja) * | 2006-12-13 | 2008-06-26 | Unitika Ltd | 導電性ポリアミド樹脂組成物およびその製造方法 |
| JP2008150400A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-03 | Unitika Ltd | ポリアミド樹脂組成物およびその製造方法 |
| DE102007037316A1 (de) | 2007-08-08 | 2009-02-12 | Lanxess Deutschland Gmbh | Thermisch leitfähige und elektrisch isolierende thermoplastische Compounds |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6131133B2 (ja) | 1986-07-18 |
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