JPS5998374A - 磁気記憶素子 - Google Patents
磁気記憶素子Info
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- JPS5998374A JPS5998374A JP57207007A JP20700782A JPS5998374A JP S5998374 A JPS5998374 A JP S5998374A JP 57207007 A JP57207007 A JP 57207007A JP 20700782 A JP20700782 A JP 20700782A JP S5998374 A JPS5998374 A JP S5998374A
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- JP
- Japan
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- vbl
- domain
- bloch
- magnetic
- striped
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/14—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は膜面垂直方向を磁化容易方向とする強磁性体膜
に形成されるストライプドメインの境界を形成するブロ
ッホ磁壁の中に静的に安定に存在する垂直プロッホライ
ンを記憶単位として用いた磁気記憶素子に関し、更に詳
しくは前記垂直プロッホラインをブロッホ磁壁の中で安
定に転送する手段を有する磁気記憶素子に係るものであ
る。
に形成されるストライプドメインの境界を形成するブロ
ッホ磁壁の中に静的に安定に存在する垂直プロッホライ
ンを記憶単位として用いた磁気記憶素子に関し、更に詳
しくは前記垂直プロッホラインをブロッホ磁壁の中で安
定に転送する手段を有する磁気記憶素子に係るものであ
る。
磁気バブル素子の開発は高密度化を1指して各所でパー
マロイデバイス、イオン注入コンテイギユアスディスク
デバイス、電流駆動デバイスおよびこれらを組合せたい
わゆる混成型デバイスについて盛んに行われている。こ
れらのデバイスの高密度化の限界は、バブル転送路を形
成するためのフォ) IJソゲラフイー技術にあるとい
われてきた。
マロイデバイス、イオン注入コンテイギユアスディスク
デバイス、電流駆動デバイスおよびこれらを組合せたい
わゆる混成型デバイスについて盛んに行われている。こ
れらのデバイスの高密度化の限界は、バブル転送路を形
成するためのフォ) IJソゲラフイー技術にあるとい
われてきた。
しかし、近年、その技術が長足に進歩してきた。
その結果、高密度化のための材料すなわち、バブル径を
どこまで小さくできるかが問題視されるようになってき
た。現在使用されているガーネット材料では、到達可能
な最小バブル径は(13μm といわれている。したが
って、0.3μm 下取下のバブルを保持するバブル材
料はガーネット材料以外に求めなければならない。これ
は容易ではなく、ここがバブル高密度化の限界であると
さえ考えられている。
どこまで小さくできるかが問題視されるようになってき
た。現在使用されているガーネット材料では、到達可能
な最小バブル径は(13μm といわれている。したが
って、0.3μm 下取下のバブルを保持するバブル材
料はガーネット材料以外に求めなければならない。これ
は容易ではなく、ここがバブル高密度化の限界であると
さえ考えられている。
一方、このようなバブル保持層の特性に基く高密度化限
界を大幅に改善し、かつ、情報読出し時間は従来の素子
と同程度に保つことができる、新らたな記憶素子が提案
されている。この磁気記憶素子は情報読出し手段と情報
書込み手段と情報蓄積手段を備え、膜面に垂直な方向を
磁化容易方向とする強磁性体膜(フェリ磁性体膜を含む
)に存在するストライプドメインの周辺のブロッホ磁壁
の中に作った相隣合う2つの垂直プロッホラインからな
る垂直プロッホライン対を記憶情報単位として用い、該
垂直プロッホラインをブロッホ磁壁内で転送する手段を
有することを特徴とする。この素子の構成をメジャーマ
イナー構成とする場合、メジャーラインでは従来通りバ
ブルドメインを情報単位とし、マイナーループをストラ
イプドメインで構成し、その周辺のブロッホ磁壁内に存
在する垂直プロッホライン(以下VBLという。)を情
報単位とする。全体の情報の流れを示すと、まず、発生
器で書込まれた情報(バブルの有無)は書込みメジャー
ラインを移動する。この情報をマイナーループへ記憶さ
せるために、バブルの有無で示されたメジャーライン上
の情報をマイナーループへVBLの形でトランスファー
できるように、マイナーループをVBLを保持できるブ
ロッホ磁壁で構成することが本発明の特徴であり、記憶
容量の飛躍的向上の重要なカギになっている。書込みラ
イントランスファーゲートにより、マイナーループにト
ランスファーされた情報(VBL)はマイナーループを
構成するストライプドメイン磁壁土を移動させることが
できる。マイナーループから読出しメジャーラインへの
情報トランスファーはVBLからバブルへの変換を伴う
。なお、この読出しトランスファーゲートはブロックレ
プリケータ機能も合せ持っている。
界を大幅に改善し、かつ、情報読出し時間は従来の素子
と同程度に保つことができる、新らたな記憶素子が提案
されている。この磁気記憶素子は情報読出し手段と情報
書込み手段と情報蓄積手段を備え、膜面に垂直な方向を
磁化容易方向とする強磁性体膜(フェリ磁性体膜を含む
)に存在するストライプドメインの周辺のブロッホ磁壁
の中に作った相隣合う2つの垂直プロッホラインからな
る垂直プロッホライン対を記憶情報単位として用い、該
垂直プロッホラインをブロッホ磁壁内で転送する手段を
有することを特徴とする。この素子の構成をメジャーマ
イナー構成とする場合、メジャーラインでは従来通りバ
ブルドメインを情報単位とし、マイナーループをストラ
イプドメインで構成し、その周辺のブロッホ磁壁内に存
在する垂直プロッホライン(以下VBLという。)を情
報単位とする。全体の情報の流れを示すと、まず、発生
器で書込まれた情報(バブルの有無)は書込みメジャー
ラインを移動する。この情報をマイナーループへ記憶さ
せるために、バブルの有無で示されたメジャーライン上
の情報をマイナーループへVBLの形でトランスファー
できるように、マイナーループをVBLを保持できるブ
ロッホ磁壁で構成することが本発明の特徴であり、記憶
容量の飛躍的向上の重要なカギになっている。書込みラ
イントランスファーゲートにより、マイナーループにト
ランスファーされた情報(VBL)はマイナーループを
構成するストライプドメイン磁壁土を移動させることが
できる。マイナーループから読出しメジャーラインへの
情報トランスファーはVBLからバブルへの変換を伴う
。なお、この読出しトランスファーゲートはブロックレ
プリケータ機能も合せ持っている。
このようにマイナーループをバブル材料に存在するスト
ライプドメインで構成し、マイナーループ上での情報単
位としてバブルドメインの代りにVBL を用いること
により、従来のバブルドメインを用いた素子に比較して
約2桁の記憶密度向上を達成できる。
ライプドメインで構成し、マイナーループ上での情報単
位としてバブルドメインの代りにVBL を用いること
により、従来のバブルドメインを用いた素子に比較して
約2桁の記憶密度向上を達成できる。
この素子の構成についてさらに詳しく説明する。
メジャーラインは書込み、読出しともに電流駆動方式を
採用している。4本の平行コンダクタ−からなる書込み
トランスファーゲートはメジャーライン上のバブルとマ
イナーループを構成する。ストライプドメインヘッドと
の相互作用を用いている。メジャーライン上にバブルド
メインがあると、それにつながるマイナーループを構成
しているストライプドメインのヘッドはバブルとストラ
イプドメインとの反発相互作用のため、バブルから遠ざ
かることを利用している。書込みメジャーラインにバブ
ルがないとき、マイナールーズのストライブドメイン磁
壁にVBLを書込む。VBLをストライプドメインヘッ
ドに作る手段として、ストライプドメインヘッドをそれ
に接するコンダクタ−パターンにパルス電流を与えるこ
とにより、ダイナミックに移動させ、ヘッド部磁壁をダ
イナミックコンバージョンさせることを利用した。この
方法で、VBLが2つできるが、これらは互いに性質が
異なり、再結合しやすい。そこで、情報を安定化できる
ように、ストライプドメインの長手方向に面内磁界を加
え、ストライプドメイン側の2本のコンダクタ−によっ
てストライプドメインヘッドを切離すことにより、スト
ライプドメイン中に2つの同じ性質のVBLを作る。同
じ性質のVBLは互いに近づいても安定に存在する。メ
ジャーラインにバブ/L/が存在しているところに対応
するマイナーループのストライプドメインヘッドはバブ
ルとの反発作用のため、上記コンダクタ−パターンから
離れているため、VBLは形成されない。結果的にメジ
ャーラインの情報″′1”をマイナーループ内にVBL
対がない状態としてトランスファーしたことになる。マ
イナーループ内では性質が同じVBLの対を1ビツトと
して情報が記憶される。レプリケータ−作用の安定性を
考えて○VBL対を使っている。マイナーループ内のビ
ット周期つまり、VBL間隔を一定に保つように、1ビ
ツトずつ逐次転送できるように転送パターンをつける。
採用している。4本の平行コンダクタ−からなる書込み
トランスファーゲートはメジャーライン上のバブルとマ
イナーループを構成する。ストライプドメインヘッドと
の相互作用を用いている。メジャーライン上にバブルド
メインがあると、それにつながるマイナーループを構成
しているストライプドメインのヘッドはバブルとストラ
イプドメインとの反発相互作用のため、バブルから遠ざ
かることを利用している。書込みメジャーラインにバブ
ルがないとき、マイナールーズのストライブドメイン磁
壁にVBLを書込む。VBLをストライプドメインヘッ
ドに作る手段として、ストライプドメインヘッドをそれ
に接するコンダクタ−パターンにパルス電流を与えるこ
とにより、ダイナミックに移動させ、ヘッド部磁壁をダ
イナミックコンバージョンさせることを利用した。この
方法で、VBLが2つできるが、これらは互いに性質が
異なり、再結合しやすい。そこで、情報を安定化できる
ように、ストライプドメインの長手方向に面内磁界を加
え、ストライプドメイン側の2本のコンダクタ−によっ
てストライプドメインヘッドを切離すことにより、スト
ライプドメイン中に2つの同じ性質のVBLを作る。同
じ性質のVBLは互いに近づいても安定に存在する。メ
ジャーラインにバブ/L/が存在しているところに対応
するマイナーループのストライプドメインヘッドはバブ
ルとの反発作用のため、上記コンダクタ−パターンから
離れているため、VBLは形成されない。結果的にメジ
ャーラインの情報″′1”をマイナーループ内にVBL
対がない状態としてトランスファーしたことになる。マ
イナーループ内では性質が同じVBLの対を1ビツトと
して情報が記憶される。レプリケータ−作用の安定性を
考えて○VBL対を使っている。マイナーループ内のビ
ット周期つまり、VBL間隔を一定に保つように、1ビ
ツトずつ逐次転送できるように転送パターンをつける。
−例として、上記マイナーループを構成するストライプ
ドメイン上にストライプドメインの長手方向に直角方向
にVBL間の安定間隔S。の2倍の周期で、幅S。のパ
ーマロイ薄膜で作った平行細線パターンを形成し、平行
細線の両側に誘起される磁極とVBLとの相互作用を利
用した。VBLのマイナーループに沿っての転送は一つ
の方法として、ストライプドメインにパルスバイアス磁
界を加えてダイナミックに行なう。3本の平行コンダク
タ−からなる読出しトランスファーゲートはマイナール
ープを形成しているストライプドメイン磁壁にVBLと
して記憶されている情報をバブルに変換してメジャーラ
インにトランスファーアウトし、かつ、マイナーループ
上の情報が破壊されないようにするレプリケータ−の働
きも兼備えている。動作原理を説明する。VBL対で形
成される1ビツトの片割れを例えば、面内磁界を加えて
ストライプドメインヘッドに固定する。その後コンダク
タ−パターンを用いて、このストライプドメインヘッド
を切りとり、バブルにする。そうすると、バブルを切り
とった後のストライプドメインヘッドには切りとったV
BLと同じVBLが構成される。このようなVBLのレ
プリケート作用はマイナス符号のVBLに対してのみ生
じる。マイナーループのストライプドメインヘッドから
切りとられたバブルはメジャーライン上を検出器に向け
て転送される。ここではストライプドメインヘッドにV
BLがある場合とない場合とでストライプドメインヘッ
ドを切りとるパルス電流値が異なることを利用している
。ストライプドメインヘッドにVBLがない場合は切れ
にくい。したがって、ストライプドメインヘッドにVB
Lがある場合にはメジャーラインにバブルを送り込める
が、VBLがない場合はバブルはない。
ドメイン上にストライプドメインの長手方向に直角方向
にVBL間の安定間隔S。の2倍の周期で、幅S。のパ
ーマロイ薄膜で作った平行細線パターンを形成し、平行
細線の両側に誘起される磁極とVBLとの相互作用を利
用した。VBLのマイナーループに沿っての転送は一つ
の方法として、ストライプドメインにパルスバイアス磁
界を加えてダイナミックに行なう。3本の平行コンダク
タ−からなる読出しトランスファーゲートはマイナール
ープを形成しているストライプドメイン磁壁にVBLと
して記憶されている情報をバブルに変換してメジャーラ
インにトランスファーアウトし、かつ、マイナーループ
上の情報が破壊されないようにするレプリケータ−の働
きも兼備えている。動作原理を説明する。VBL対で形
成される1ビツトの片割れを例えば、面内磁界を加えて
ストライプドメインヘッドに固定する。その後コンダク
タ−パターンを用いて、このストライプドメインヘッド
を切りとり、バブルにする。そうすると、バブルを切り
とった後のストライプドメインヘッドには切りとったV
BLと同じVBLが構成される。このようなVBLのレ
プリケート作用はマイナス符号のVBLに対してのみ生
じる。マイナーループのストライプドメインヘッドから
切りとられたバブルはメジャーライン上を検出器に向け
て転送される。ここではストライプドメインヘッドにV
BLがある場合とない場合とでストライプドメインヘッ
ドを切りとるパルス電流値が異なることを利用している
。ストライプドメインヘッドにVBLがない場合は切れ
にくい。したがって、ストライプドメインヘッドにVB
Lがある場合にはメジャーラインにバブルを送り込める
が、VBLがない場合はバブルはない。
つ丈り、マイナーループ上°のVBLの有無(1,0)
は読出しメジャーライン上ではバブルの有無に変換され
ている。
は読出しメジャーライン上ではバブルの有無に変換され
ている。
VBL対の消去法について述べる。消去したいVBL対
を書込みメジャーライン側のマイナールーズのストライ
プドメインヘッドの最近接位置におく。次に面内磁界H
ipを加えて、消去したいVBL対と、そのとなりのV
BL対の片割れをストライプドメインヘッドにもってき
て、情報書込みの際、プラスのVBLを切りとるために
用いた平行コンダクタ−を使ってストライプドメインヘ
ッドを切りとる。バブルドメインを切りとったあとのス
トライプドメインヘッドには、消去したいVBL対と共
にもってきたVBI、がレプリケートされる。
を書込みメジャーライン側のマイナールーズのストライ
プドメインヘッドの最近接位置におく。次に面内磁界H
ipを加えて、消去したいVBL対と、そのとなりのV
BL対の片割れをストライプドメインヘッドにもってき
て、情報書込みの際、プラスのVBLを切りとるために
用いた平行コンダクタ−を使ってストライプドメインヘ
ッドを切りとる。バブルドメインを切りとったあとのス
トライプドメインヘッドには、消去したいVBL対と共
にもってきたVBI、がレプリケートされる。
結局、消去したいVBL対のみが消去されることになる
。なお、マイナーループ全体をクリアする場合は予め、
バイアス磁界を上げて全部のストライプドメインを一旦
消云したあと、S=1バブルからマイナーループスドラ
イブドメインを形成するこ、とにより、VBLが全熱な
い全ピット零の状態を作ることができる。
。なお、マイナーループ全体をクリアする場合は予め、
バイアス磁界を上げて全部のストライプドメインを一旦
消云したあと、S=1バブルからマイナーループスドラ
イブドメインを形成するこ、とにより、VBLが全熱な
い全ピット零の状態を作ることができる。
以上述べたような磁気記憶素子を実現する上で必須の機
能の一つは、ブロッホ磁壁の中の垂直プロッホライン対
(以下VBL対と呼ぶ)を制御性よく転送することであ
る。
能の一つは、ブロッホ磁壁の中の垂直プロッホライン対
(以下VBL対と呼ぶ)を制御性よく転送することであ
る。
本発明はブロッホ磁壁の中のVBL対をきわめて制御性
よく転送し得るVBL対を記憶情報単位に用いる磁気記
憶素子を提供することを目的とする。
よく転送し得るVBL対を記憶情報単位に用いる磁気記
憶素子を提供することを目的とする。
すなわち本発明は情報読出し手段、情報書込み手段およ
び情報蓄積手段を備え、膜面に垂直な方向を磁化容易方
向とする強磁性体膜(フエ1Jla性体膜を倉む)に存
在するストライプドメイン周辺のブロッホ磁壁の中に作
った相隣る2つの垂直プロッホラインからなる垂直プロ
ッホライン対を記憶情報単位として用いる磁気記憶素子
であって、前記強磁性体膜上に直接又は絶縁層を介して
導体層が設けられ、さらに該導体層にストライブドメイ
ン周辺のブロッホ磁壁上ζこ対応する位置に周期的な開
孔パタンか形成されており、該導体層にストライプドメ
インの長手方向と垂直な向きに両極性の電流パルスを印
訓し得る手段を備えたことを特徴とする磁気記憶素子で
ある。
び情報蓄積手段を備え、膜面に垂直な方向を磁化容易方
向とする強磁性体膜(フエ1Jla性体膜を倉む)に存
在するストライプドメイン周辺のブロッホ磁壁の中に作
った相隣る2つの垂直プロッホラインからなる垂直プロ
ッホライン対を記憶情報単位として用いる磁気記憶素子
であって、前記強磁性体膜上に直接又は絶縁層を介して
導体層が設けられ、さらに該導体層にストライブドメイ
ン周辺のブロッホ磁壁上ζこ対応する位置に周期的な開
孔パタンか形成されており、該導体層にストライプドメ
インの長手方向と垂直な向きに両極性の電流パルスを印
訓し得る手段を備えたことを特徴とする磁気記憶素子で
ある。
次に図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明に係るストライプドメイン及びVBL対
の構造を示す斜視図である。第1図において強磁性体膜
1の内部にストライプドメイン3が形成されており、そ
の外周部にブロッホ磁壁4が存在している。5は第1の
垂直プロッホライン(以下、第1のVBLと呼ぶ)、6
は第2の垂直プロッホライン(以下、第2のVBLと呼
ぶ)、7は第1のVBLと第2のVBLとによって構成
される垂直プロッホライン対(以下、VBL対と呼ぶ)
、8はストライプドメイン内の磁化の向き、9はバイア
ス磁界の向き、10はブロッホ磁壁内の磁化の向きであ
る。第1のVBLと第2のVBLとの間には静磁気的相
互作用に起因した吸引力及び交換相互作用に起因した反
発力がはたらく。これら2つの力のつり合いから決まる
2つのVBL間の安定距離はほぼ強磁性体膜の特性長に
等しくなる。第1のVBLと第2のVBLはこの安定距
離を隔ててVBL対7を形成する。ブロッホ磁壁4に沿
って記している矢印は磁化の向きを表わしている。第1
のVBLの所ではブロッホ磁壁内の磁化が向き合ってお
りここには正の磁荷が生じている。一方、第2のVBL
の所ではブロッホ磁壁内の磁化が逆方向を向いており、
ここには負の磁荷が生じている。
の構造を示す斜視図である。第1図において強磁性体膜
1の内部にストライプドメイン3が形成されており、そ
の外周部にブロッホ磁壁4が存在している。5は第1の
垂直プロッホライン(以下、第1のVBLと呼ぶ)、6
は第2の垂直プロッホライン(以下、第2のVBLと呼
ぶ)、7は第1のVBLと第2のVBLとによって構成
される垂直プロッホライン対(以下、VBL対と呼ぶ)
、8はストライプドメイン内の磁化の向き、9はバイア
ス磁界の向き、10はブロッホ磁壁内の磁化の向きであ
る。第1のVBLと第2のVBLとの間には静磁気的相
互作用に起因した吸引力及び交換相互作用に起因した反
発力がはたらく。これら2つの力のつり合いから決まる
2つのVBL間の安定距離はほぼ強磁性体膜の特性長に
等しくなる。第1のVBLと第2のVBLはこの安定距
離を隔ててVBL対7を形成する。ブロッホ磁壁4に沿
って記している矢印は磁化の向きを表わしている。第1
のVBLの所ではブロッホ磁壁内の磁化が向き合ってお
りここには正の磁荷が生じている。一方、第2のVBL
の所ではブロッホ磁壁内の磁化が逆方向を向いており、
ここには負の磁荷が生じている。
ストライプドメインに対し、外部より矢印60で示され
る向きのパルス磁界を印加するとブロッホ磁壁4は矢印
20の向きに移動する。第1及び第2のVBLはブロッ
ホ磁壁4の移動に帰因したジャイロフォースを受は矢印
21の向きに転送される。
る向きのパルス磁界を印加するとブロッホ磁壁4は矢印
20の向きに移動する。第1及び第2のVBLはブロッ
ホ磁壁4の移動に帰因したジャイロフォースを受は矢印
21の向きに転送される。
次に図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第2図(a)は本発明の第1の実施を示す平面図、第2
図(b)は第2図(a)の破線15部分の断面図である
。
図(b)は第2図(a)の破線15部分の断面図である
。
第2図において、強磁性体膜1の表面上に導体層2が形
成されており、該導体層2にはストライプドメイン3周
辺のブロッホ磁壁4と対応する位置に周期的に開孔パタ
ン11が形成されている。5゜6はそれぞれ第1及び第
2の垂直プロッホライン、7は垂直プロッホライン対、
8は磁化の向き、9及び60はパルスバイアス磁界の向
き、10はブロッホ磁壁内の磁化の向きを示す。
成されており、該導体層2にはストライプドメイン3周
辺のブロッホ磁壁4と対応する位置に周期的に開孔パタ
ン11が形成されている。5゜6はそれぞれ第1及び第
2の垂直プロッホライン、7は垂直プロッホライン対、
8は磁化の向き、9及び60はパルスバイアス磁界の向
き、10はブロッホ磁壁内の磁化の向きを示す。
第3図は第2 M(a)の破線14で囲った部分を拡大
した図である。以下、第3図を用いて本発明の原理を詳
細に説明する。第3図(a)、第3図(b)、第3図(
C)は、本発明を用いたVBL対の転送状態を時間を追
って表わしている。第3図において30 、31 。
した図である。以下、第3図を用いて本発明の原理を詳
細に説明する。第3図(a)、第3図(b)、第3図(
C)は、本発明を用いたVBL対の転送状態を時間を追
って表わしている。第3図において30 、31 。
32.33はVBL捕捉せしめるべき位置を表わしてい
る。第3図(a)ホ導体層2に矢印17で示される向き
の電流パルスを印加した状態を表わしている。
る。第3図(a)ホ導体層2に矢印17で示される向き
の電流パルスを印加した状態を表わしている。
導体層2の中の電流分布は開孔パタン11によって局所
的に乱され、この電流分布の乱れによって30゜31の
位置には各々矢印34 、35で示される向きの磁界が
誘起される。第1図で説明したように第1のVBL 5
には正の磁荷が、また、第2のVBL 5には負の磁荷
が生じている。したがって第1のVBL 5に対して
は30 (及び32)の位置が、また、第2のVBL
6に対しては31(及び33)の位置が磁気的ポテンシ
ャルエネルギー分布の谷になりVBL対7は第3図(a
)に示されるような位置に安定に捕捉される。この状態
でストライプドメイン内対して矢印60で示される向き
のパルス磁界を印加すると第1及び第2のVBLは矢印
39の向きのジャイロフォースを受ける。この時、さら
に導体層に印加する電流パルスの向きを第3図(b)の
矢印18で示される向きに変えると、電流分布の乱れに
よって30 、31 、32 、33の位置に誘起され
る磁界の向きが矢印36 、37で示されるように反転
する。このため、第1のVBL 5に対しては30(及
び32)の位置が、また、第2のVBL 6に対しては
31(及び32)の位置が不安定位置となり、VBL対
7は前記のジャイロフォースによって第3図(b)に示
される安定位置へと転送される。引き続き矢印6oで示
される向きのパルス磁界を印加すると同時に電流パルス
の向きを再び第3図(c)の矢印19で示される向きに
変えると第1のVBL5に対しては31(及び33)の
位置が、また第2のVB’L 6に対しては32(及び
30)の位置が不安定位置となるためVBL対7は矢印
40の向きのジャイロフォースによって第3図(C)に
示される安定位置へと転送される。
的に乱され、この電流分布の乱れによって30゜31の
位置には各々矢印34 、35で示される向きの磁界が
誘起される。第1図で説明したように第1のVBL 5
には正の磁荷が、また、第2のVBL 5には負の磁荷
が生じている。したがって第1のVBL 5に対して
は30 (及び32)の位置が、また、第2のVBL
6に対しては31(及び33)の位置が磁気的ポテンシ
ャルエネルギー分布の谷になりVBL対7は第3図(a
)に示されるような位置に安定に捕捉される。この状態
でストライプドメイン内対して矢印60で示される向き
のパルス磁界を印加すると第1及び第2のVBLは矢印
39の向きのジャイロフォースを受ける。この時、さら
に導体層に印加する電流パルスの向きを第3図(b)の
矢印18で示される向きに変えると、電流分布の乱れに
よって30 、31 、32 、33の位置に誘起され
る磁界の向きが矢印36 、37で示されるように反転
する。このため、第1のVBL 5に対しては30(及
び32)の位置が、また、第2のVBL 6に対しては
31(及び32)の位置が不安定位置となり、VBL対
7は前記のジャイロフォースによって第3図(b)に示
される安定位置へと転送される。引き続き矢印6oで示
される向きのパルス磁界を印加すると同時に電流パルス
の向きを再び第3図(c)の矢印19で示される向きに
変えると第1のVBL5に対しては31(及び33)の
位置が、また第2のVB’L 6に対しては32(及び
30)の位置が不安定位置となるためVBL対7は矢印
40の向きのジャイロフォースによって第3図(C)に
示される安定位置へと転送される。
以上のような本発明の原理を用いればストライブトメイ
ンのブロッホ磁壁に沿ってVBL対を制御性よく安定に
転送することができる。
ンのブロッホ磁壁に沿ってVBL対を制御性よく安定に
転送することができる。
第4図(a)は本発明の第2の実施例を示す平面図、第
4図(b)は第4図(a)の破線15部分の断面図であ
る。
4図(b)は第4図(a)の破線15部分の断面図であ
る。
本実施例では開孔パタン11がストライプドメインの両
側のブロッホ磁壁を橋絡するように形成されている。本
実施例の場合には、開孔パタンの長手方向のエツジ12
がパルス磁界を印加したときのブロッホ磁壁の移動方向
と同方向に形成されているためブロッホ磁壁の移動が開
孔パタンによって防げられずVBLの転送も安定に行な
われる。
側のブロッホ磁壁を橋絡するように形成されている。本
実施例の場合には、開孔パタンの長手方向のエツジ12
がパルス磁界を印加したときのブロッホ磁壁の移動方向
と同方向に形成されているためブロッホ磁壁の移動が開
孔パタンによって防げられずVBLの転送も安定に行な
われる。
第5図(a)は本発明の第3の実施例を示す平面図、第
5’glC+))は第5図(a)の破線15部分の断面
図である。
5’glC+))は第5図(a)の破線15部分の断面
図である。
本実施例では強磁性体膜1と導体層2との間に絶縁層1
6を設けている。本実施例を用いれば導体層のストレス
により開孔パタン周囲に生じる局所的な磁壁エネルギー
の変化によってVBL対の安定な転送が妨げられるのを
防ぐことができる。
6を設けている。本実施例を用いれば導体層のストレス
により開孔パタン周囲に生じる局所的な磁壁エネルギー
の変化によってVBL対の安定な転送が妨げられるのを
防ぐことができる。
゛第6図は第2図、第4図、第5図の実施例に対し共通
に用いられる両極性の電流パルスを印加し得る手段の実
施例を示すブロック図である。第6図において50は正
極性の電流パルスを発生するパルス発生部、51は負極
性の電流パルスを発生するパルス発生部、52はパルス
発生部50 、51からの電流パルスを所定の時間間隔
で交互に発生させる制御部である。53の電流端子と第
2図、第4図、第5図に示される導体層2とを電気的に
接続すれば導体層2に両極性の電流パルスを印加するこ
とができる。
に用いられる両極性の電流パルスを印加し得る手段の実
施例を示すブロック図である。第6図において50は正
極性の電流パルスを発生するパルス発生部、51は負極
性の電流パルスを発生するパルス発生部、52はパルス
発生部50 、51からの電流パルスを所定の時間間隔
で交互に発生させる制御部である。53の電流端子と第
2図、第4図、第5図に示される導体層2とを電気的に
接続すれば導体層2に両極性の電流パルスを印加するこ
とができる。
第1図は垂直プロッホラインを記憶情報単位として用い
る磁気記憶素子の構造の一部を示す斜視図、第2図(a
)、第2図(b)は各々本発明の第1の実施例の磁気記
憶素子の構造の一部を示す平面図及び断面図、第3図(
a)、第3図(b)、第3図(C)は前記本発明の第1
の実施例の拡大図、第4図(a)、第4図(b)は本発
明の第2の実施例の磁気記憶素子の構造の一部を示す平
面図及び断面図、第5図(a)、第5図(b)は本発明
の第3の実施例の磁気記憶素子の構造の一部を示す平面
図及び断面図、第6図は本発明の磁気記憶素子に用いる
電流パルス印加手段の実施例の一部を示すブロック図で
ある。 第1図、第2図、第3図、第4図、第5図、第6図の各
図において、1は強磁性体膜、2は導体層、3はストラ
イプドメイン、4はブロッホ磁壁、5は第1の垂直プロ
ッホライン、6は第2の垂直プロッホライン、7は垂直
プロッホライン対、8はストライプドメイン内の磁化の
向き、9はバイアス磁界の向き、10はブロッホ磁壁内
の磁化の向き、11は開孔パタン、16は絶縁層、17
,18.19は電流パルスの向き、20はブロッホ磁壁
の移動方向、21は垂直プロッホライン対の転送方向、
30 、31 。 32 、33は垂直プロッホラインを捕捉する位at、
3.L35 、36 、37は局所的な磁界の向き、3
9 、40はジャイロフォースの向き、50は正極性の
電流パルスを発生するパルス発生部、51は負極性の電
流パルスを発生するパルス発生部、52は制御部、53
は電流端子、60はパルス磁界の向きである。 −)−一/ 7 ギ 3 図 字 5 図
る磁気記憶素子の構造の一部を示す斜視図、第2図(a
)、第2図(b)は各々本発明の第1の実施例の磁気記
憶素子の構造の一部を示す平面図及び断面図、第3図(
a)、第3図(b)、第3図(C)は前記本発明の第1
の実施例の拡大図、第4図(a)、第4図(b)は本発
明の第2の実施例の磁気記憶素子の構造の一部を示す平
面図及び断面図、第5図(a)、第5図(b)は本発明
の第3の実施例の磁気記憶素子の構造の一部を示す平面
図及び断面図、第6図は本発明の磁気記憶素子に用いる
電流パルス印加手段の実施例の一部を示すブロック図で
ある。 第1図、第2図、第3図、第4図、第5図、第6図の各
図において、1は強磁性体膜、2は導体層、3はストラ
イプドメイン、4はブロッホ磁壁、5は第1の垂直プロ
ッホライン、6は第2の垂直プロッホライン、7は垂直
プロッホライン対、8はストライプドメイン内の磁化の
向き、9はバイアス磁界の向き、10はブロッホ磁壁内
の磁化の向き、11は開孔パタン、16は絶縁層、17
,18.19は電流パルスの向き、20はブロッホ磁壁
の移動方向、21は垂直プロッホライン対の転送方向、
30 、31 。 32 、33は垂直プロッホラインを捕捉する位at、
3.L35 、36 、37は局所的な磁界の向き、3
9 、40はジャイロフォースの向き、50は正極性の
電流パルスを発生するパルス発生部、51は負極性の電
流パルスを発生するパルス発生部、52は制御部、53
は電流端子、60はパルス磁界の向きである。 −)−一/ 7 ギ 3 図 字 5 図
Claims (1)
- 情報読出し手段、情報書込み手段および情報蓄積手段を
備え、膜面に垂直な方向を磁化容易方向とする強磁性体
膜(フエIJ磁性体膜を含む)に存在するストライプド
メイン周辺のブロッホ磁壁の中に作った相隣る2つの垂
直プロッホラインからなる垂直プロッホライン対を記憶
情報単位として用いる磁気記憶素子であって、前記強磁
性体、膜上に直接又は絶縁層を介して導体層が設けられ
、さらに該導体層にストライプドメイン周辺のブロッホ
磁壁に対応する位置に周期的な開孔パタンか形成されて
おり、該導体層にストライプドメインの長手方向と垂直
な向きに両極性の電流パルスを印加し得る手段を備えた
ことを特徴とする磁気記憶素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57207007A JPS5998374A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 磁気記憶素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57207007A JPS5998374A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 磁気記憶素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5998374A true JPS5998374A (ja) | 1984-06-06 |
Family
ID=16532647
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57207007A Pending JPS5998374A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 磁気記憶素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5998374A (ja) |
-
1982
- 1982-11-26 JP JP57207007A patent/JPS5998374A/ja active Pending
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