JPS5998373A - 磁気記憶素子 - Google Patents

磁気記憶素子

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Publication number
JPS5998373A
JPS5998373A JP57207006A JP20700682A JPS5998373A JP S5998373 A JPS5998373 A JP S5998373A JP 57207006 A JP57207006 A JP 57207006A JP 20700682 A JP20700682 A JP 20700682A JP S5998373 A JPS5998373 A JP S5998373A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vbl
bloch
domain
magnetic
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57207006A
Other languages
English (en)
Inventor
Kimihide Matsuyama
公秀 松山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP57207006A priority Critical patent/JPS5998373A/ja
Publication of JPS5998373A publication Critical patent/JPS5998373A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/14Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は膜面垂直方向を磁化容易方向とする強磁性体膜
に形成されるストライプドメインの境界を形成するブロ
ッホ磁壁の中に静的に安定に存在する垂直プロッホライ
ンを記憶単位として用いた磁気記憶素子に関し、更に詳
しくは前記垂直プロッホラインをブロッホ磁壁の中で安
定に転送する手段を有する磁気記憶素子に係るものであ
る。
磁気バブル素子の開発は高密度化を1指して各所でパー
マロイデバイス、イオン注入コンティギ=アディスクデ
バイス、電流駆動デバイスおよびこれらを組合せたいわ
ゆる混成屋デバイスについて盛んに行われている。これ
らのデバイスの高密度化の限界は、バブル転送路を形成
するだめのフォトリングラフイー技術にあるといわれて
きた。
しかし、近年、その技術が長足に進歩してきた。
その結果、高密度化のための材料すなわち、バブル径を
どこまで小さくできるかが問題視されるようになってき
た。現在使用されているガーネット材料では、到達可能
な最小バブル径は0.3μmといわれている。したがっ
て、0.3μmμm下のバブルを保持するバブル材料は
ガーネット材料以外に求めなければならない。これは容
易ではなく、ここがバブル高密度化の限界であるとさえ
考えられている。
一方、このようなバブル保持層の特性に基く高密度化限
界を大幅に改善し、かつ、情報読出し時間は従来の素子
と同程度に保つことができる、新らたな記憶素子が提案
されている。この磁気記憶素子は情報読出し手段と情報
書込み手段と情報蓄積手段を備え、膜面に垂直な方向を
磁化容易方向とする強磁性体膜(フェリ磁性体膜を含む
)に存在するストライプドメインの周辺のブロッホ磁壁
の中に作った相隣合う2つの垂直プロッホラインからな
る垂直プロッホライン対を記憶情報単位として用い、該
垂直プロッホラインをブロッホ磁壁内で転送する手段を
有することを特徴とする。
この素子の構成をメジャーマイナー構成とする場合、メ
ジャーラインでは従来通シバプルドメインを情報単位と
し、マイナーループをストライプドメインで爾成し、そ
の周辺のブロッホ磁壁内に存在する垂直プロッホライン
(以下VBLという。)を情報単位とする。全体の情報
の流れを示すと、まず、発生器で簀込まれた情報(バブ
ルの有無)は書込みメジャーラインを移動する。この情
報をマイナーループへ記憶させるために、バブルの有無
で示されたメジャーライン上の情報をマイナールーズへ
VBLO形でトランスファーできるように、マイナール
ープをVBLを保持できるブロッホ磁壁で構成すること
が本発明の特徴であシ、記憶容量の飛躍的向上の重要な
カギになっている。
書込みライントランスファーゲートによシ、マイナール
ープにトランスファーされた情報(VBL)はマイナー
ルーズを構成するストライプドメイン磁壁土を移動させ
ることができる。マイナーループから読出しメジャーラ
インへの情報トランスファーはVBLからバブルへの変
換を伴う。なお、この読出しトランスファーゲートはブ
ロックレプリケータ機能も合せ持っている。
この素子の構成についてさらに詳しく説明する。
メジャーラインは簀込み、読出しともに電流駆動方式を
採用している。4本の平行コンダクタ−からなる書込み
トランスファーゲートはメジャーライン上のバブルとマ
イナーループを構成する1、ストライプドメインヘッド
との相互作用を用いている。メジャーライン方千ケ上に
バブルドメインがあると、それにつながるマイナールー
ズを構成しているストライプドメインのヘッドはバブル
とストライプドメインとの反発相互作用のため、バブル
から遠ざかることを利用している。書込みメジャーライ
ンにバブルがないとき、マイナールーズのストライプド
メイン磁壁にVBLを誓込む。
VBLをストライプドメインヘッドに作る手段として、
ストライプドメインヘッドをそれに接するコンダクタ−
パターンにパルス電流を与えることによシ、ダイナミッ
クに移動させ、ヘッド部磁壁をダイナミックコンバージ
ョンさせることを利用している。この方法で、VBLが
2つできるが、これらは互いに性質が異なり、再結合し
ゃすい。
そこで、情報を安定化できる−ようにストライプドメイ
ンの長平方向に面内磁界を加え、ストライプドメイン側
の2本のコンダクタ−によってストライプドメインヘッ
ドを切離すことにょシ、ストライプドメイン中に2つの
同じ性質のVBLを作る。
同じ性質のVBLは互いに近づいても安定に存在する。
メジャーラインにバブルが存在しているところに対応す
るマイナールーズのストライプドメインヘッドはバブル
との反発作用のため、上記コンダクタ−パターンから離
れているため、VBLは形成されない。結果的にメジャ
ーラインの情報II I 11をマイナーループ内にV
BL対がない状態としてトランスファーしたことになる
。マイナーループ内では性質が同じVBLの対を1ビツ
トとして情報が記憶される。レプリケータ−作用の安定
性を考えて(9VBL対を使っている。
マイナーループ内のビット周期っまシ、VBL間隔を一
定に保つように、1ビツトずつ選択転送できるように転
送パターンをつける。−例として、上記マイナールーズ
を構成するストライプドメイン上にストライプドメイン
の長手方向に直角方向にVBL間の安定間隔Soの2倍
の周期で、幅Soのパーマロイ薄膜で作った平行細線パ
ターンを形成し、平行細線の両側に誘起される磁極とV
BLとの相互作用を利用した。VBLのマイナールーズ
に沿っての転送は一つの方法として、ストライプドメイ
ンにパルスバイアス磁界を加えてダイナミックに行なう
3本の平行コンダクタ−からなる読出しトランス7アー
ゲートはマイナーループを形成しているストライプドメ
イン磁壁にVBLとして記憶されている情報をバブルに
変換してメジャーラインにトランスファーアウトし、か
つ、マイナールーズ上の情報が破壊されないようにする
レプリケータ−の働きも兼備えている。動作原理を説明
する。
VBL対で形成される1ピツトの片割れを例えば面内磁
界を加えてストライプドメインヘッド罠固定する。その
後コンダクタ−パターンを用いて、このストライプドメ
インヘッドを切夛とシ、バブルにする。そうすると、バ
ブルを切夛とった後のストライプドメインヘッドには切
夛とったVBLと同じVBLが再成される。このよう1
VBLのレグリケード作用はマイナス符号のVBLに対
してのみ生じる。
マイナールーズのストライプドメインヘッドから切夛と
られたバブルはメジャーライン上を検出器に向けて転送
される。こζではストライプドメインヘッドにVBLか
ある場合とない場合とでストライプドメインヘッドを幼
少とる。パルス電流値が異なることを利用している。ス
トライプドメインヘッドにVBLがない場合は切れにく
い。したがって、ストライプドメインヘッドにVBLが
ある場合はメジャーラインにバブルを送シ込めるが、V
BLがない場合はバブルはない。つまシ、マイナールー
ズ上のVBLの有無(1,0)は読出しメジャーライン
上ではバブルの有無に変換されている。
VBL対の消去法について述べる。消去したいVBL対
を書込みメジャーライン側のマイナールーズのストライ
プドメインヘッドの最近接位置におく。次に面内磁界J
(ipを加えて、消去したいVBL対と、そのとなシの
VBL対の片割れをストライプドメインヘッドにもって
きて、情報書込みの際、プラスのVBLを切夛とるため
に用いた平行コンダクタ−を使ってストライプドメイン
ヘッドを切夛とる。バブルドメインを切夛とったあとの
ストライプドメインヘッドには、消去したいVBL対と
共にもってきたVBLがレグリケードされる。結局、消
去したいVBL対のみが消去されることになる。なお、
マイナーループ全体をクリアする場合は予め、バイアス
磁界を上げて全部のストライプドメインを一旦消去した
あと、S=1バブルからマイナーループスト之イブドメ
インを形成することによシ、VBLが全熱ない全ピット
零の状態を作ることができる。
このようなVBLを情報記憶単位として用いる磁気記憶
素子を実現する上で必須の機能の一つは、ブロッホ磁壁
の中の垂直プロッホライン対(以下VBL対と呼ぶ)を
制御性よく転送することである。
本発明はブロッホ磁壁の中のVBL対をきわめて制御性
よく転送し得る磁気記憶素子を提供することを目的とす
る。
すなわち本発明は情報読出し手段と情報書込み手段と情
報蓄積手段を備え、膜面に垂直な方向を磁化容易方向と
する強磁性体膜(フェリ磁性膜をイン対を記憶情報単位
として用い、該垂直プロッホラインをブロッホ磁壁内で
転送する手段を有することを特徴とする磁気記憶素子で
あって、前記強磁性体膜の表面又は内部に、前記各スト
ライプドメインに対応して該ストライプドメインと一部
が重なる位置に軟磁性層が形成され、かつ該軟磁性層の
外周には周期的な凹凸部が形成されておシ、しかも該凹
凸部は前記ストライプドメイン周辺のブロッホ磁壁がそ
の凸部を横切る位置に配置されていることを特徴とする
磁気記憶素子である。
次に図面を用いて本発明の詳細な説明する。
M1図は磁気記憶素子中のスト2イブドメイン及びVB
L対を示す斜視図である。第1図において強磁性体膜l
の内部にストライプドメイン3が存在し、その境界部に
ブロッホ磁壁4が存在している。5は第1の垂直プロッ
ホライン(以下、第1のVBLと呼ぶ)、6は第2の垂
直プロッホライン(以下、第2のVBLと呼ぶ)、7は
第1のVBLと第2のVBLとによって構成される垂直
プロッホライン対(以下、VBL対と呼ぶ)、8はスト
ライプドメイン内の磁化の向きを衣わす矢印、9はバイ
アス磁界の向きを表わす矢印である。
第1のVBLと第2のVBLとの間には静磁気的相互作
用に起因した吸引力及び交換相互作用に起因した反発力
がはたらく。これら2つの力のっシ合いから決まる2つ
のVBL間の安定距離はほぼ強磁性体膜の特性長に等し
くなる。第1のVBLと第2のVBLは、この安定距離
を隔ててVBL対7を形成する。ブロッホ磁壁4に沿っ
て記している矢印は磁化の向きを表わしている。第1の
VBLの所ではブロッホ磁壁内の磁化が向き合っておシ
ここには正の磁荷が生じている。一方、第2のVBLの
所ではブロッホ磁壁内の磁化が逆方向を向いておシ、こ
こには負の磁荷が生じている。
ストライプドメインに対し、外部よシ矢印8で示される
向きのパルス磁界を印加するとブロッホ磁壁4は矢印2
oの向きに移動する。第1及び第2のVBLはブロッホ
磁壁4の移動に起因したジャイロ7オースを受は矢印2
1の向きに転送される。
第2図(a)、第2図(b)は各々不発明の実施の一例
を示す平面図及び側面図でるる。第2図において10.
11はVJ3Lの位置、12.13は各々ストライプド
メインの第1及び第2のブロッホ磁壁、2は軟磁性層、
14は軟磁性層外周に設けた凹部、15は軟磁性層のエ
ツジ部fi=表わしている。
以下、第2図(a)の平面図を用いて本発明の詳細な説
明する。
軟磁性層2はストライプドメイン3がらの浮遊磁界によ
って磁化されるため、軟磁性層2とストライプドメイン
3の間には磁気的な吸引力がはたらき、ストライプドメ
イン3は軟磁性層3の下に安定に捕捉される。また、第
1図を用いで説明したようにVBL対を形成している第
1のVBL 5及び第2のVBL6の所には磁荷が生じ
ておル、との磁荷から浮遊磁界が発生している。軟磁性
層2はこの浮遊磁界によって局所的に磁化されるために
軟磁性層2のエツジ部15に磁荷が誘起される。このよ
うな磁気的相互作用によシ、第1及び第2のVBLとエ
ツジ部15との間にはエツジ部の方向と垂直な方向の吸
引力が作用する。
一方、軟磁性層2の外周部の凹部14はブロッホ磁壁と
垂直々エツジ部を有するため、該凹部14はブロッホ壁
に沿った磁気的ポテンシャルエネルギーの谷となシ、V
BL対は第2図(b)に示されるように、凹部14の中
に安定に捕捉される。
今、VBL対が第1のプ日ツホ磁壁内の位置10にある
場合を考える。第1図で説明したように、VBL対はス
トライプドメインに矢印8で示される向きのパルス磁界
を印加することによシ矢印22の向きの駆動力を受ける
。パルス磁界の振幅及びパルス幅を適当な値に設定すれ
ば、VBL対を右隣シの凹部、すなわち11の位置まで
転送し、パルスが切れた後には凹部の磁気的ポテンシャ
ルの谷によって11の位置に安定に捕捉させておくこと
ができる。VBL対が第2のブロッホ磁壁の中にある場
合には、VBL対は矢印8の向きのパルス磁界によって
矢印23の向きの駆動力を受ける。このため、軟磁性層
2の凹部14に捕捉されている第2のブロッホ磁壁13
内のVBL対は左隣シの切夛込み部14に転送される。
以上のような本発明の原理を用いればストライプドメイ
ン周辺のブロッホ磁壁に沿ってVBL対を一定の距離だ
け安定に転送することができる。
第3図(a)、第3図(b)は各々本発明の第2の実施
例を示す平面図及び断面図である。第3図で16は強磁
性体膜1に選択的にイオン注入を施すことによ)形成し
た軟磁性層である。軟磁性層16の中の磁化はイオン注
入に伴なう逆磁歪効果によって膜面内方向を向いている
。したがって第1及び第2のVBL 5.6と軟磁性層
16のエッ′ジ部15との間には磁気的な吸引力がはた
らき、第2図を用いて説明した原理にもとづきVBL対
を制御性よく転送することができる。
第4図(a)、第4図(b)は各々本発明の第3の実施
例を示す平面図及び断面図である。第4図で17は軟磁
性垂直磁化層、18は該軟磁性垂直磁化層17に選択的
にイオン注入を施すことによ多形成した軟磁性層である
。軟磁性層18内の磁化はイオン注入に伴なう逆磁歪効
果によって膜面内方向を向いている。したがって第1及
び第2のVBLと軟磁性層18のエツジ部15との間に
は磁気的な吸引力がはたらき、第2図を用いて説明した
原理にもとづきVBL対を制御性よく転送することがで
きる。
第5図(a)、第5図(b)は各々本発明の第4の実施
例を示す平面図及び側面図である。第5図で19は軟磁
性Pi2に形成した突起部である。突起部19はブロッ
ホ磁壁と垂直なエツジ部を有するため第3図を用いて説
明したと同様の原理にもとづいてVBL対を制御性よく
転送することができる。
以上のように本発明を用いればストライプドメイン周囲
のブロッホ磁壁内のVBL対を軟磁性層lの外周部に形
成した凹部または凸起部の配列周期によって制御性よく
安定に転送することが可能であシ、非常に信頼性の高い
磁気記憶素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は垂直プロッホラインの構造を示す斜視図、第2
図(a)、第2図(b)は本発明の第1の実施例を示す
平面図及び側面図、第3図(al、第3図(b)は本発
明の第2の実施例を示す平面図及び断面図、第4図(a
)、第4図(b)は本発明の第3の実施例を示す平面図
及び側面図、第5図(a)、第5図(b)は本発明の第
4の実施例を示す平面図及び側面図である。 第1図、第2図、第3図、第4図、第5図の各図におい
て、1は強磁性体膜、2,16.18は軟磁性層1.3
はストライプドメイン、4はブロッホ磁壁、5は第1の
垂直プロッホライン、6は第2の垂直プロッホライン、
7は垂直プロッホライン対、8はスト2イブドメイン内
の磁化の向きを表わす矢印、9はバイアス磁界の向きを
表わす矢印、10.11は垂直プロッホライン対の位置
、12.13は各々第1及び第2のブロッホ磁壁、14
は軟磁性層外周部に設けた凹部、15は軟磁性層のエツ
ジ部、17は垂直磁化膜、19は軟磁性層に設けた凸部
、20はブロッホ磁壁の運動方向を表わす矢印、21は
垂直プロッホライン対の転送方向を表わす矢印、22.
23は垂直プロッホライン対の受けるジャイロフォース
の向きを表わす矢印である。 等 3 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 情報読出し手段と情報書込み手段と情報蓄積手段を備え
    、膜面に垂直な方向を磁化容易方向とする強磁性体膜(
    フェリ磁性膜を含む)に存在するストライプドメインの
    周辺のブロッホ磁壁の中に作った相隣合う2つの垂直プ
    ロッホラインからなる垂直プロッホライン対を記憶情報
    単位として用い、該垂直プロッホラインをブロッホ磁壁
    内で転送する手段を有することを特徴とする磁気記憶素
    子であって、前記強磁性体膜の表面又は内部に、前記各
    ストライプドメインに対応して該ストライプドメインと
    一部が重なる位置に軟磁性層が形成され、かつ該軟磁性
    層の外周には周期的な凹凸部が形成されておシ、しかも
    該凹凸部は前記ストライプドメイン周辺のブロッホ磁壁
    がその凸部を横切る位置に配置されていることを特徴と
    する磁気記憶素子。
JP57207006A 1982-11-26 1982-11-26 磁気記憶素子 Pending JPS5998373A (ja)

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JP57207006A JPS5998373A (ja) 1982-11-26 1982-11-26 磁気記憶素子

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2618013A1 (fr) * 1987-07-06 1989-01-13 Canon Kk Procede pour transferer des lignes de bloch et memoire a lignes de bloch
US4974200A (en) * 1986-07-30 1990-11-27 Canon Kabushiki Kaisha Method of transferring Bloch lines in the domain wall of a magnetic domain, and a magnetic memory using the method

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US4974200A (en) * 1986-07-30 1990-11-27 Canon Kabushiki Kaisha Method of transferring Bloch lines in the domain wall of a magnetic domain, and a magnetic memory using the method
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