JPS59976B2 - ハンドウタイソウチ - Google Patents
ハンドウタイソウチInfo
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- JPS59976B2 JPS59976B2 JP50134034A JP13403475A JPS59976B2 JP S59976 B2 JPS59976 B2 JP S59976B2 JP 50134034 A JP50134034 A JP 50134034A JP 13403475 A JP13403475 A JP 13403475A JP S59976 B2 JPS59976 B2 JP S59976B2
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- pellet
- resin
- thermal expansion
- silver paste
- substrate
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/30—Die-attach connectors
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- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/015—Manufacture or treatment of bond wires
- H10W72/01515—Forming coatings
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
-
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W90/736—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
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- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体装置に関するものである。
半導体装置の半導体ペレット接続方式として金属板基板
に銀ペーストを介して半導体ペレットを接続してなるも
のがある。
に銀ペーストを介して半導体ペレットを接続してなるも
のがある。
他の方式として金シリコン共晶合金を介してペレット接
続を行う方法があるが金を使用するため価格が高くまた
接続温度が高くなる。また、半田を介してペレット接続
を行う方法があり、価格も安く、低温度で接続を行うこ
とができるが半田の疲労破壊が存在する。したがつて、
最近は銀ペーストによる低温ペレットボンディングを行
う傾向にある。これによれば金シリコン共晶合金による
場合より低価格であり、しかも、比較的良好な接続性、
導電性が得られる。しかるに、銀ペーストは半田のよう
に延びがなく、延び率が1〜2%で破壊する。したがつ
て、銀ペーストによつて接続処理を施した場合において
、銀ペーストが硬化後の温度低下によつて銀ペーストに
延びが生じ、破壊するという問題があつた。すなわち基
板の方がシリコンより熱膨張係数が大きいことから基板
の方がより大きく収縮し、そのため第1図に示すように
側面長さlが11から12に長くなる。本願発明者は、
かかる銀ペーストの破壊を防止すべく、半導体ペレット
部を覆うようにレジン(樹脂)でモールドし、このレジ
ンによつて半導体ペレットを収縮せしめ、基板とペレッ
トの間の銀ペースト膜に歪が生じないようにすることを
考えた。
続を行う方法があるが金を使用するため価格が高くまた
接続温度が高くなる。また、半田を介してペレット接続
を行う方法があり、価格も安く、低温度で接続を行うこ
とができるが半田の疲労破壊が存在する。したがつて、
最近は銀ペーストによる低温ペレットボンディングを行
う傾向にある。これによれば金シリコン共晶合金による
場合より低価格であり、しかも、比較的良好な接続性、
導電性が得られる。しかるに、銀ペーストは半田のよう
に延びがなく、延び率が1〜2%で破壊する。したがつ
て、銀ペーストによつて接続処理を施した場合において
、銀ペーストが硬化後の温度低下によつて銀ペーストに
延びが生じ、破壊するという問題があつた。すなわち基
板の方がシリコンより熱膨張係数が大きいことから基板
の方がより大きく収縮し、そのため第1図に示すように
側面長さlが11から12に長くなる。本願発明者は、
かかる銀ペーストの破壊を防止すべく、半導体ペレット
部を覆うようにレジン(樹脂)でモールドし、このレジ
ンによつて半導体ペレットを収縮せしめ、基板とペレッ
トの間の銀ペースト膜に歪が生じないようにすることを
考えた。
すなわち、本発明の目的は半導体ペレットと基板を接続
する銀ペースト膜の破壊をなくすことにある。
する銀ペースト膜の破壊をなくすことにある。
上記目的を達成するための本発明の要旨は、金属基板に
銀ペーストを介して半導体ペレットを接続し、その後上
記半導体ペレットと金属基板間に生じる歪よりも大きな
圧縮歪が上記半導体ペレットに生じるような熱膨張係数
を有するレジンによつて上記半導体ペレットを封止した
ことを特徴とする半導体装置にある。
銀ペーストを介して半導体ペレットを接続し、その後上
記半導体ペレットと金属基板間に生じる歪よりも大きな
圧縮歪が上記半導体ペレットに生じるような熱膨張係数
を有するレジンによつて上記半導体ペレットを封止した
ことを特徴とする半導体装置にある。
以下本発明を実施例により説明する。
第1図a、bは本発明の一実施例の説明図である。
aはペレット付後温度を−50℃にしたときの状態を示
し、bはペレット付けを終えた後レジンモールドし、そ
の後−50℃にしたとの状態を示すものである。
し、bはペレット付けを終えた後レジンモールドし、そ
の後−50℃にしたとの状態を示すものである。
一般に、電気製品は最低一50℃の温度に耐えられるよ
うに設計され、温度試験においても最低温度が−50℃
である。
うに設計され、温度試験においても最低温度が−50℃
である。
したがつて、ペレット付け温度(固着点は銀ペーストを
用い場合は約200℃)を最高温度とし、それから−5
0℃まで温度を下げると、固着時における面A,−A2
a,−A4面が−50℃の温度のときはH,−H2−H
3−H,面の位置に収縮され、そしてシリコンペレツト
3と金属基板1との熱膨張係数の相違(シリコンペレツ
トの方が一般の基板より熱膨張係数が小さい)に基づき
両者の収縮の度合が異なるので、銀ペースト膜2の上面
が下面より広くなり、その側面の長さは1,から12に
なり長くなる。そして二の延び率1=(11−12)/
11が2%以上になると破壊しやすくなる。そこで、レ
ジンモールドして同図bに示すようにシリコンペレツト
3をレジン4によつて収縮せしめる。
用い場合は約200℃)を最高温度とし、それから−5
0℃まで温度を下げると、固着時における面A,−A2
a,−A4面が−50℃の温度のときはH,−H2−H
3−H,面の位置に収縮され、そしてシリコンペレツト
3と金属基板1との熱膨張係数の相違(シリコンペレツ
トの方が一般の基板より熱膨張係数が小さい)に基づき
両者の収縮の度合が異なるので、銀ペースト膜2の上面
が下面より広くなり、その側面の長さは1,から12に
なり長くなる。そして二の延び率1=(11−12)/
11が2%以上になると破壊しやすくなる。そこで、レ
ジンモールドして同図bに示すようにシリコンペレツト
3をレジン4によつて収縮せしめる。
一般に金属から成る基板は厚くかつ剛性が大であるから
レジンの硬化後の温度低下によつても収縮し得ないが、
ペレツトは薄く、剛性が小さいのでレジンの収縮力によ
つて強制的に収縮させられる。ペレツトのb1−B2面
がC1−C2面まで収縮すると、銀ペースト膜2の上面
の広さが下面の広さと等しくなり、その側面の長さはペ
レツト付の際の固着時におけるペレツト側面の長さと等
しい11となり、延び率がOとなる。したがつて、銀ペ
ーストの破壊の進行速度が小さくなる。次に基板として
銅を用いた場合を例として具体的に説明する。ペレツト
付け後、−50℃の温度に冷均した場合にゎいて、基板
・シリコンベレツト間に生じる歪みε,は下記の式で得
られる。
レジンの硬化後の温度低下によつても収縮し得ないが、
ペレツトは薄く、剛性が小さいのでレジンの収縮力によ
つて強制的に収縮させられる。ペレツトのb1−B2面
がC1−C2面まで収縮すると、銀ペースト膜2の上面
の広さが下面の広さと等しくなり、その側面の長さはペ
レツト付の際の固着時におけるペレツト側面の長さと等
しい11となり、延び率がOとなる。したがつて、銀ペ
ーストの破壊の進行速度が小さくなる。次に基板として
銅を用いた場合を例として具体的に説明する。ペレツト
付け後、−50℃の温度に冷均した場合にゎいて、基板
・シリコンベレツト間に生じる歪みε,は下記の式で得
られる。
(但し、αCu:基板材料の熱膨張係数〔銅の場合は1
7X106〕、αSi:シリコンペレツトの熱膨張係数
、t1 :ペレツト付け温度一200℃、T2:最低温
度=−50℃)したがつて、レジンモールドによつて、
半導体ペレツトに3400×106以上の圧縮歪を生ぜ
しめるようにすれば半導体ペレツト接続用銀ペーストの
破壊進展速度を少くすることができる。
7X106〕、αSi:シリコンペレツトの熱膨張係数
、t1 :ペレツト付け温度一200℃、T2:最低温
度=−50℃)したがつて、レジンモールドによつて、
半導体ペレツトに3400×106以上の圧縮歪を生ぜ
しめるようにすれば半導体ペレツト接続用銀ペーストの
破壊進展速度を少くすることができる。
すなわち、半導体ペレツトに3400×106以上の圧
縮歪を生ぜしめるような熱膨張係数を有する・レジンを
用いてモールドすればよい。ところで、ペレツト部をレ
ジンモールドした場合、レジンとペレツト間に生じる歪
みε2は下記の式で得られる。
縮歪を生ぜしめるような熱膨張係数を有する・レジンを
用いてモールドすればよい。ところで、ペレツト部をレ
ジンモールドした場合、レジンとペレツト間に生じる歪
みε2は下記の式で得られる。
(但し、αR:レジンの熱膨張係数、T3:レジン硬化
温度〔一般に150℃〕したがつて、基板・ペレツト間
に生じた歪みε1を打ち消すだけの、すなわちε1と等
しい圧縮歪みε2をレジンのモールドによつてシリコン
ペレツトに与えればよいから、レジンの熱膨張係数α、
は、ε2=ε,つまり式(1)=式(2)とI實くこと
により得られる。
温度〔一般に150℃〕したがつて、基板・ペレツト間
に生じた歪みε1を打ち消すだけの、すなわちε1と等
しい圧縮歪みε2をレジンのモールドによつてシリコン
ペレツトに与えればよいから、レジンの熱膨張係数α、
は、ε2=ε,つまり式(1)=式(2)とI實くこと
により得られる。
すなわち、
以上のことから、銅を基板とする場合、約20×106
以上の熱膨張係数のレジンを用いればよいことがわかる
。
以上の熱膨張係数のレジンを用いればよいことがわかる
。
銅と略同じ熱膨張係数を有する銅合金、PBPあるいは
Sn−0FCを基板とした場合も同じである。
Sn−0FCを基板とした場合も同じである。
また、アルミニウムを基板とする場合は、アルミニウム
の熱膨張係数が23×106であることから、そのε1
は下記の如くである。
の熱膨張係数が23×106であることから、そのε1
は下記の如くである。
そして、レジンの熱膨張係数α、は、式(3)から約2
4X106以上となる。
4X106以上となる。
熱膨張係数が4,5×106のコバール合金を基板とし
て用いる場合は上記式(1)から255×106以上の
圧縮歪みをペレツトに与えるようなレジンでモールドす
る。
て用いる場合は上記式(1)から255×106以上の
圧縮歪みをペレツトに与えるようなレジンでモールドす
る。
そのレジンの熱膨張係数は約4.7×106以上となる
。同様に、5×106の熱膨張係数を有するモリブデン
あるいはタングステンを基板として用いる場合は300
×106以上の圧縮歪みをペレツトに与えるようなレジ
ンでモールドする。
。同様に、5×106の熱膨張係数を有するモリブデン
あるいはタングステンを基板として用いる場合は300
×106以上の圧縮歪みをペレツトに与えるようなレジ
ンでモールドする。
そのレジンの熱膨張係数は5×106以上となる。また
、プリント基板にペレツト付けする場合はプリント板の
熱膨張係数が30×106であるこ・とから、5700
以上の圧縮歪みをペレツトに与えるようなレジンでモー
ルドする。
、プリント基板にペレツト付けする場合はプリント板の
熱膨張係数が30×106であるこ・とから、5700
以上の圧縮歪みをペレツトに与えるようなレジンでモー
ルドする。
そのレジンの熱膨張係数は12.5×106以上となる
。しかし、これらの熱膨張係数はレジンの固着温度によ
り異なる。このように本発明によれば、銀ペースト膜に
よつてペレツト付けした後に温度が低下した場合、シリ
コンペレツトと接続基板との熱膨張の相違に起因して銀
ペーストに生じる歪みを、モールド用レジンによつてペ
レツトに圧縮力を加えることによりなくすことができる
。
。しかし、これらの熱膨張係数はレジンの固着温度によ
り異なる。このように本発明によれば、銀ペースト膜に
よつてペレツト付けした後に温度が低下した場合、シリ
コンペレツトと接続基板との熱膨張の相違に起因して銀
ペーストに生じる歪みを、モールド用レジンによつてペ
レツトに圧縮力を加えることによりなくすことができる
。
本発明はシリコンペレツトを基板に銀ペーストを介して
接続してなる半導体装置に広く適用することができる。
接続してなる半導体装置に広く適用することができる。
本発明はリードフレームに半導体ペレツトに接続した後
にレジンモールドした第2図に示すような一般のレジン
モールド型半導体装置のみならず、例えば第3図に示す
ようなキヤン封止型半導体装置についても、ペレツト表
面をレジンでカバーすることにより適用することができ
る。
にレジンモールドした第2図に示すような一般のレジン
モールド型半導体装置のみならず、例えば第3図に示す
ようなキヤン封止型半導体装置についても、ペレツト表
面をレジンでカバーすることにより適用することができ
る。
第1図は本発明の実施例を示す断面図で、aはペレツト
付け後温度を低下させた状態、bはペレツト付けされた
ものにさらにレジンモールドし、その後温度を低下させ
た状態を示す。 第2図および第3図は本発明の適用例を示す断面図であ
る。1・・・基板、2・・・銀ペースト膜、3・・・半
導体ペレツト、4・・・レジン。
付け後温度を低下させた状態、bはペレツト付けされた
ものにさらにレジンモールドし、その後温度を低下させ
た状態を示す。 第2図および第3図は本発明の適用例を示す断面図であ
る。1・・・基板、2・・・銀ペースト膜、3・・・半
導体ペレツト、4・・・レジン。
Claims (1)
- 1 金属基板に銀ペーストを介して半導体ペレットを接
続し、その後上記半導体ペレットと金属基板間に生じる
歪よりも大きな圧縮歪が上記半導体ペレットに生じるよ
うな熱膨張係数を有するレジンによつて上記半導体ペレ
ットを封止したことを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50134034A JPS59976B2 (ja) | 1975-11-10 | 1975-11-10 | ハンドウタイソウチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50134034A JPS59976B2 (ja) | 1975-11-10 | 1975-11-10 | ハンドウタイソウチ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5258370A JPS5258370A (en) | 1977-05-13 |
| JPS59976B2 true JPS59976B2 (ja) | 1984-01-10 |
Family
ID=15118813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50134034A Expired JPS59976B2 (ja) | 1975-11-10 | 1975-11-10 | ハンドウタイソウチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59976B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6239510U (ja) * | 1985-08-24 | 1987-03-09 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5683958A (en) * | 1979-12-12 | 1981-07-08 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
-
1975
- 1975-11-10 JP JP50134034A patent/JPS59976B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6239510U (ja) * | 1985-08-24 | 1987-03-09 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5258370A (en) | 1977-05-13 |
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