JPS5989764A - 薄膜パタ−ン連続成膜装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はマスクによシバターン形成する薄膜パターン連
続成膜装置に関するものである。

〔従来技術〕

従来薄膜パターンの成膜は減圧室にて蒸着、スパッター
、ＣＶＤ等によ）成膜し、バタニレ且フォトエツチング
して形成する方法、基板にマスクを重ねて形成する方法
等が用いられるが、フォトエツチング法は工数が多いと
いう問題があシ、特に多層の積層パターン形成には不利
である。

薄膜パターンをマスクによシ連続成膜する場合は、成膜
中の基板加熱によって基板とマスクの熱膨張差によるパ
ターンずれを起こし、密着不良によるパターンの周辺の
回り込みの問題が生じて高品質表薄膜パターンの連続成
膜が載乗ないという欠点があった。

〔発明の目的〕

本発明は基板とマスクの熱膨張差をなくし高品質な薄膜
パターン乞連続成膜することである。

〔発明の概要〕

本発明はこのような目的を達成するために基板とマスク
を同一材質としたものである。

〔発明の実施例〕

以下本発明の一実施例を第１図によ）説明する。

減圧された室内にて長尺基板１とマスク２を重ね、＃１
成膜室３内をスプロケット用穴ｌｃ（第２図に示す）に
スプロケット４にて位置合わせして連続送如し、基板加
熱ヒータ６によって加熱して成膜源６によシバターン成
膜を行なう。マスク２は中間室７のローラによシ巻取シ
第１パターン成膜をする。基板１は同様第２成膜室８内
を通過し第２パターンを成膜する。通常、成膜時に基板
１は加熱されるが、この熱によυ、基板１とマスク２の
材質が異表ると、熱膨張差によシ基板１とマスク２のず
れが発生する。マスクの熱膨張率が１×５ １０　　大きい場合で、スプロケット４から成膜開始時
の基板１ａまでの長さが２ｍとすると、約７訓ずれた位
置から成膜が始まυ、スプロケット４に近ずくになるに
したがってずれがなくな）、基板１ｂで成膜は終るが、
その時の成膜パターンは第２図の９ａ＋９ｂに示す範囲
となり、周辺の断面形状が第３図に示すようにパターン
９となる。以上の欠点を対策するため、基板１とマスク
２の材質を同材質とし熱膨張率を同じにすることにより
、基板加熱による基板１とマスク２の変化量を同じにす
ると、成膜開始から終了まで基板１とマスク２のずれは
生じなくなシ、第４図、第５図に示すパターンとするこ
とが可能となる。

〔発明の効果〕

このように、本発明によると、基板加熱による基板とマ
スクのずれがなくなり、高品質の薄膜パターンを連続成
膜できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の薄膜パターン連続成膜装置の概略構成
図、第２図は従来方式による成膜パターン平面図、第３
図は同じく断面図、第４図は本発明による成膜パターン
平面図、第５図は同じく断面図である。 １−拳拳・基板、２−・−・マスク、３・・・φ第１成
膜室、４・嗜壷・スプロケット、５・Φ・争加熱ヒータ
、６・−・・成膜源、７＠・・・中間室、８・―・・第
２成膜室、９・・・・成膜ツマターン。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 加熱状態で長尺基板にマスクによ如薄膜パターンを連続
   成膜する装置において、基板とマスクを同一材質とした
   ことを特徴とした薄膜パターン連続成膜装置。