JPS59230770A - 曲面型サ−マルヘツドの製造方法 - Google Patents

曲面型サ−マルヘツドの製造方法

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Publication number
JPS59230770A
JPS59230770A JP58105242A JP10524283A JPS59230770A JP S59230770 A JPS59230770 A JP S59230770A JP 58105242 A JP58105242 A JP 58105242A JP 10524283 A JP10524283 A JP 10524283A JP S59230770 A JPS59230770 A JP S59230770A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermal head
substrate
curved surface
mask
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58105242A
Other languages
English (en)
Inventor
Yukio Motoyoshi
本吉 幸雄
Katsuaki Saida
斉田 克明
Sadazumi Shiraishi
白石 貞純
Seiji Kuwabara
誠治 桑原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Priority to JP58105242A priority Critical patent/JPS59230770A/ja
Publication of JPS59230770A publication Critical patent/JPS59230770A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/335Structure of thermal heads

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は基板が曲面を有するサーマルヘッドの製造方法
に関するものである0 従来、サーマルヘッドにおいて基鈑が曲面を有している
ものには笛1図に示されるような構造のサーマルヘッド
が一部実用化されている。この種のサーマルヘッドはガ
ラスロッド1に発熱要素2、電極3を蒸着あるいはスパ
ッタ法で形成した後、ホトリソ技術によりパターン形成
し保護膜4を被ふくし、その後ワイヤボンド7により配
線基板5との接続を行っていた。しかしながら、該方法
におけるサーマルヘッドは発熱要素2が形成される基板
がガラスロッド1であるために熱設計上問題がある。つ
まりガラスロッド1での蓄熱が大きいため十分な熱応答
が得られず良好な印字品位を得ることはできない。特に
高速化が要求されるサーマルヘッドにおいては、実使用
が困難である。
また該サーマルヘッドは発熱要素2、電極3、保護膜4
で形成されるガラスロッド1と配線用基板5が分離され
ているため各々の接続方法が難しく信頼性、歩留りの点
でも大きな欠点となっている0 本発明は該サーマルヘッドのもつ欠点を除去するために
考えられたものであり、全く新しい製造方法により高品
質の曲面型サーマルヘッドを提供するものである。
以下、本発明について図面に基づき説明する。
第2図は本発明で製造されたサーマルヘッドの概略図で
ある。このサーマルヘッドに使用される基板8は熱伝導
性のよいアルミナセラミック基板であり、アルミナを鋳
込み成形あるいはグリーンシートの曲げ加工などで作ら
れたものであり、該基板1の表面にはスプレー法、印刷
法などで全面あるいは部分的にガラスグレーズ8′が設
けられている。ガラスグレーズは熱特性上100μm以
下の厚みでサーマルヘッドの要求される性能を満足する
範囲で厚みが決定される。発熱要素9からはドライバー
エ011へ引き出すための電極10が設けられている。
本発明において製造上鏝も重要なポイントは該サーマル
ヘッドに使用される曲面形状を有する絶縁性基板8への
パターン形成法にある。
本発明で実施されたパターン形成方法について詳細に説
明する。
従来、ホトリソ技術で使用されるマスクとしてクロムあ
るいはエマルジョンマスクがあるがいずれも精度よいパ
ターンを得るためには基板とハードコンタクトする必要
がありそのためにも基板とマスクが平滑なものでなけれ
ばならない。
本発明で使用されるような曲面基板を従来のパターン形
成方法と同様な方法でパターニングした場合第3図に示
されるように1 a部のパターン精度はよく得られるが
1 6.1−c、とマスク16と基板14との隙間が大
きくなるに従ってパターンボケが生じてくる。つまり従
来のホトリソ技術では、サーマルヘッドに要求される良
好なパターン精度を得ることは不可能である。
本発明では次のような製造方法をとることで良好なパタ
ーン形成を行うことができる。
第4図に示されるように曲面基板14にフレキシブルな
マスク15を密着巻き付けし、アライナ−の光源を回転
あるいは曲面基板14を回転することでパターニングを
行うことができるが、まず本発明を実施するために必要
なフレキシブルマスク製造のための具体的な工程につい
て説明する。
第5図に示されるようにガラス基板16上に蒸着法によ
りテフロンあるいはそれに類似する物質17を蒸着する
。該物質17をコートした基板上にスパッタあるいは蒸
着により□r、Ajiなどの金属膜18を形成する0こ
のように膜形成した基板16を第6図に示されるように
ガラスマスク13を使用し従来のホトリソ技術と同様の
工程を踏んでパターン形成を行う。テフロンあるいけそ
れに類似するコート剤の効果は金属膜との付着力を弱め
るため使用される0然る後、粘着剤20がコートされた
透明度の良いフレキシブルフィルム15を第7図のよう
に該基板16と共にラミネータのローラー22内を通過
させることによりフレキシブルフィルム15上に該パタ
ーンを転写することで第8図のようにフレキシブルマス
クラ製造することができる。ダミーフィルムはラミネー
トするときのフレキシブルフィルム15のよじれ、しわ
を防止するためのものであるがフィルムに限らず厚手の
紙を使用してもよい。
このようにして製造されたフレキシブルフィルムマスク
は適度の接着力を有しているため第4図のような曲面基
板に巻き付け、密着させることは容易であり、また露光
時の光の廻り込みも非常に少なくすることもできる。
本発明により製造されたフレキシブルマスクは30μ程
度のパターンまでは十分満足できる分解能を得ることが
可能である。
また本発明では従来のロンドタイプのサーマルヘッドの
ようにワイヤボンドによる配線基板との接続の必要も無
く製造上の歩留りを上げることが容易などの効果を有し
ている。
以上のように本発明で製造されたサーマルヘッドは第9
図に示されるようにカラーハードコピー用の熱転写ヘッ
ドとして効力を発揮するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のロンドタイプのサーマルヘッドの概略図
、第2図は本発明の曲面型サーマルヘッドの概略図、第
3図、第4図、第5図、第6図。 第7図、第8図はフレキシブルマスク製造のための説明
図、第9図は熱転写型サーマルヘッドへの本発明ヘッド
応用例概略図である。 1・・・ガラスロッド  2,9・・・発熱要素3.6
.10・・・電極 4・・・保護膜5・・・配線基板 
   7・・・ワイヤボンド8.14.26・・・曲面
基板 8′・・・グレーズ  11・・・工C12・・・ヒー
トシンク 13・・・ガラスマスク15・・・フレキシ
ブルマスク 16・・・ガラス基板  17・・・テフロン18・・
・金1141A     1q・・・レジスト20・・
・粘着剤 21・・・ダミーフィルム 23・・・プラテン   24・・・転写紙25・・・
インクシート 第1図    第3図 第2図     第4図 第5図     ε:36図 ( 第9図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)曲面を有す゛る絶縁性基板を具備したサーマルヘ
    ッドにおいて、フレキシブルマスクを用いてバターニン
    グしたことを特徴とする曲面型サーマルヘッドの製造方
    法0
  2. (2)  フレキシブルマスクは粘着剤がコートされて
    おり、金属パターンが転写法でつくられていることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の曲面型サーマルヘ
    ッドの製造方法。。
  3. (3)転写法でつくられるベース基板上には、テフロン
    あるいはそれに類似する接着性の不良な材料が被覆しで
    あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の曲面
    型サーマルヘッドの製造方法。
JP58105242A 1983-06-13 1983-06-13 曲面型サ−マルヘツドの製造方法 Pending JPS59230770A (ja)

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JP58105242A JPS59230770A (ja) 1983-06-13 1983-06-13 曲面型サ−マルヘツドの製造方法

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Family

ID=14402179

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013139093A (ja) * 2011-12-28 2013-07-18 Seiko Instruments Inc サーマルヘッドおよびプリンタ
CN110450553A (zh) * 2019-07-02 2019-11-15 福建联迪商用设备有限公司 一种打印控制方法、控制模块、机芯及终端

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS543531A (en) * 1977-06-10 1979-01-11 Toray Industries Image forming material
JPS5825971A (ja) * 1981-08-07 1983-02-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd サ−マルヘツド

Patent Citations (2)

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