JPS5975371A - 顕微鏡等による画像測定における走査位置の割り出し方法 - Google Patents

顕微鏡等による画像測定における走査位置の割り出し方法

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JPS5975371A
JPS5975371A JP57186331A JP18633182A JPS5975371A JP S5975371 A JPS5975371 A JP S5975371A JP 57186331 A JP57186331 A JP 57186331A JP 18633182 A JP18633182 A JP 18633182A JP S5975371 A JPS5975371 A JP S5975371A
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JP
Japan
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scanning
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microscope
wafer
scanning position
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JP57186331A
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Katsuyasu Aikawa
相川 勝保
Yoshifumi Umehara
梅原 喜文
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NIREKO KK
Sumitomo Electric Industries Ltd
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NIREKO KK
Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605Workpiece metrology
    • G03F7/70616Monitoring the printed patterns

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Character Discrimination (AREA)
  • Closed-Circuit Television Systems (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は顕微鏡画像測定等において、被検物体に関して
予め定められている走査位置を割シ出すための方法に関
する。
例えば、シリコン等の半導体の単結晶ウェーハに関して
は、品質検査の一環としてエッチピット密度を求める検
査が行われている。このような検査は全表面について連
続的に行うわけではなく、実際にはウェーハに関して予
め適当な検査位置を定めておき、これらの検査位置を走
査して顕微鏡画像測定全行い、この測定結果からエッチ
ピット密度を求めている。
このように被検物体を走査して測定(検査)を行う場合
、被検物体の形状、寸法に応じて走査範囲および位置を
適正に制御することが望ましい。
%に被検物体rc関して検査(測定)位置が予め定めら
扛ている場合には、被検物体における検査(測定)位置
を適確に割シ出すことが重要である。
しかしながら従来は、このような走査において被検物体
に関する適正な走査範凹および位置を被検物体自体から
簡単に割シ出す方法がなかった。
このために一般には、被検物体VC関する寸法をもとV
Cして人手によシ走査位置全決定し、これに応じて走査
するようにプログラムを組んで行われている。しかしこ
の方法でハ披検物体の形状によっては被検物体上に所定
の走査位置を適正に位置決めすることが困離となり、作
業内容が複雑面倒となる。また例えば多様々形状の被検
物体に対して同様な走査を行う場合、それぞ扛の寸法に
基いたプログラムを組む必要がある。倒れにしても被検
物体を走査のために所定位置にセットするために微調整
しなければ高精度の走査が行えない。このようなことか
ら自動化を実現するための新規な走査位置の割シ出し方
法が望まれていた。
本発明の目的は、複雑な形状の被検物体に関しても、予
め選定された走査すべき位置を被検物体を基にして適確
に且つ速やかに割り出し、もって多種多様な形状の役検
物体に対してオンラインで連続的に自動走査処理できる
ような走査位置の割シ出し方法を提供することである。
このためVC本発明に被検物体に関する走査を開始する
前に該?検物体の形状輪郭全認識し、この認識した形状
輪郭に基いて予め選定された走査位置の適確な割シ出し
を行うようVCシたをとをtトb徴とする。
以下に実施例につき図面全参照して説明する。
図示実施例は半導体ウェーハに関するエッチピット密度
の測定に本発明を適用した場合を示している。説明のた
めにこの測定においては、第1図に示す如き形状のウェ
ーハlの表面において、中心点であるPoAe基準にし
て全部で5箇所の点PO〜P’4’f測定位置として選
定した場合を想定する。
このような走査位置に関する走査パターンは例えばP1
→P2→P8→Po−+P6の順とされ、このように各
点を走査してそれぞれの位置で微I」\面積部分のエッ
チピラトラ測定するために、第2図に示す如く装置構成
が採用される。
第2図において、被検物体であるウェー/−114オー
トステージ2上に載置され、固定保持された顕微@3お
よび組合わされfc第1(DTV装置4でウェーハlの
微小面積部分を撮像し、との撮像信号を測定回路5に入
力させて撮像面積部分のエッチピットを測定するように
カっている。撮像信号yc基づくエッチピット密度の測
定に通常の方法で行われる。
との撮像において所定箇所す力わち点PO〜P5’(r
llli!次に顕微鏡3に正対させるために、オートス
テージ2が駆動制御装置6によって駆動制御されるよう
になっている。
ここで本発明の概念によシ、点P、−P、の位置を割シ
出すためyc第2図yc示す如くさらに舘2のTV装置
7が備えられている。この第2のTV装置7はウェーハ
lの全体としての形状全認識するための手段として備え
られたものであυ、この第2のTV装置7 rc対して
もオートステージ2を移動して顕微鏡3 VC対するの
と同様にウェー7・lを正対できるようになっている。
この正対の相互位IEt関係に予め設定されて確立され
ている。
との第2のTV装置7はその視野に基準座標系′ff設
定されており、ウェーハlK−含む画像におはる各点を
常VCその基準座標系にて位置表示できるようになされ
る。このために例えば第3図に示す如き直交せる整合縁
を有する整合手段8が使用さtL1オートステージ2上
に備えた整合手段81fC対してウェーハlを第3図に
示す如くセットし、第2のTV装置7 VCよって撮像
した場合に整合手段8の交点Oが基準座標系の原点とな
る“ように相対位置全設定することが好ましい。
このようVCシて掬2のTV装袋面でウェーハlを撮像
し、その形状を認識するのである。このためVC第2の
TV装置7の画像信号は形状認識回路9によ多処理され
る。この処理として例えば第4図に示す如く第2のTV
装袋面の画像を走査(a。
〜aいし、ウェーハ1の輪郭位置Ao * At # 
At’・・・・−An y AH’を求めることができ
る。勿論これ以外の適肖な方法も可能であり、何れの方
法も使用できる。ここでウェー/%lは、第2のTV装
置7の視界すなわち撮像画面に予め基準座標系が設定さ
れているので、その得られた輪郭位置に基準座標系の座
標として得られる。次Vにの座標による輪郭位置データ
ーを基にして、この例では中心点であるPo点の座標を
算出し、同様に点P1〜P4の座標位置を算出する。と
扛らの点PO〜P4は予め点Pok基準にして与えられ
ているので、点P。−’を原点とする座標系に変換した
座標位置データーとして求めることができる。このよう
な計算にコンピューター’h’s、ovcよって行わ扛
る。
コンピューターlOが被検物体に関して予め選定された
走査位置をもとに、実際のウェーハ1における輪郭デー
ターからその走査位置座標を算出した後、オートステー
ジ2が移動されてウェーハlに対する顕微鏡3および第
1のTV装置4による走査測定が行われる。この測定に
おいて、オートステージ2の駆動制御すなわち走査制御
はコンピューターlOがその算出した位置座標をもとに
して得た制御信号に基づいて行われる。すなわち。
コンピューター10によ)割シ出した各走査位置po 
% p4を順次Ilc顕微鏡3 VC正対させるように
制御するのである。
以上の実施例でに走査位t’t−5点としたが、この走
査位置の数にコンピューターを使用するために無制限で
あり、従来方法のように人手では不可能とされるような
膨大力数の測定位置を要求される場合でも、コンピュー
ターにより簡単且つ迅速に行え、省力化、簡便化が達成
できる。
このような本発明の特に被検物体の形状の認識をもとに
し、て行う走査位置の割シ出し方法によれば、被検物体
自体に基いて行われるので正確且つ速やかに位置の割シ
出しができ、しかも多種多様な形状の被検物体に対して
オンラインでの完全な自動走査処理1行える等の多大の
効果を得られるのである。
【図面の簡単な説明】
第1図に本発明の方法を適用した半導体ウェーハの走査
検査に使用されるウェーノーおよびその測定位fl ’
c示す一冥施例の平面図。 第2図に第1図のウェーハVC,関する本発明の方法を
笑施するための構成を示す概略図。 第3図にウェーハの位置決めを示す一例とせる平面図。 第4図はウェーハの外形認識を行う一笑施例とせる方法
を示す説明図。 l・・・・・・ウェーハ     6・・・・・・駆動
装置2・・・・・・オートステージ  8・・・・・・
整合装置3・・・・・・顕微鏡        9・・
・・・・形状認識装置4.7・・・TV装袋面    
   10  ・・・コンピューター5・・・・・・測
定回路     Po〜P4・・・走査位置特許出願人
   日本レギュレーター株式会社代理人 弁理士  
 小   野       栄第4図 昭和57年12月73日 特許庁長官 着杉和夫 殿 り事件の表示  特願昭57−186331、発明の名
称 顕微鏡環による画像測定における走査 位置の割シ出し方法 &補正をする者 事件との関係  特許出願人 を代理人〒177 住 所  東京都練馬区谷原5−8−14電話996−
1659代補正によシ増加する発明の数 &補正の内容

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 顕微鏡等による画像測定において、予め定められた走査
    位置を被検物体上に割シ出す方法であって、 先ず被検物体全体を画像測定してその外形すなわち輪郭
    を認識し、 前記段階によシ得た被検物体の輪郭の認識に基い置の割
    り出し方法、
JP57186331A 1982-10-23 1982-10-23 顕微鏡等による画像測定における走査位置の割り出し方法 Granted JPS5975371A (ja)

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JP57186331A JPS5975371A (ja) 1982-10-23 1982-10-23 顕微鏡等による画像測定における走査位置の割り出し方法

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JPS5975371A true JPS5975371A (ja) 1984-04-28
JPH0128991B2 JPH0128991B2 (ja) 1989-06-07

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ID=16186471

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6321844A (ja) * 1986-07-15 1988-01-29 Jeol Ltd コンタクトホ−ルの測定方法
JPS6321845A (ja) * 1986-07-15 1988-01-29 Jeol Ltd コンタクトホ−ルの測長方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6321844A (ja) * 1986-07-15 1988-01-29 Jeol Ltd コンタクトホ−ルの測定方法
JPS6321845A (ja) * 1986-07-15 1988-01-29 Jeol Ltd コンタクトホ−ルの測長方法

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