JPS5970683A - 1,3−ジオキソレン−2−オン誘導体 - Google Patents
1,3−ジオキソレン−2−オン誘導体Info
- Publication number
- JPS5970683A JPS5970683A JP57179434A JP17943482A JPS5970683A JP S5970683 A JPS5970683 A JP S5970683A JP 57179434 A JP57179434 A JP 57179434A JP 17943482 A JP17943482 A JP 17943482A JP S5970683 A JPS5970683 A JP S5970683A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- formula
- reaction
- salt
- amino acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規1.3−ジオキソレン−2−オン誘導体に
関する。
関する。
本発明者らは、一般式
〔式中、Xはハロゲン原子または水素原子を、Rは保時
基で置換されていてもよいアミノ酸残基(エステル結合
ンを示す。〕で表わされる1、3−シオキソレンー2−
オン誘導体を創製することに成功すると共に当該化合物
(1)が、たとえばペニシリン、セファロスポリン、そ
の他の薬物のプロドラッグの原料として有用であること
を見出して本発明を完成した。
基で置換されていてもよいアミノ酸残基(エステル結合
ンを示す。〕で表わされる1、3−シオキソレンー2−
オン誘導体を創製することに成功すると共に当該化合物
(1)が、たとえばペニシリン、セファロスポリン、そ
の他の薬物のプロドラッグの原料として有用であること
を見出して本発明を完成した。
即ち、本発明は化合物illを提供するものである。
一般式+1)に関してXにおけるハロゲン原子としては
、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子などが残挙され、特
に好ましいものは臭素原子である。
、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子などが残挙され、特
に好ましいものは臭素原子である。
合したものであり、そのアミノ基はアルキル基(好まし
くは、メチル、エチル、プロピル、1so−プロピル、
n−ブチルなどの炭素数1〜4の低級アルキル基)で置
換されていてもよく、また二個以上(好ましくは2個)
のアミノ酸がペブタイドを、形感しているものであって
もよい。かかるアミノ酸残基としては、たとえば次の様
なものが例示さオ′する。
くは、メチル、エチル、プロピル、1so−プロピル、
n−ブチルなどの炭素数1〜4の低級アルキル基)で置
換されていてもよく、また二個以上(好ましくは2個)
のアミノ酸がペブタイドを、形感しているものであって
もよい。かかるアミノ酸残基としては、たとえば次の様
なものが例示さオ′する。
中性アミノ酸残基:
脂肪族アミノ酸残基〔クリシル、アラニル、バリル、ロ
イシル、イソ0イシルなど〕、オキシアミノ酸残基〔セ
リル、スレオニルなど〕、含硫アミノ酸W基(システイ
ニル、シスチニル、メチオニルなど〕、アミドアミノ酸
性基〔アスパラギニル、グルタミニルなど〕、芳香族ア
ミノ酸残基〔フェニルアラニル、チロシル、トリプトフ
ィルなト〕酸性アミンへか残基: アスパラギニル、グルタミルなど 塩基性アミノ酸残基: ヒスチジル、リジル、アルギニルなど イミノ酸残基: プロリル、オキシプロリルなど α−アミノ酸以外のアミノ酸残基: β−)7ラニル、γ−アミノブチリルなどN−置換アミ
ノ酸: ザルコシル、N、N−ジメチルグリシルなどグリシルグ
リシルなど かかるアミノ酸残基のアミノ基は、保護基で置換されて
いる方かプロドラッグの原料として好ましい。アミン基
の保護基としては、自体既知のアミノ基の保護基、tこ
とえば2.2.2−トリクロルエトキシカルボニル基、
t−ブトキシカルボニル基(BOCり、クロルアセチル
基、トリチル基、2−エトキシカルボニル−1−メチル
ビニル基などがあげられる。
イシル、イソ0イシルなど〕、オキシアミノ酸残基〔セ
リル、スレオニルなど〕、含硫アミノ酸W基(システイ
ニル、シスチニル、メチオニルなど〕、アミドアミノ酸
性基〔アスパラギニル、グルタミニルなど〕、芳香族ア
ミノ酸残基〔フェニルアラニル、チロシル、トリプトフ
ィルなト〕酸性アミンへか残基: アスパラギニル、グルタミルなど 塩基性アミノ酸残基: ヒスチジル、リジル、アルギニルなど イミノ酸残基: プロリル、オキシプロリルなど α−アミノ酸以外のアミノ酸残基: β−)7ラニル、γ−アミノブチリルなどN−置換アミ
ノ酸: ザルコシル、N、N−ジメチルグリシルなどグリシルグ
リシルなど かかるアミノ酸残基のアミノ基は、保護基で置換されて
いる方かプロドラッグの原料として好ましい。アミン基
の保護基としては、自体既知のアミノ基の保護基、tこ
とえば2.2.2−トリクロルエトキシカルボニル基、
t−ブトキシカルボニル基(BOCり、クロルアセチル
基、トリチル基、2−エトキシカルボニル−1−メチル
ビニル基などがあげられる。
本発明化合物(1)は、たとえば次のtj3にして製造
さオ]る。
さオ]る。
(方法1)
一般式
(式中、Xは前記と同意義、Kはハロゲン原子を示す。
)で表わされる化合物と一般式
%式%)
(式中、1(は前記と同意@)で表わされる化合物とを
反応させることによって、一般式+1)においてXがハ
ロゲン原子である化合物〔以下、化合物(1−1)とい
う〕が得られる。
反応させることによって、一般式+1)においてXがハ
ロゲン原子である化合物〔以下、化合物(1−1)とい
う〕が得られる。
一般式fl)におけるX′のハロゲン原子としては塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、好ましいもの
は臭素原子である。
原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、好ましいもの
は臭素原子である。
化合物(IIl)は、好ましくはその塩、たとえばナト
リウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩、カルシウ
ム塩などのアルカリ土類金属塩、トリエチルアミン塩、
ピリジン塩などの有機アミン塩などとして本反応に供さ
れる。化合物fallを遊離カルボン酸として反応させ
る場合には、酢酸カリウム、トリエチルアミン、ピリジ
ン等の脱酸剤分加えることが好ましい。
リウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩、カルシウ
ム塩などのアルカリ土類金属塩、トリエチルアミン塩、
ピリジン塩などの有機アミン塩などとして本反応に供さ
れる。化合物fallを遊離カルボン酸として反応させ
る場合には、酢酸カリウム、トリエチルアミン、ピリジ
ン等の脱酸剤分加えることが好ましい。
本反応は、通常不活性溶媒中、具体的にはアヤト/、ジ
オキサン、アセトニトリル、クロロホルム、ベンゼン、
塩化メチレン、テトラヒドロフラノ、酢酸エチル、N、
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミドなどの有機溶媒、またはこわらの混合物中で行われ
る。本反応は好ましくは冷却下(−20°C〜0°C)
にて行われる。
オキサン、アセトニトリル、クロロホルム、ベンゼン、
塩化メチレン、テトラヒドロフラノ、酢酸エチル、N、
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミドなどの有機溶媒、またはこわらの混合物中で行われ
る。本反応は好ましくは冷却下(−20°C〜0°C)
にて行われる。
(方法2)
一般式
(式中、X′は前記と同意義)で表わされる化合物と化
合物+n++と反応させることによって、一般式fl)
においてXが水素原子である化合物〔以下、化合物(1
−2)という〕が得られ、この化合物(■−2)をさら
にハロゲン化することによって、化合物(1−1)が製
造される。
合物+n++と反応させることによって、一般式fl)
においてXが水素原子である化合物〔以下、化合物(1
−2)という〕が得られ、この化合物(■−2)をさら
にハロゲン化することによって、化合物(1−1)が製
造される。
化合物(Mと化合物1ll)との反応は方法1に準じて
行なえるが、反応温度は室温〜−20°Cで3)ること
が好ましい。
行なえるが、反応温度は室温〜−20°Cで3)ること
が好ましい。
化合m<l−2)のハロゲン化はN−ブロムコハク酸イ
ミド、N−フロムサ゛ツカリン等のN−ハロゲン化イミ
ドm、奥L フェニルトリメチルアンモニウムトリプロ
ミド等にて行うことが好ましい。当該反応にはベンゾイ
ルパーオキ勺イド、クロル過室、li!、査酸等の過酸
化物が反応促進剤として用いられる。当該反応は、通常
反応を阻害しない溶媒中、たとえば塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロルエタン等のハロゲン化
炭化水素類、エーテル、ベンセン、テトラヒドロフラン
等の俗媒、就中四塩化炭素中で行うことが好ましい。反
応で!+nl罷は通常0〜150″C1好ましくは室温
〜80℃である。
ミド、N−フロムサ゛ツカリン等のN−ハロゲン化イミ
ドm、奥L フェニルトリメチルアンモニウムトリプロ
ミド等にて行うことが好ましい。当該反応にはベンゾイ
ルパーオキ勺イド、クロル過室、li!、査酸等の過酸
化物が反応促進剤として用いられる。当該反応は、通常
反応を阻害しない溶媒中、たとえば塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロルエタン等のハロゲン化
炭化水素類、エーテル、ベンセン、テトラヒドロフラン
等の俗媒、就中四塩化炭素中で行うことが好ましい。反
応で!+nl罷は通常0〜150″C1好ましくは室温
〜80℃である。
上記の方法1及び2において、Rが保険基を有しないア
ミノ酸残基である化合物+1)は自体既知の方法にて保
護基を導入することによってRが保護基を有するアミノ
酸残基である化合物il+とすることができ、またRが
保護基を有するアミノ酸残基である場合には、自体既知
の手段にて脱保護基することによってRが保護基を有し
ないアミノ酸残基である化合物fi+を得ることが出来
る。
ミノ酸残基である化合物+1)は自体既知の方法にて保
護基を導入することによってRが保護基を有するアミノ
酸残基である化合物il+とすることができ、またRが
保護基を有するアミノ酸残基である場合には、自体既知
の手段にて脱保護基することによってRが保護基を有し
ないアミノ酸残基である化合物fi+を得ることが出来
る。
なお、化合物(間は、たとえば4.5−ジメチル−1,
3−ジオキソレン−2−4シをハロゲン化することによ
って製造される。
3−ジオキソレン−2−4シをハロゲン化することによ
って製造される。
本発明に係る化合物+1)は、医薬用途を有する神々化
合物のプロドラッグ原料として有用゛Cあり、たとえば
注射剤として投与されるペニシリン4・口、セファロス
ボリン類と反応させることによってこれらを経口投与可
能なものに要えることができる。
合物のプロドラッグ原料として有用゛Cあり、たとえば
注射剤として投与されるペニシリン4・口、セファロス
ボリン類と反応させることによってこれらを経口投与可
能なものに要えることができる。
たとえば、化合物+1+を式
)
で表わされる化合物又はその金也塩、特にアルカリ金属
塩(ナトリウム塩、カリウム塩など)と反応させること
によって式 (式中、Rは前記と同意@)で表わされる新親化合物が
得られる。この化合物■)は経口投与によって速やかに
血中へ吸収され、化合物関としてのすぐねた抗菌作用を
元押するものである。この化合物■)の経口投与に際し
ては、通常几が保護基を有しないアミノ酸残基である化
合物が使用される。
塩(ナトリウム塩、カリウム塩など)と反応させること
によって式 (式中、Rは前記と同意@)で表わされる新親化合物が
得られる。この化合物■)は経口投与によって速やかに
血中へ吸収され、化合物関としてのすぐねた抗菌作用を
元押するものである。この化合物■)の経口投与に際し
ては、通常几が保護基を有しないアミノ酸残基である化
合物が使用される。
従って1(が保護基を有するものである化合物+1+は
、常套手段にて脱保護基しておくことが好ましい。
、常套手段にて脱保護基しておくことが好ましい。
化合物(1)と化合物■)との反応に際しては、化合物
■)はその反応性誘導体(たとえば、ナトリウム塩、カ
リウム塩などのアルカリ金属塩、カルシウム塩などのア
ルカリ土類金属塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩な
ど)として反応に供することが好ましい。
■)はその反応性誘導体(たとえば、ナトリウム塩、カ
リウム塩などのアルカリ金属塩、カルシウム塩などのア
ルカリ土類金属塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩な
ど)として反応に供することが好ましい。
本反応は△2−異性体の副生を避けるため、冷却下に行
うことが好ましく、又当該反応は反応を阻害しないMl
(たとえばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチレントリアミドホスフェート、アセトン
、アセトニトリルなど)の存在下に容易に進行させるこ
とができる。
うことが好ましく、又当該反応は反応を阻害しないMl
(たとえばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチレントリアミドホスフェート、アセトン
、アセトニトリルなど)の存在下に容易に進行させるこ
とができる。
セファロスポリン誘導体M)は、塩酸塩、硫酸塩、リン
酸塩などの鉱酸塩、シュウ酸塩、フマル酸塩、マレイン
酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホシ酸塩、ト
ルエンスルホン酸塩などの有機酸塩とすることができる
。
酸塩などの鉱酸塩、シュウ酸塩、フマル酸塩、マレイン
酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホシ酸塩、ト
ルエンスルホン酸塩などの有機酸塩とすることができる
。
実施例1
0.51の4,5−ジブロムメチル−1,3−ジオキソ
レン−2−オンを2mlのジメチルアセタミドに溶解す
る。0°Cに冷却し、0.88yの1300−L−アラ
ニジ、0.2yの酢酸カリウムを5mlのジメチルアセ
タミドに溶解した液を滴下し、−10’〜0 ”Cで3
0分攪拌する。反応後、水を加え、酢酸エチルで抽出す
る。得られる酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去し、粗
生成物0.81を得る。生成物をシリカゲル上でベンゼ
ンと酢酸エチルの混合&(9:1)で浴出させながらク
ロマト分離し0.65gの4−ブロムメチル−5−BO
O−L−アラニルオキシメチル−1,3−ジオキソレン
−2−オンを油状物として得る。
レン−2−オンを2mlのジメチルアセタミドに溶解す
る。0°Cに冷却し、0.88yの1300−L−アラ
ニジ、0.2yの酢酸カリウムを5mlのジメチルアセ
タミドに溶解した液を滴下し、−10’〜0 ”Cで3
0分攪拌する。反応後、水を加え、酢酸エチルで抽出す
る。得られる酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧上溶媒を留去し、粗
生成物0.81を得る。生成物をシリカゲル上でベンゼ
ンと酢酸エチルの混合&(9:1)で浴出させながらク
ロマト分離し0.65gの4−ブロムメチル−5−BO
O−L−アラニルオキシメチル−1,3−ジオキソレン
−2−オンを油状物として得る。
NMR(coa13.δ値): 1..85(d、3几
J = 7 ](z。
J = 7 ](z。
4.25 (s、 2H,Br−0#2 )、 4.8
0 (m、 IJ−J。
0 (m、 IJ−J。
−C1,−T O−)
。
。
6H3)、 4.90 (s 、 2I(、−OH20
64.96 (d、 IFi’、 、T=71(Z、
−NU −)参考例1 四塩化炭素4miに、4.5−ジメチル−1,3−ジオ
キソレン−2−オン852即、N−ブロムコハク酸イミ
ド550wIy、過酸化ベンゾイル20〜を加え、4時
間還流し不沈物をp別後、溶媒を濃縮し0.4yの粗4
−ブロムメチルー5−メチル−1゜3−ジオキソレン−
2−オンを得る。
64.96 (d、 IFi’、 、T=71(Z、
−NU −)参考例1 四塩化炭素4miに、4.5−ジメチル−1,3−ジオ
キソレン−2−オン852即、N−ブロムコハク酸イミ
ド550wIy、過酸化ベンゾイル20〜を加え、4時
間還流し不沈物をp別後、溶媒を濃縮し0.4yの粗4
−ブロムメチルー5−メチル−1゜3−ジオキソレン−
2−オンを得る。
N M R(ODO13,δ値) : 2.1’6 (
S 、 8I(。
S 、 8I(。
−0H3)、4.22(s、2H,−OH「)実施例2
o、s8yのBOC−L−アラニン、0,21の酢酸カ
リウムを7mlのジメチルアセタミドに溶解する。室温
で参考例1で得た4−ブロムメチル、−5−メチル−1
,3−ジオキソレン−2−副ン0.39gを加え、同温
度で1.5時間反応する。反応後水を加え酢酸エチルで
抽出する。酢酸エチル層を飽和重曹水1次いで飽和食塩
水で洗浄後、無水什酔マグネシウムで乾燥する。減圧下
溶媒を留去し、0.6fの4−メチル−5−BOC−I
、−アラニルオキシメチル−1,3−ジオキソレン−2
−オンを油状物として得る。
リウムを7mlのジメチルアセタミドに溶解する。室温
で参考例1で得た4−ブロムメチル、−5−メチル−1
,3−ジオキソレン−2−副ン0.39gを加え、同温
度で1.5時間反応する。反応後水を加え酢酸エチルで
抽出する。酢酸エチル層を飽和重曹水1次いで飽和食塩
水で洗浄後、無水什酔マグネシウムで乾燥する。減圧下
溶媒を留去し、0.6fの4−メチル−5−BOC−I
、−アラニルオキシメチル−1,3−ジオキソレン−2
−オンを油状物として得る。
NM、R(ODO13,δ値): IJ 8 (d、
3H,J=6’klz。
3H,J=6’klz。
2、18 (s、 3■−]、、ジオキソレノOR3L
4.81 (xn。
4.81 (xn。
4.96 (d、 1)1. J=7Hz、 −NHO
O−)実施例3 o、syの実施例2で得た化合物、0.18 fのN−
プロムコハク酸イミド、触媒量の過酸化ベンゾイルに5
m/の四塩化炭素を加え、0.5時間還流する。反応後
、不俗物を炉別する6P液は減圧下、溶媒を留去し、粗
生成物0.8yfl−得る。生成物をシリカゲル上でベ
ンゼンと酢酸エチルの混合液(9:1)で溶出させなが
らクロマト分離し0.12gの実施例11.で得たと同
じ化合物を油状物として得る。
O−)実施例3 o、syの実施例2で得た化合物、0.18 fのN−
プロムコハク酸イミド、触媒量の過酸化ベンゾイルに5
m/の四塩化炭素を加え、0.5時間還流する。反応後
、不俗物を炉別する6P液は減圧下、溶媒を留去し、粗
生成物0.8yfl−得る。生成物をシリカゲル上でベ
ンゼンと酢酸エチルの混合液(9:1)で溶出させなが
らクロマト分離し0.12gの実施例11.で得たと同
じ化合物を油状物として得る。
実施例4
0.5yの実施例3で得た化合物をジオキサン10m1
に溶解する。室温で2N=塩化水素、イソプロパツール
酸fj 25 mlを加え1時間反応させる。反応後、
ジメチルエーテルを加え、析出する沈澱物を沖果し、ジ
メチルエーテルで洗浄後、乾燥して0.25gの4−ブ
ロモメチル−5−L−アラニルオキシメチル−1,3−
ジオキソレン−2−オン塩酸塩を得る。
に溶解する。室温で2N=塩化水素、イソプロパツール
酸fj 25 mlを加え1時間反応させる。反応後、
ジメチルエーテルを加え、析出する沈澱物を沖果し、ジ
メチルエーテルで洗浄後、乾燥して0.25gの4−ブ
ロモメチル−5−L−アラニルオキシメチル−1,3−
ジオキソレン−2−オン塩酸塩を得る。
NMR,((CD3)2So、δ値) : 1.41
Cd、 8H。
Cd、 8H。
4.91 (s、 2H,C!H20) 、8.71
(b r、 8L−NU3) 実施例5〜7 実施例1の方法に準じて次表に示した化合物(11を製
造する。
(b r、 8L−NU3) 実施例5〜7 実施例1の方法に準じて次表に示した化合物(11を製
造する。
(以下金白)
参考例2
(’5−L−アラニルオキシメチルー1,3−ジオキソ
レン−2−オン−4−イルメチル)7−[:D−マンデ
ルアミド)−8−((5−メチル−1゜3.4−チアジ
アゾール−2−イル)チオメチルクー3−ヤフエムー4
−カルボキシレート1psfa) 0.59の7−(
D−Vンデルアミド〕−3−〔(5−メチル−1,8,
4−チアジアゾール−2−イル)チオメチル)−8・−
セフェム−4−カルボン酸カリウム塩を5mlのジメチ
ルアセタミドに溶解する。−20・℃′に冷却し、0.
87flの4−ブロムメチル−5−BOC!−L−アラ
ニルオキシメチル−1,3−ジオキソレン−2−オンを
加え、−20°G〜−10°Cで30分反応させる。反
応浸水を加え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を飽
和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を減圧下、留去し、イソプロピ
ルエーテルを加えて固化、乾燥して、(5−BOO−L
−アラニルオキシメチル−1,3−ジオキソレン−2−
オン4−イルメチル) −7−(D−マンデルアミド)
−8−((5−メチル−1゜8.4−チアジアゾール2
−イル)チオメチルシー8−セフェム−4−カルボキシ
レート0.559を得る。
レン−2−オン−4−イルメチル)7−[:D−マンデ
ルアミド)−8−((5−メチル−1゜3.4−チアジ
アゾール−2−イル)チオメチルクー3−ヤフエムー4
−カルボキシレート1psfa) 0.59の7−(
D−Vンデルアミド〕−3−〔(5−メチル−1,8,
4−チアジアゾール−2−イル)チオメチル)−8・−
セフェム−4−カルボン酸カリウム塩を5mlのジメチ
ルアセタミドに溶解する。−20・℃′に冷却し、0.
87flの4−ブロムメチル−5−BOC!−L−アラ
ニルオキシメチル−1,3−ジオキソレン−2−オンを
加え、−20°G〜−10°Cで30分反応させる。反
応浸水を加え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を飽
和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を減圧下、留去し、イソプロピ
ルエーテルを加えて固化、乾燥して、(5−BOO−L
−アラニルオキシメチル−1,3−ジオキソレン−2−
オン4−イルメチル) −7−(D−マンデルアミド)
−8−((5−メチル−1゜8.4−チアジアゾール2
−イル)チオメチルシー8−セフェム−4−カルボキシ
レート0.559を得る。
NMR((CD3) 2So、δ値):1.41(s、
9)1゜0 (0H3) 3) 、1.48 (d
、8H5J−7Hz 。
9)1゜0 (0H3) 3) 、1.48 (d
、8H5J−7Hz 。
8.60 (b r、 2H,2位−H2)、 4.
0 B、 4.69(d、d。
0 B、 4.69(d、d。
2月、J=14Hz、8位−OH2S ) 、4.2
1 (m。
1 (m。
I H1C!HCH3) 、4.97 (d 、I H
lJ =5Hz 。
lJ =5Hz 。
6位−H)、 5.00〜5.45 (m、 7H,
−0日2×2゜J=9Hz、7位−H)、 7.86
(m、 5H,フェニル)。
−0日2×2゜J=9Hz、7位−H)、 7.86
(m、 5H,フェニル)。
9.42 (d、IH,J=9Hz、−CONH−)f
bl 0.5 yのfa)で得られた生成物を10*
/のジオキサンに溶解する。室温で2N−塩化水素イツ
ブロバノール溶液25m?を加え1時間反応する。
bl 0.5 yのfa)で得られた生成物を10*
/のジオキサンに溶解する。室温で2N−塩化水素イツ
ブロバノール溶液25m?を加え1時間反応する。
反応後、エーテルを加え、析出する沈でんを沖集し、エ
ーテルで洗浄後、乾燥して上記表題化合物o、apfI
−得る。
ーテルで洗浄後、乾燥して上記表題化合物o、apfI
−得る。
IR(nujol、ay−1): 1815.1780
,1750゜68O NMR((01)3)2S O,δ値) : 1.49
(d、 3E、 J=’lHz。
,1750゜68O NMR((01)3)2S O,δ値) : 1.49
(d、 3E、 J=’lHz。
8.60 (br、s、 2H,2位H2)、 4.0
2.4.70(d、d。
2.4.70(d、d。
2H,J=14Hz、8位−〇H2S )、4.20
(rn、IHl、Cμ二C!H3)、4.97 (d
、LH,J−=5Hz、 6位−H)。
(rn、IHl、Cμ二C!H3)、4.97 (d
、LH,J−=5Hz、 6位−H)。
5.72(dXd、 J=5)1z、 LH,J=9H
z、 7位−■)。
z、 7位−■)。
7.85 (m、 5H,フェニル)、8.70(b
r、8H。
r、8H。
Claims (1)
- (1)一般式 〔式中、Xはハロゲン原子又は水素原子を1(は保護基
で置換されていてもよいアミン酸残基(エステル結合)
を示す。〕で表ゎされる1、3−ジオキソレン−2−オ
ン誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57179434A JPS5970683A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | 1,3−ジオキソレン−2−オン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57179434A JPS5970683A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | 1,3−ジオキソレン−2−オン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5970683A true JPS5970683A (ja) | 1984-04-21 |
Family
ID=16065793
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57179434A Pending JPS5970683A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | 1,3−ジオキソレン−2−オン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5970683A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5114962A (en) * | 1987-09-16 | 1992-05-19 | Hoechst Aktiengesellschaft | New amino acid esters, a process for their preparation, medicaments containing them, and the use thereof |
-
1982
- 1982-10-12 JP JP57179434A patent/JPS5970683A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5114962A (en) * | 1987-09-16 | 1992-05-19 | Hoechst Aktiengesellschaft | New amino acid esters, a process for their preparation, medicaments containing them, and the use thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6388070B1 (en) | Thioester derivatives of thiazolyl acetic acid and their use in the preparation of cephalosporin compounds | |
KR890004132B1 (ko) | 크로모글릭산 유도체의 제조방법 | |
JP4856795B2 (ja) | セファロスポリン抗生物質の製造における新規な塩 | |
KR100671881B1 (ko) | 세팜 유도체로부터의 페남 유도체 제조방법 | |
JPS5970683A (ja) | 1,3−ジオキソレン−2−オン誘導体 | |
EP0095778A1 (en) | 2-Oxo-1-azetidinesulfonic acid derivatives, process for production thereof, and use thereof | |
WO2003059908A1 (en) | Novel thioester derivatives and process for preparation of cephalosporin | |
JP4178033B2 (ja) | 新規フェニルピペラジン | |
JP3207017B2 (ja) | ベンジルコハク酸誘導体の製造方法およびその製造中間体 | |
JP3207018B2 (ja) | ベンジルコハク酸誘導体の製造方法およびその製造中間体 | |
WO1998032736A1 (fr) | Procede de production de derives d'acide benzylsuccinique | |
US5948774A (en) | Cephem compounds, their production and use | |
JPH01242589A (ja) | セフエム化合物 | |
JPH05221947A (ja) | シクロプロパン誘導体の製法 | |
JP2002544276A (ja) | 縮合環イミダゾ含有化合物の製造方法 | |
JPS5989685A (ja) | エポキシカルバセフエム化合物 | |
JPS6051153A (ja) | マンデル酸誘導体 | |
NO860072L (no) | Fremgangsmaate for fremstilling av cefalosporinderivater. | |
JPH0948785A (ja) | セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 | |
JPS6043075B2 (ja) | 新規なセフアロスポリン類及びその製法 | |
JPS6121958B2 (ja) | ||
JPS59128391A (ja) | セフアロスポリン誘導体 | |
JPS58174386A (ja) | セフアロスポリン誘導体 | |
JPH0267268A (ja) | 4−メルカプトピラゾリジン誘導体 | |
JPS6227080B2 (ja) |