JPS5989685A - エポキシカルバセフエム化合物 - Google Patents
エポキシカルバセフエム化合物Info
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- JPS5989685A JPS5989685A JP57200034A JP20003482A JPS5989685A JP S5989685 A JPS5989685 A JP S5989685A JP 57200034 A JP57200034 A JP 57200034A JP 20003482 A JP20003482 A JP 20003482A JP S5989685 A JPS5989685 A JP S5989685A
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- JP
- Japan
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- compound
- substituted
- formula
- cis
- group
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式(1)
〔式中、Xはフタリミド基またはアジド基であり、Yは
水素原子またはメチル基であり、RはC1〜C5の直鎖
または分岐の低級アルキル基(〕・ロゲ/で置換されて
いてもよい)、置換シリル基、またはベンジル基、ベン
ズヒドリル基またはトリチル基(ただし、これらの基の
フェニル核はメチル基、メトキシ基筒たはニトロ基で置
換されていてもよい)である〕で表わされるエポキシカ
ルバセフェム化合物(以下、化合物CI)という。他の
式番号の化合物についても同様)に関する。
水素原子またはメチル基であり、RはC1〜C5の直鎖
または分岐の低級アルキル基(〕・ロゲ/で置換されて
いてもよい)、置換シリル基、またはベンジル基、ベン
ズヒドリル基またはトリチル基(ただし、これらの基の
フェニル核はメチル基、メトキシ基筒たはニトロ基で置
換されていてもよい)である〕で表わされるエポキシカ
ルバセフェム化合物(以下、化合物CI)という。他の
式番号の化合物についても同様)に関する。
カルバセフェム類はもとよりセファロスポリン類につい
てもエポキシ基を有する化合物は知られていない。化合
物CI)は後述のととく3−ヒドロキシカルバセフェム
化合物等を経て抗菌作用を有する化合物に変換できる有
用な中間体である。
てもエポキシ基を有する化合物は知られていない。化合
物CI)は後述のととく3−ヒドロキシカルバセフェム
化合物等を経て抗菌作用を有する化合物に変換できる有
用な中間体である。
一般式CI)中、Rについて「C□〜C5の直鎖または
分岐の低級アルキル基」としてはメチル、エチル、プロ
ピル、t−/ロピル、フチル。
分岐の低級アルキル基」としてはメチル、エチル、プロ
ピル、t−/ロピル、フチル。
i−ブチル+ 5ee−ブチル+ tert−ブチル、
n−ペンチル等があげられる。
n−ペンチル等があげられる。
Rについてハロゲンで置換した基としてはクロロメチル
、 2,2.2−トリクロロエチル、2,2.2−ト
リフルオロエチル等が例示され、ハロゲンとしては塩素
、フッ素、臭素が例示される。
、 2,2.2−トリクロロエチル、2,2.2−ト
リフルオロエチル等が例示され、ハロゲンとしては塩素
、フッ素、臭素が例示される。
置換シリルとしてはトリメチルシリル、1−ブチルジメ
チルシリル等が例示される。
チルシリル等が例示される。
化合物CI)は一般式〔■〕
CO,R
(式中、X、Y、Rは前記と同義である)で表わされる
、特開昭54−128591に記載されていZ公知の化
合物を出発化合物として、以下のプロセスIに従って合
成される。
、特開昭54−128591に記載されていZ公知の化
合物を出発化合物として、以下のプロセスIに従って合
成される。
(プロセスI)
(式中、X、Y、Rけ前記と同義であり、2はハロゲン
原子である) ハロヒドリン化ハオレフインのハロヒドリン化の一時的
手法に従って行うことができる。好ましくは、ハロヒド
リン化は含水溶媒中で化合物[1)とハロゲン化剤とを
一10〜50℃で反応させることにより行われる。
原子である) ハロヒドリン化ハオレフインのハロヒドリン化の一時的
手法に従って行うことができる。好ましくは、ハロヒド
リン化は含水溶媒中で化合物[1)とハロゲン化剤とを
一10〜50℃で反応させることにより行われる。
溶媒としてはジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトン、ジメチルス
ルホキシド、ジメチルホルムアミド等が使用できる。ハ
ロゲン化剤としてはN−ハロサクシミド、N−ハロアセ
タミド。
ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトン、ジメチルス
ルホキシド、ジメチルホルムアミド等が使用できる。ハ
ロゲン化剤としてはN−ハロサクシミド、N−ハロアセ
タミド。
第3ブチルハイポクロライド、第3プチルノ1イボブロ
マイド、ハロゲン等を化合物[n)に対して1〜1.5
当量用いる。
マイド、ハロゲン等を化合物[n)に対して1〜1.5
当量用いる。
エポキシ化は不活性溶媒中、化合物〔■〕を塩基で0〜
50℃で処理することにより行う。
50℃で処理することにより行う。
不活性溶媒としてはジクロルメタン、クロロホルム、ジ
メトキシエタン、テトラヒドロフラン。
メトキシエタン、テトラヒドロフラン。
ジオキサン、ジエチルエーテル、トルエン、ベンゼン、
酢酸エチル、ジメチルスルホキシド。
酢酸エチル、ジメチルスルホキシド。
ジメチルホルムアミド等を使用する。塩基としてはトリ
エチルアミン、ジエチルアミン、ピリジン、1.5−ジ
アザビシクロ[4,3,0:3ノネン51118−ジア
ザビシクロ[: 5.4.0 :]]ウンデセンーのよ
うな有機アミン類を化合物〔l)に対して1〜2当量用
いる。
エチルアミン、ジエチルアミン、ピリジン、1.5−ジ
アザビシクロ[4,3,0:3ノネン51118−ジア
ザビシクロ[: 5.4.0 :]]ウンデセンーのよ
うな有機アミン類を化合物〔l)に対して1〜2当量用
いる。
反応混合物中から化合物El)や化合物CI)の単離m
fAhペニシリン類、セファロスポリン類の合成におい
て通常用いられる手法、例えば ′抽出、力2ムクロマ
トグ2フィー、再結晶等により行うことができる。もつ
とも化合物〔璽〕を単離せずに反応を行うこともできる
。
fAhペニシリン類、セファロスポリン類の合成におい
て通常用いられる手法、例えば ′抽出、力2ムクロマ
トグ2フィー、再結晶等により行うことができる。もつ
とも化合物〔璽〕を単離せずに反応を行うこともできる
。
本発明により得られる化合物(I)は本発明(5)
者らにより開発された以下のプロセス■により、例えば
触媒として、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化アルミニウム、
臭化アルミニウム、四塩化チタン、臭化マグネシウム、
臭化リチウム、沃化リチウム、塩化リチウム、過塩素酸
リチウム、フッ化水素、トリーn−ブチルホスフィンオ
キサイド等を用いて、抗菌作用を有するセファロスポリ
/類縁体の母核である3−ハイドロキシ体CIV)や更
に3−メトキシ体(IVIに導くことができ、したがっ
て化合物[T]は有用な中間体である。プロセス■の詳
細な説明は参考例によって例示する。
触媒として、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化アルミニウム、
臭化アルミニウム、四塩化チタン、臭化マグネシウム、
臭化リチウム、沃化リチウム、塩化リチウム、過塩素酸
リチウム、フッ化水素、トリーn−ブチルホスフィンオ
キサイド等を用いて、抗菌作用を有するセファロスポリ
/類縁体の母核である3−ハイドロキシ体CIV)や更
に3−メトキシ体(IVIに導くことができ、したがっ
て化合物[T]は有用な中間体である。プロセス■の詳
細な説明は参考例によって例示する。
(プロセス■)
CI) [IV〕[Y]3位にヒドロキ
シ基やメトキシ基を有するカルバセフェム化合物につい
てはChem、Pharm、Bull、。
シ基やメトキシ基を有するカルバセフェム化合物につい
てはChem、Pharm、Bull、。
28(5) 1563(1980)に記載がある。
(6)
以上のようにして得られる化合物〔■〕のうち、C02
Rで示されるエステル基は、ペニシリン。
Rで示されるエステル基は、ペニシリン。
セファロスポリンの化学で頻用されている手法を用いて
、適当な条件、試剤を選ぶことにより分子中の置換基、
官能基を損わずにカルボキシル基に変換し得る。またX
で示される置換基がアジド基の場合は、好ましい手法と
して接触還元法、または硫化水系をトリエチルアミン、
ピリジン等の塩基の存在下で作用させる方法等により、
アミン基へ変換でき、またXで示される置換基がフタリ
ミド基の場合、特開昭57−91991に記載されてい
るヒドラジン化合物を用いる方法によりアミノ基に変換
できる。そのアミノ基に、ペニシリン、セファロスポリ
ンの化学の領域で常用される種々のアシル基を導入する
ことにより、有用な抗菌活性を有するセファロスポリン
類縁化合物を得ることができる。
、適当な条件、試剤を選ぶことにより分子中の置換基、
官能基を損わずにカルボキシル基に変換し得る。またX
で示される置換基がアジド基の場合は、好ましい手法と
して接触還元法、または硫化水系をトリエチルアミン、
ピリジン等の塩基の存在下で作用させる方法等により、
アミン基へ変換でき、またXで示される置換基がフタリ
ミド基の場合、特開昭57−91991に記載されてい
るヒドラジン化合物を用いる方法によりアミノ基に変換
できる。そのアミノ基に、ペニシリン、セファロスポリ
ンの化学の領域で常用される種々のアシル基を導入する
ことにより、有用な抗菌活性を有するセファロスポリン
類縁化合物を得ることができる。
本発明の実施態様を以下に例示する。
実施例1.(ト)−6,7−シス−ツーアジド−1−ア
ザビシクロ[4,2,03オクト−2,3−エポキシ−
8−オキソ−2−カルボン酸第三ブチルエステル: (ト)−6,7−シス−ツーアジド−1−アザビシクロ
[4,20]]オクトー2.3−1ポキシー8−オキソ
2−カルボン酸、第3ブチルエステルの製造法。(ト)
−シス−7−アジド−1−アザビシクロ[4,20]]
オクトー2−エンー8−オキソー2カルボン酸、第3ブ
チルエステル2v(7,58mmol)を、1,2−ジ
メトキシエタン2001、水100m1!の混合溶媒に
溶解し、水冷下撹拌しつつ、N−ブロモサクシイミド2
.02f(11,36mmol)を加え、1.5時間攪
拌をつづける。ここに酢酸エチル10011tl!を加
え、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後
、溶媒を留去する。得られた残渣に無水塩化メチレン2
0−3ヒ加え、このものにトリエチルアミン1.55m
を添加して、室温で一夜攪拌をつつける。溶媒を減圧下
留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトに付しく
シリカゲル802)、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:
1)により溶出される目的物を含有する両分を集め、減
圧濃縮すると850■(40,1%)の固化物を得る。
ザビシクロ[4,2,03オクト−2,3−エポキシ−
8−オキソ−2−カルボン酸第三ブチルエステル: (ト)−6,7−シス−ツーアジド−1−アザビシクロ
[4,20]]オクトー2.3−1ポキシー8−オキソ
2−カルボン酸、第3ブチルエステルの製造法。(ト)
−シス−7−アジド−1−アザビシクロ[4,20]]
オクトー2−エンー8−オキソー2カルボン酸、第3ブ
チルエステル2v(7,58mmol)を、1,2−ジ
メトキシエタン2001、水100m1!の混合溶媒に
溶解し、水冷下撹拌しつつ、N−ブロモサクシイミド2
.02f(11,36mmol)を加え、1.5時間攪
拌をつづける。ここに酢酸エチル10011tl!を加
え、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後
、溶媒を留去する。得られた残渣に無水塩化メチレン2
0−3ヒ加え、このものにトリエチルアミン1.55m
を添加して、室温で一夜攪拌をつつける。溶媒を減圧下
留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトに付しく
シリカゲル802)、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:
1)により溶出される目的物を含有する両分を集め、減
圧濃縮すると850■(40,1%)の固化物を得る。
このものの物性値は以下の通りである。
IR1,’ KBr(>−リ: 3460,2980?
2120117801aX 74O NMR(CDCl、 )δ: 4.89(IH,d、
J=4.88Hz)、 3.68(1)L br、s)
、 3.423.61(IH+ m)、1.68−2.
53(4H,m)、 1.51(9H,8)実施例2.
(ト)−6,7−シス−ツーアジド−1−アザビシクロ
[4,20]オクト−2−ハイドロキシ−3−ブロモー
8−オキソ−2−カルボン酸、第3ブチルエステルの製
造: (→−シスー7−アジドー1−アザビシクロ[4,20
]]オクトー2−エンー8−オキソー2カルボン酸、第
3ブチルエステル21F(7,58mmol)を1.2
−ジメトキシエタy200t&、水100dの混合溶媒
に溶解し、水冷下撹拌しつつ、N−(9) ブロモサクシイミド2.02 f (11,36m m
ol)を加え、1.5時間攪拌をつづける。次に酢酸エ
チル100−を加え、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去する。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトに付しくシリカ
ゲル50v)、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)に
より溶出される目的物を含有する画分を集め、減圧濃縮
すると1.7or(az、zqb)の油状物を得る。こ
のものは2種類の異性体からなっている。このものの物
性値は以下の通りである。
2120117801aX 74O NMR(CDCl、 )δ: 4.89(IH,d、
J=4.88Hz)、 3.68(1)L br、s)
、 3.423.61(IH+ m)、1.68−2.
53(4H,m)、 1.51(9H,8)実施例2.
(ト)−6,7−シス−ツーアジド−1−アザビシクロ
[4,20]オクト−2−ハイドロキシ−3−ブロモー
8−オキソ−2−カルボン酸、第3ブチルエステルの製
造: (→−シスー7−アジドー1−アザビシクロ[4,20
]]オクトー2−エンー8−オキソー2カルボン酸、第
3ブチルエステル21F(7,58mmol)を1.2
−ジメトキシエタy200t&、水100dの混合溶媒
に溶解し、水冷下撹拌しつつ、N−(9) ブロモサクシイミド2.02 f (11,36m m
ol)を加え、1.5時間攪拌をつづける。次に酢酸エ
チル100−を加え、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去する。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトに付しくシリカ
ゲル50v)、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)に
より溶出される目的物を含有する画分を集め、減圧濃縮
すると1.7or(az、zqb)の油状物を得る。こ
のものは2種類の異性体からなっている。このものの物
性値は以下の通りである。
〈低極性異性体〉
745
NMR(CDCl3)δ: 4.70(IH* br、
s)t 4.70(IH+d、 J=4.88H2)、
3.82−4.14 (2H,m )+ 2.37−
2.62(2Hl m)、 1.69−1.93(2H
,rn )。
s)t 4.70(IH+d、 J=4.88H2)、
3.82−4.14 (2H,m )+ 2.37−
2.62(2Hl m)、 1.69−1.93(2H
,rn )。
1.58(9H,s)
〈高極性異性体〉
745
lNMR(CDCl2)δ: 4.73(IH,br、
8)、 4.71(IH,dlJ=4.89Hz)、3
.92−4.14(2H,m)、1.742.53(4
H+ m)+ 1.58(9H9s)参考例1.(ト)
−シス−7−アジド−1−アザビシクロ[4,2,0)
オクト−2−工/−3−ハイドロキシ−8−オキソ−2
−カルボン酸、第3ブチルエステル: 実施例1で得られたエポキシ体s s o q(a、o
am mol )を無水ベンゼン20ゴに溶解し、塩化
亜鉛2001t9を加え、50℃に2時間激しく攪拌す
る。無機塩を炉別し、F液を減圧濃縮する。
8)、 4.71(IH,dlJ=4.89Hz)、3
.92−4.14(2H,m)、1.742.53(4
H+ m)+ 1.58(9H9s)参考例1.(ト)
−シス−7−アジド−1−アザビシクロ[4,2,0)
オクト−2−工/−3−ハイドロキシ−8−オキソ−2
−カルボン酸、第3ブチルエステル: 実施例1で得られたエポキシ体s s o q(a、o
am mol )を無水ベンゼン20ゴに溶解し、塩化
亜鉛2001t9を加え、50℃に2時間激しく攪拌す
る。無機塩を炉別し、F液を減圧濃縮する。
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトに付しくシリ
カゲル50f)、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)
により溶出される目的物を含有する両分を集め、減圧濃
縮すると1491v(17,5チ)の結晶を得る。
カゲル50f)、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)
により溶出される目的物を含有する両分を集め、減圧濃
縮すると1491v(17,5チ)の結晶を得る。
このものの物性値は以下の通りである。
IRl/)cHc13(crR−1) : 29B0.
2120.1775.1660ax NMR(CD(J3)δ: 11.50(IH,8)I
4.85(IH9d。
2120.1775.1660ax NMR(CD(J3)δ: 11.50(IH,8)I
4.85(IH9d。
J=4.88Hz )+ 3.62 3.82(11(
+ m)、2.44−2.59(2H1m)t 1.7
7−2.38(2HI m)11.55(9H,8) 参考例2.(ト)−シス−7−アジド−1−アザビシク
ロ(4,2,0)オクト−2−エン−3−メトキシ−8
−オキソ−2−カルボン酸、第3ブチルエステル: 実施例1で得られたエポキシ体850■(3,03mm
ol)を無水ベンゼン2011L/!に溶解し、塩化亜
鉛200■を加え、50℃に2時間激しく攪拌する。無
機塩を炉別し、適量のジアゾメタンエーテル溶液を加え
、室温で30分攪拌後、減圧濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトに付しくシリカゲル10f)、
n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)により溶出される
目的物を含有する両分を集め減圧濃縮すると100■(
11,2チ)の結晶を得る。
+ m)、2.44−2.59(2H1m)t 1.7
7−2.38(2HI m)11.55(9H,8) 参考例2.(ト)−シス−7−アジド−1−アザビシク
ロ(4,2,0)オクト−2−エン−3−メトキシ−8
−オキソ−2−カルボン酸、第3ブチルエステル: 実施例1で得られたエポキシ体850■(3,03mm
ol)を無水ベンゼン2011L/!に溶解し、塩化亜
鉛200■を加え、50℃に2時間激しく攪拌する。無
機塩を炉別し、適量のジアゾメタンエーテル溶液を加え
、室温で30分攪拌後、減圧濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトに付しくシリカゲル10f)、
n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)により溶出される
目的物を含有する両分を集め減圧濃縮すると100■(
11,2チ)の結晶を得る。
IR9CI(c’a@m−1) : 2980.212
0.1775.1715aX NMR(cryct3)δ: 4.87(IH,d、
J=4.89Hz)+ 3.76(3H,8)、 3.
42−3.96(IHI m)、 2.40−2.72
(2)I、 m)、 1.79−2.33(2H,m)
。
0.1775.1715aX NMR(cryct3)δ: 4.87(IH,d、
J=4.89Hz)+ 3.76(3H,8)、 3.
42−3.96(IHI m)、 2.40−2.72
(2)I、 m)、 1.79−2.33(2H,m)
。
1.53 (9H+ s )
参考例3.(ホ)−シス−7−アミノ−1−アザビシク
ロ[4,2,0)オクト−2−エン−3−メトキシ−8
−オ;計ソー2−カルボ/酸、第3ブチルエステル塩酸
塩: 参考例2で得られたメトキシ体19 s my (o、
a7m mol)を20dのエタノールに溶解し、IN
HCI 。
ロ[4,2,0)オクト−2−エン−3−メトキシ−8
−オ;計ソー2−カルボ/酸、第3ブチルエステル塩酸
塩: 参考例2で得られたメトキシ体19 s my (o、
a7m mol)を20dのエタノールに溶解し、IN
HCI 。
0.673d及び10%パラジウム−炭素触媒50ηを
加えて30分間接接触光を行なう。触媒を戸別し、p液
を減圧濃縮する。得られた残渣にエーテル10alを加
えてよく破砕すると目的物(13) 709(34,1チ)が固化物として得られる。
加えて30分間接接触光を行なう。触媒を戸別し、p液
を減圧濃縮する。得られた残渣にエーテル10alを加
えてよく破砕すると目的物(13) 709(34,1チ)が固化物として得られる。
IRl/)KBr(cm−”) : 36703300
−30702730+ax 1770、1715.1620 参考例4.(ホ)−シス−7−アミノ−1−アザビシク
ロ[4,2,0)オクト−2−エン−3−メトキシ−8
−オキソ−2−カルボン酸、トリフルオロ酢酸塩: 参考例3で得られたアミノ体70y(0,2sm mo
l )を塩化メチレン3耐に溶解し水冷下トリフルオロ
酢酸を0.2 sit加え、そのまま3時間攪拌をつづ
ける。反応液を減圧濃縮後、エーテル5dを加えて、よ
く破砕すると目的物30mg(40,2%)が固化物と
して得られる。
−30702730+ax 1770、1715.1620 参考例4.(ホ)−シス−7−アミノ−1−アザビシク
ロ[4,2,0)オクト−2−エン−3−メトキシ−8
−オキソ−2−カルボン酸、トリフルオロ酢酸塩: 参考例3で得られたアミノ体70y(0,2sm mo
l )を塩化メチレン3耐に溶解し水冷下トリフルオロ
酢酸を0.2 sit加え、そのまま3時間攪拌をつづ
ける。反応液を減圧濃縮後、エーテル5dを加えて、よ
く破砕すると目的物30mg(40,2%)が固化物と
して得られる。
IRp ”:”:rJc(cm−”) : 3700−
3200.3100−2800゜+77oj 162
0+ 1550脇(■5OD)δ: 3.80(3H
,s)、 3.64,4.02(IH。
3200.3100−2800゜+77oj 162
0+ 1550脇(■5OD)δ: 3.80(3H
,s)、 3.64,4.02(IH。
m)s 1.802.35(2H+ m)(14)
手続補正書
昭和58年 1月27日
特許庁長官 殿
1、事件の表示
昭和57年特許願第200034号
λ発明の名称
エポキシカルバセフェム化合物
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
郵便番号 100
住 所 東京都千代田区大手町−丁目6番1号名称
(102)協和醗酵工業株式会社(置:03−201−
7211内線2751)明細書の発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (2)3頁7〜8行の「りpロノチル、」のあとK「ク
ロロエチル、」を加入する。
(102)協和醗酵工業株式会社(置:03−201−
7211内線2751)明細書の発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (2)3頁7〜8行の「りpロノチル、」のあとK「ク
ロロエチル、」を加入する。
(3)4真下11行の「一時的」を「一般的」に訂正す
る。
る。
(4)5頁11行を次のごとく訂正する。
「−5さらに1,8−ジアザビシクロ[5,4,0:]
ウンデセ」 (5)8真下15〜12行の[(±)−6,7−シスー
ーーーの製造法。」を削除する。
ウンデセ」 (5)8真下15〜12行の[(±)−6,7−シスー
ーーーの製造法。」を削除する。
(6)9貴下9行の1実施例2.(±)−6,7−シス
−ツーアジド−1−」を次のごとく補充訂正する。
−ツーアジド−1−」を次のごとく補充訂正する。
[実施例2.(±)−6,7−シス−ツーアジド−1−
アザビシクロ[4,2,0]]オクトー2.3−エボキ
シー8−オキソ2−カルボン酸、第3ブチルエステル: (1)(±)−6,7−シス−ツーアジド−1−」(7
)11頁3行のあとに次の文を加入する。
アザビシクロ[4,2,0]]オクトー2.3−エボキ
シー8−オキソ2−カルボン酸、第3ブチルエステル: (1)(±)−6,7−シス−ツーアジド−1−」(7
)11頁3行のあとに次の文を加入する。
r(2) (±)−6,7−シス−ツーアジド−1−ア
ザビシクロ(4,10)オクト−2,3−エボキ(2) シー8−オキソ−2−カルボン酸、第3ブチルエステル
の製造: 上記(1)で得られた(±) −6,7−シス−ツーア
ジド−1−アザビシクロ(4,2,0)オクト−2−ハ
イドロキシ−3−プロモー8−オキソ−2−カルボン酸
、第3ブチルエステル1.7Fを無水塩化メチレン20
−に溶解する。
ザビシクロ(4,10)オクト−2,3−エボキ(2) シー8−オキソ−2−カルボン酸、第3ブチルエステル
の製造: 上記(1)で得られた(±) −6,7−シス−ツーア
ジド−1−アザビシクロ(4,2,0)オクト−2−ハ
イドロキシ−3−プロモー8−オキソ−2−カルボン酸
、第3ブチルエステル1.7Fを無水塩化メチレン20
−に溶解する。
このものにトリエチルアミン1.55−を加えて室温で
一夜攪拌を行なう。溶媒を減圧下留去した後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトに付しくシリカゲル80f)、
n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)によル溶出される
目的物を含有する両分を集め、減圧濃縮すると6801
51(51,4N)の固化物を得る。このものの物性値
は実施例1で得られた物と全く同一である。」 (3)
一夜攪拌を行なう。溶媒を減圧下留去した後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトに付しくシリカゲル80f)、
n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)によル溶出される
目的物を含有する両分を集め、減圧濃縮すると6801
51(51,4N)の固化物を得る。このものの物性値
は実施例1で得られた物と全く同一である。」 (3)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式CI) 〔式中、Xはフタリミド基またはアジド基であり、Yは
水素原子またはメチル基であり、RはC□〜C5の直鎖
または分岐の低級アルキル基(ハロゲンで置換されてい
てもよい)、置換シリル基、またはベンジル基、ベンズ
ヒドリル基またはトリチル基(ただし、これらの基のフ
ェニル核はメチル基、メトキシ基またはニトロ基で置換
されていてもよい)である〕で表わされるエポキシカル
バセフェム化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57200034A JPS5989685A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | エポキシカルバセフエム化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57200034A JPS5989685A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | エポキシカルバセフエム化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5989685A true JPS5989685A (ja) | 1984-05-23 |
JPH0227995B2 JPH0227995B2 (ja) | 1990-06-20 |
Family
ID=16417715
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57200034A Granted JPS5989685A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | エポキシカルバセフエム化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5989685A (ja) |
-
1982
- 1982-11-15 JP JP57200034A patent/JPS5989685A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0227995B2 (ja) | 1990-06-20 |
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