JPS596935A - 懸濁液濃縮装置 - Google Patents

懸濁液濃縮装置

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JPS596935A
JPS596935A JP58112600A JP11260083A JPS596935A JP S596935 A JPS596935 A JP S596935A JP 58112600 A JP58112600 A JP 58112600A JP 11260083 A JP11260083 A JP 11260083A JP S596935 A JPS596935 A JP S596935A
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filter
liquid
concentrated
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ヘンリクス・アレクシス・コルネリス・テイ−ゼン
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Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D9/00Crystallisation
    • B01D9/0004Crystallisation cooling by heat exchange
    • B01D9/0013Crystallisation cooling by heat exchange by indirect heat exchange
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D9/00Crystallisation
    • B01D9/0036Crystallisation on to a bed of product crystals; Seeding
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D9/00Crystallisation
    • B01D9/004Fractional crystallisation; Fractionating or rectifying columns
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D9/00Crystallisation
    • B01D9/004Fractional crystallisation; Fractionating or rectifying columns
    • B01D9/0045Washing of crystals, e.g. in wash columns

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Filtration Of Liquid (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
  • Centrifugal Separators (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は懸濁液を濃縮するだめの装置に関し、この装置
は壁により半径方向において囲まれている濃縮領域を含
み、この濃縮領域は中心線に鉛直で断面が一定であり、
そしてこの装置は濃縮領域の始めにおいて懸濁液供給の
だめの手段と、濃縮領域の端に近い1又はこれ以上のフ
ィルターと、フィルターを通過する液体を除去するため
の手段と、濃縮領域の端において濃縮懸濁液を除去する
だめの手段と、そして濃縮領域内に脈動流れの発生のだ
めの手段とを備えている。
更に、本発明は、直列に接続された1又はそれ以上の上
述の装置により結晶と溶解物との間の完全な分離を行な
うだめのカスケード(Cσ5cade)に関する。しか
しながら、結晶と母液との間の完全な分離は、もしも結
晶が最後の装置を去る前に逆洗工程を受けるときのみ得
ることができる。
上述の装置は米国特許第2.854.494号から公知
である。この特許明細書は、1つ又はこれ以上のフィル
ターを含むシリンダー状の壁の部分に沿ってこの懸濁液
を導くことにより、シリング−状の室内において結晶懸
濁液が濃縮される結晶洗浄コラム(crystal w
ash colmm )について記している。@濁液内
の液体の少くとも実質的な部分はこれ等のフィルターを
介して除去される。実質的に液体を除去した結晶、従っ
て濃縮された懸濁液はフィルターに沿って移動されそし
て液体の路と異なる路を経て除去される。この公知の装
置においては液体及び最初に処理されるべき!8濁液の
結晶は同じ方向に移動する。しかしながら、壁に取付け
られたフィルターにおいて、大部分の液体は横側に除去
され、一方結晶は同じ方向に移動をつづける。
この公知の装置の重大な欠点は、結晶床(cri−st
al bed )を通る洗浄液体の均一な流れが不可能
であることである。フィルターはフィルター〇伺近のコ
ラム壁にもっばら位置づけされているので、コラムの全
断面に亘り等しい軸線方向の流体の流はなく、実質的な
半径方向の液体の流れがフィルターの方に導かれる。こ
れはフィルターの付近に好脣しくない選択的な(pre
ferential )流れを生じ、これにより液体は
短い流路に沿ってフィルターの方へ流れず、長い流路に
沿って流れ、その1部は一同体材料の移動の方向で見て
一フィルターを超えて遠くへ位置づけすることができる
コラムの全断面に亘如結晶床からの均等な洗浄及び均一
な製品を得ることが錯覚(1llusory )となる
ことは言うまでもない。結晶床における液体の流れてい
る壁に取付けられたフィルターのこの妨害効果はコラム
直径が大きく々るに従って増加する。
公知の装置のpa 2の欠点は、フィルターの付近にお
いて、密に詰められた結晶床が形成されて、その−Hに
、詰められた床(packed bed )とコラムの
壁との間の摩擦が非常に大きくなることがあるという事
実によってその移動に対して大きな力が加えられなけれ
ばならないことである。濃縮された懸濁液に加えられる
この大きな力はかなりのエネルギー消費を必要とし、一
方更にこの大きな力の結果として結晶を変形又は破壊す
る危険がある。引用した米国特許による公知の装置では
、壁摩擦、及びその結果としての#縮された懸濁液に加
えられる力はコラム内における脈動する液体の流れを維
持することにより減少される。更に、コラムの内のりに
高い要求がなされる、即ち内部断面は詰められた結晶床
と壁との間の摩擦を受は入れ得る割合まで減少するため
コラム全体に亘り同じ大きさ及び形状を有l〜でいなけ
ればならない。
コラムの内部部分の狭隘は結晶床の半径方向における圧
縮となり、そ1〜でその結果、過度に大きい摩擦力の発
生となる。材料移動の方向においてコラムの内部断面を
一徐々に一広げることにより、結晶床に加えられるべき
力は減少することができる、その通りであるが、しかし
まだ壁と結晶床との間に益々強い流体の流れが生じ、床
自身を通る均一な流体の流れは乱される。
詰まった結晶床と壁との間の摩擦に関連した−に述の欠
点以外に、引用した米国特許による公知のコラムは更に
重大に欠点を有している。
本発明の目的は、装置が上述の欠点を有していない、又
は実質的に僅かである懸濁液濃縮のための装置を提供す
ることである。
本発明はコラム内における結晶床内の流体の流れはフィ
ルターがコラム壁に取付けられない、又は少くともこれ
に限らない、とき実質的に乱がより少く、シかもコラム
の全断面に亘り均一に分布されるという識見に基づいて
いる。しかしながら、このようなフィルターの配列は減
少する断面の場合に濃縮された結晶床が移動(tran
sfer )できないように、濃縮領域の断面の形状及
び大きさがコラムの全長に亘り一定であり、−力増加す
る断面の場きにチャネルの形成が壁に沿って生じるよう
にしなければならない。
従って、本発明の目的は上述の如き装置によって達成さ
れ、本発明によるこの装置は、一定の外径の1又はこれ
以−ヒの管が濃縮領域を介して軸線方向に濃縮領域の始
めから延びており、そして各管の壁に少くとも1つのフ
ィルターが取付けられていて管の内部と濃縮領域との間
の唯一の直接連結部を形成していることを特徴としてい
る。
この手段により、勿論、濃縮領域の慎重な測定と組合せ
て、一方において、領域の全断面に亘シ液体の均一な除
去が得られ、そして他方において、また脈動流を加える
ことにより、詰まった結晶床と、濃縮領域の壁と、管表
面との間の受は入れられる摩擦が得られる。
本発明による装置の好ましい実施態様において、濃縮領
域は円形断面を有しており、管はこの断面の僅か小部分
をカバーしているこの断面に亘り均等に分布されている
好ましくは、各りの管において、管の外径の倍数に等し
い長さを有する壁の部分はフィルターとして完成されて
いる。
フィルターは管壁のみならず濃縮領域の壁に取付けるこ
とができる。好ましくはすべてのフィルターは濃縮領域
の端から等距離にある。
脈動流は多くの方法で発生ずることができる;即ち、好
ましい実施態様ではフィルターを通過する液体の除去割
合はこの除去の周期的閉鎖を含めて、周期的に変化され
る。脈動装置は一般に前後に移動するピストンと、装置
の他の部分における膨張室とを含んでいる。
極端に大きな力は本発明による装置における結晶床に加
えられる必要がないので、結晶床は(りら通過する液体
の圧力により移動される。これは床における結晶の変形
及び破壊を妨げる。結晶床の濃縮はフィルターの方向に
増加し、そしてこの結果また床の軸線方向に液体により
加えられる圧力を増加する。この圧力に反対の力、主と
して摩擦よりも大きくなければならない。結晶床上の力
は懸濁液の入口と、フィルターを通シ除かれる液体との
間の床上の液体の圧力降下によシ測定される。
この圧力降下は床の長さを延長することにより、又&[
体の流量を増加することにより増加することができる。
もしも濃縮すべき懸濁液が結晶床上の流体を介して所望
の圧力を生ずるには少なすぎる液体を含んでいれば、フ
ィルターを通過する液体の1部分は再循環することがで
き、その結果として床上の圧力が増加する。実際に、こ
れは濃縮領域の初めにおいて濃縮すべき懸濁液の粒子密
度の減少と同じである。
フィルターに沿って移動する濃縮された懸濁液tよ例え
ばスフレバーにより除去することができる。
共働の液体によりこの装置内で処理された本発明による
装置内で濃縮された懸濁液は、それから他の液体と反対
の流れで洗浄領域において処理することができる。この
洗浄領域は上記の本発明による装置のユニットを形成し
、且つ濃縮領域のフィルターと濃縮された懸濁液の除去
のだめの手段との間に取付けることができる。洗浄領域
において、濃縮された懸濁液はそれが濃縮領域内で移動
されると同じ方向に移動され、一方洗浄領域の端におい
て、濃縮領域を避けて、濃縮された懸濁液を介して向流
に移動する洗浄液が供給される。洗浄され、濃縮された
懸濁液は好才しくけ、リンシング室(rinsing 
chamber ) ヘ送られ、ここで濃縮され、且つ
洗浄された固形粒子は同時に洗浄液として使用される液
相内に再び懸濁される。濃縮領域における脈動流は供給
すべき洗浄液の流量を周期的に変化することにより発生
することができる。本発明による装置が結晶生成により
混合物質の分離のために使用されるとき、結晶装置(c
ristallizer )は−結晶が移動する方向で
見て一濃縮領域の前に泣声づけされ、この結晶装置内で
、標準状態において液体である分離すべき混合物は冷却
により部分的に結晶化され、このようにして濃縮領域へ
供給される結晶懸濁液を形成する。もしも分離すべき物
質の混合物が標準状態で固体であれば、結晶懸濁液はこ
の混合物を部分的に溶解することにより調製することが
できる。更に、1つの装置を一結晶の運動方向で見て一
洗浄領域の後に取付けることができ、この装置において
洗浄領域から除去された結晶、又は結晶懸濁液が溶解さ
れ、そして溶解物の1部は洗浄液として洗浄領域へ再循
環される。
本装置は洗浄液の制御された量のだめの手段を備えてい
る。制御信号は洗浄領域、又はリンシング室内の温度、
濃度等を測定することにより得られる。洗浄液の量はリ
ンシング室における洗浄液の圧力を調整することにより
制御することができる。
もしも結晶生成が溶解物から生ずれば、その結果として
所謂洗浄フロント(Wαshing 1ront )が
洗浄領域内に、即ち温度及び濃度勾配が最大である場所
に生ずる。洗浄液の供給は打線しくはこの洗浄フロント
が洗浄領域においてフィルター及び濃縮懸濁液の除去の
だめの装置のほは中途に置かれるように制御される。
洗浄フロントがフィルタの付近又はそζに4かれると、
これ等は結晶成長により社塞されることがある。
溶剤からの結晶生成の場合には、これにより結晶は固体
製品として分離され、溶剤における純生産物(pure
 product )の砲和溶液が洗浄液として使用で
きる。従って洗浄液の僅かな流用が全洗浄領域を通り流
れ、そしてフィルターを介しで除去されるように洗浄液
の供給を調整するのが有利である。
溶剤からの結晶生成の場合には、この装置は好ましくは
遠心分離又は謔過のための予備段階と[7て使用するこ
とができる。遠心分離又は′濾過の前に本発明による装
置を接続することにより、母液の完全な分離が得られ、
一方法浄液の最少量が使用される。本発明による装置は
特に砂糖の結晶及び食卓塩の如き無機塩を洗浄するのに
有利に適用できる。
結晶は洗浄領域を介して詰った床(pa、ckedbe
d )の形で移動することができる。フィルター管は洗
浄領域を通り除去装置へ延びるが、さもなくば管と一直
線にチャネルが詰まった床内に形成できるようにするこ
とが推奨される。
他の司能性は詰まった床を牛じないように濃縮懸濁液及
び洗浄液を半径方向に混合することである。攪拌はロー
タと軸とを含む攪拌装置により行うことができ、その軸
は洗浄領域の中心線と同軸線にあり、そのロータは半径
方向外方に突出するロータピンを備えてたその長さ部分
を少くとも越えており、一方洗浄領域は半径方向内方へ
突出しているステータピンを備えだシリンダー状ジャケ
ットにより囲まれている。
更に、洗浄領域及び洗浄がその中で行なわれる道の構成
に対しては、本出願人の名で、本出願と同日付で出願さ
れた第2の特許出願を参照されたい、この第2の出願は
向流の液体により懸濁した粒子を処理するだめの方法及
び装置に関する。
溶解物からの結晶生成の場合、及びひどく汚染された母
液が使用される場合、結晶と母液との所望の完全な分離
は詰まった結晶床を有する本発明による装置のみによっ
て実現することはできない。
このような母液の結晶生成温度は分離すべき純粋な主な
組成物の結晶生成温度よりも低い50℃乃至70℃であ
るととができる。これはこのような環境の下でコラム内
の結晶は50℃乃至70°Cまで加熱できることを意味
している。これは、このために必要な熱が洗浄液から引
出されれば、そのときのみ可能である。これにより洗浄
液の1部に結晶を生成し、これが詰甘った床の気孔性の
減少となる。この気孔率の減少は詰まった床の全体又は
少くとも実質的な閉塞を生ずる程強力ではない。殆んど
の物質の比熱は融解熱の約1%であるから最大許容温度
差は、結晶の詰まった床に屡々生ずる約04乃至0.5
の床の気孔率において約20°C乃至40°Cである。
洗浄液の流量を生せしめるため必要な洗浄圧力は床の気
孔率が減少すると増加する。これにより大きな駆動力が
溶解回路のカへ洗浄圧力に抗L2て強制的に結晶を移動
するため必要である。その場合に、結晶の移動は比較的
多くのエネルギーを消費し、そして水圧力は結晶の移動
の所望の能力を実現するには小さすぎる。
供給された結晶と純製品との間に大きな温度差があれば
、結晶と母液との間の完全な分離は、にも拘わらJ″、
本発明による2又はこす1以上の装置がカスケードを形
成するため連結されれば実現できる。しばしば2つの装
置は1共給された懸濁液と純物質との間の温度差を橋渡
し7するために充分である。従つ又下記の観察は簡単化
のだめ本発明による2つの装置のカスク′−ドに限定さ
れている。
処理すべき結晶懸濁液は第1の装置へ供給され、そして
σ麺線される。濃縮された結晶マス(crista1m
aS8)は再びgr’+ 2の装部からの四散によりリ
ンシング室に懸濁され、そして希釈された)け濁液とし
て第2の装置へ移される。
処理条件C1、各々の装置において固定洗浄フ17ント
が生じるようにセットすることができる。6T、: 2
の装置では結晶の純溶解物は再び洗浄液として使用され
る。第1の装置では、洗浄液は第2の装僅かもの母液で
ある。
第1の装置における納品温度を増加するため必要な熱は
洗浄液として作用する第2の装置からの母i夜から引出
されこ扛によυ母液は部分的に結晶を生成する。
母液が洗浄液として作用する鱈2の装置からの母液の部
分的な結晶生成によυ、不純物の濃度は増加し、そして
これによシ対応する平衡温度は下降する。
純結晶の溶解物のT1]御された量が、余分の結晶成長
により生じた濃度変化を元にもどすため(undo )
 g 1の装置のリンシング室へ供給される。平衡温度
は液体の組成に対するよい基準であるから、リンシング
室への溶解物の添刀旧dリンシング室における温度測定
に基づいて制御される。
好貫しくは、不発明による2つの装置のカスケードは第
2の装置の母゛液取出しと筑1の装置のリンシング室の
入口との間のバイブラインのスルーy、 (5luic
e )のための手段を備えている。スル第1の装置に固
定洗浄フロントの発生も々くこのようなカスケードで可
能である。
スルースが使用されるとき、製綿された結晶マスと一緒
に母液の小量が第1の装置においてリンシング室の方へ
移動される。第1の装置を通り結晶の通過中、結晶は初
期の組成を有している母液と接触を保っている。従って
結晶の一定温度において母液の実質的な部分を分離する
ことが可能である。必要な熱はリンシング室において液
相から引出される。余分の結晶生成は希釈された懸濁液
内で行なわれる。このようにして任意の温度差は、結晶
床の閉鎖及び社塞が生じないので橋渡しすることができ
る。
スルース(5luice )を通シ除去される液体は結
晶床へ再循環される。排出される。B11−1:第1の
装置における結晶と一緒に運ばれることを許容される母
液の量により決定されるが、しかしまた母液とリンシン
グ室内の液体との間の濃度の差により決定されるが、し
かしまた母液とリンシング室内の液体(これは第2の装
置の母液である)との間の濃度差により決定される。不
純物の濃度がリンシング室1でおいてより高いとき、運
ばれる母液(dより少く希釈され、そして小量が排出さ
れ、これがスライスによるより小さい損失ファクタとな
る。
\1、 純製品の伐りに、結晶化すべき原材料4余分な結晶成長
によ妙生ずる濃度変化を元にもどすため、しばしば第1
の装置のリンシング堅へ供給することができる。第1の
装置のリンシング室への供給の追加は第1の装置により
、移動される結晶の冷い内容物が原材料の部分的結晶生
成のため使用されるとき熱回復(heat  recu
peration)の利点を有してめる。
・メ1面を参照して不発明を説明する。
でおり、且つ各々カ;管の直径の@数である長さに亘り
フィルター3を備えた1又はそれ以北の管2を有してh
る。、看ニコラム(c o Lumn )内の固定され
た位置に取付けられて計り、1つその内部断面に亘り均
弄に分布はれている。電の断面はシリンダーの断面の表
面の1虱へ分のみをカバーしてている。−有端において
装置は曇−4(鏝縮懸濁液の除去のための手段、即ち@
勅装置22を有する回転可汗なナイフ14を備えており
、他方端においてライン5は@濁液の供給のため利用可
能であり、そのライン5は、混合チャンバ15内で終っ
ており、それから→濁液はシリンダー内に運ばれ、その
断面に暖り均等に分布される。濾過された液体はライン
6及びボンデ7を介して除去される。
フィルターは・棒濁液とフィルターとの間の距離が懸濁
液出口とフィルターとの間の3乃至4倍であるように配
置されている。
フィルター3における壁摩擦はシリンダー8円のピスト
ンにより液体の除去ラインに脈動する液体の流れを生ず
ることにより減少することができる。
濃縮されるべき@濁iは僅き取り冷却器(5crape
d  cooler )を有する結晶槽内で内の所望の
混合は攪拌器11によって得られる。
結晶すべき混合液はライン12を介して供給される;即
ち母tl 8−1:制脚弁13を介して除去されるがそ
して/又は状況によってポンプ71てより再循環されろ
う 第2図は第1図の装置に攪拌される洗滌領域を組合せた
図である。
参照番号lは実質的に第1図による≠1を示している。
対応する構成要素部分は第1図と同一の参照番号で示さ
れてめる。
フィルター3と結晶除去装置3oとの一絹で挿拌装置首
が濃縮された結晶逓啼液を切線方向に攪拌するため収付
けら几てbる。この悦拌装蓋灯壁に固定された固定子ピ
ン25と組合されてhる回転子−ン23を有している回
転可能な軸23を含む。
回転可能な軸23は出来る限り4縮された結晶懸濁糎の
移動を妨げないため中央のフィルター管31と直曲ライ
ンにある。
それから結晶懸濁液は駆動器22を有する回転可能なナ
イフ14を経てリンシング室(rins−ing  c
hamber )27、鴻父換器28及びポンプ29を
含む溶解回路へ−1−Jされる。結晶の実質的な部分は
市1」師も5材32を通り製品として除去される。溶解
した納品の他の部分は洗滌液として洗しかし乍ら、切線
方向のづ寛拌を用いることにより、結晶が相互に対して
遊離しており、且つ洗棟圧力が増加しないように提供す
ることができる。攪拌器20の駆動装置と回転可能な軸
23との間に動力計21を収付けることに工す潅拌器に
訓えられるトルクを測定することができ、そしてこれに
基づいて洗滌領域・乞おける4晶マス(cristaL
massl内の固形物の容積部分を制御することができ
る。
壁摩擦は結晶除去するときピストン33により生ずる脈
動する液体の流れにより減少される。
第3図は直列(で接続された本発明による2つの装置の
線図である。双方の装置は詰まった結晶禾(packe
d  cristal  bed lを有する洗滌領域
を含んでいる。懸蜀液が供給されるmlの装置において
、対応する部分は第1図及び第2図に使用された参照番
号と同じ参照番号で示されているが、lOOだけ増加さ
れている。黒2の装置においては第1図及び第2図の参
照番号は200だけ増加てれている。各装7首のフィル
ター管の数はコラムの断面の1平方米当り10−100
である。
結晶@=i (crystal l 1zer )から
の債晶幌、濁液はライン141を経て、且つポンプ14
0により101へ供給される。ライン142を梯で母液
は結晶装樅へ再循環され、そして必要があれば廃液(υ
+astflowlとして部分的に排出される。
101において得られた4縮された結晶マス(cris
tal  mass Nd:回転可能なナイフ114を
経てリンソング室127へ移動され、そしてライン24
2を介してリンソング室127へ供給すれる第2の装置
201からの母液により懸濁(5uspend l さ
れる6 101からの結晶はこの母液内に@濁され、そ
してポンプ240によって第2の装置へ供給される。、
第2の装置において、懸濁液は再び濃縮され、結晶はナ
イフ214に工ってリンソング室227へ移動され、そ
の後これ等は懸ン蜀され、熱父侠器により溶解式れ、そ
して溶解した製品として制御卸手段232により実質的
[除去される。結晶と母液との、南の完全な分離(ケ温
+fセンサ231Cより固足抗燦フロント(5tati
oq、ary washing  front )を確
立、することにより行なわれる。
この装置101では固定洗滌フロントI/′i詰めらら
た床(pαeked  bed )円に生じ乏い力へ最
小量の母液が結晶マ/((criataL  mass
)と−緒に除去されるように仕切弁の如き制−升148
によりセットされる(流量計147によりiみ取られて
)。このようにして、結晶は元の母液と接触を保ち、そ
して丁度ナイフの下方のみにおいて結晶の制御された温
度上昇がある。リンソング室127においで、結晶は低
い不純物濃(、その結果として高い平衡温度を有する2
01からの母液と共に懸濁されている。このようにして
、納品温度は増加する。このために必要な熱は液相から
引き出され、これによって液相は部分的にぜ晶する。
純結晶体溶−物の供給は制御手段146及び温度センサ
145により母液の温度、従ってリンソング室内の不純
物の積度をある所望の値にセットする。
装置201の液体圧力レベルは装置101の液体圧力レ
ベルと相べ的に必要に応じて絞り弁249によって増加
することができる。圧力センサ250により絞り升24
9を調整することにより、リンソング室127における
生じる可能性のある洗滌圧力変化が装置201内の液体
圧力レベルに影響を与えない工うに保証される。
結晶と一緒に装置101内においてリンソング室127
へ排出される母液は設定値が得られるまで146を2俤
で供給される溶4物により希釈さ几る。排出さnた材料
(は結晶化カスケード(cristaLization
  cascade )に2ける適切な場所へ除去され
る。
結晶と一緒に装置101においてリンソング室127へ
除去される母液を出来る脹シ少〈希釈するため、装置1
01と102との間を傭環する母液の不到物パーセ/ト
は装置201の良好な機能とも両立できるような程度に
8ばれるのが好ましい。
結晶移gb (cristal  transfer 
)において生ずる可能性のある変動は、結晶フロントの
位置、即ち希釈された懸濁液からコン・ぞクトベッド(
compαctbgdlまでの転移の位置が固定される
ように母液の部分的な再循環に基づいて結晶床を介して
液体の流れを制御することにより補償される。装:tl
Ol及び102内の同じ位置に結晶フロント(crya
taL  front )を保ツコとFi@濁液とベッ
ドとポンプt44及び244c/)掃流力(dragg
ing  9orctt )の−の差金測定するための
センサ143及び243Vcより実現される。
このようにして、本発明による2又はそれ以上の装置の
カスケードを用いて供給された結晶と純@解液と接触し
ている結晶との・5のいかなる生じた7益度差も橋渡し
く bridgtt lでさることは明らかである。
第4図、1直列に接続された本発明による2つのる構成
4素の優品は第3図におけると同じ参照番号により示さ
れている。、第3図の線図とただ異なる点d純姻晶の溶
解物の代りに結晶化すべき原材料がポンプ149[工り
リンシング室127へ供給され、そしてその流出(5l
uice )はリンシング室内の′tA度測定を為礎に
して制御される。
101により1多動される結晶温度を増加するために必
要な熱・1、こ几により部分的に結晶化さ几る供給され
た原材料から引出される。
原材料がリンシング呈内で既に部分的に結晶化できれば
、結晶装)fil (crystelLizer )に
お込てより僅かな喘が引き出されなければならな力。
従って結晶装置内の熱交換面はより少くすることができ
る。その結果第1の装置のリンシング室への原材料の供
給はエネルギー節約となるのみならず投資費用の減少と
なる。
101と102との間を循環する母液の組成は、全供給
量がリンシング室117へ1#給できるとしても不純物
・ぐ−セントが原材料の単位よりもb〈らか低い単位と
なるように・艦択することができる。
実施例 ! パラキシレンの洗浄:i、a1図の線図に実質的に対応
してhる分離装置において行なわれた。
結晶装置は長さ600m、直径500m+乞有する槽内
に位置づけされた長さ500m、直径300露を有する
間車な外方で掻きとられ、且つ内方で冷却される熱交換
器を含んでいる。熱交喚謬及び槽は実質四にステンレス
スチールで作られてhる。
懸濁′4.4縮器lr′i長さ1000+m及び内径2
00顛を有していて、そして各々が直径25mを有する
7本のフィルター管を含んでいる。フィルターの長さは
40鰭であり、フィルター開孔の直径は0、5 *tで
あり、そしてフィルターは結晶取出し側から3001m
のところに取付けられた。
フィルターとスフパーナイフとの司にロータビンを有す
る回転可能な軸が取付けられた。@線に鉛直な7つの省
内にロータビンは直径8uで取付けられた;即ち各層は
8つのビンを含む。脅との1司の距離は25脂であった
。多くのステータビン5が壁内に取付けられた。液体ノ
ぞルスの司波桟は1秒−1であり、そしてパルスの太さ
さくpulsemαss’)ri約0.2 Kgであっ
た。
倶給混合毎は重量比20%のオルトキシレンで汚染さn
パラ・キシレン、メタ・キシレン及ヒエチルベンゼンよ
り成っていたn結晶装、d内の温度は一20℃であった
。全供給量270kg/hの中18kli+が結晶化さ
れ、一方90kgの非結晶液本が;廃液として・除去さ
れた。
廃液はなお約40%の、aう・キシレンを含んでいた。
、@晶取出し狽Uにおいて1時間当り240Kgの精晶
充客解され、そして約180ゆ/んが99、97%の純
粋な製品として4.止された(パラ・キシレン)。
母液の循環率は15000A!/hであった。
180〜/hの製造は車間5ooo作業時間のとき、f
−間製造高1440)ンを生ずる。この型式の大型装置
を中いて、年ajl OQ、000 トン及びこれ以上
の能力が連成できる。
実施例 ■ 母液からのパラ・キシレン結晶の分離汀′4J3図の線
図に実質的に対応する分離長・電内で行なわれた。
装置101及び201は双方とも長さ1000韻及び内
径150IIl+1であり、そして各々i’j1.直径
20nを百する6つのフィルター管をよんでいた。
フィルターの長さはA OL’lllであす、フィルタ
ーの開化の直径は0.3 isであって、そしてフィル
ターは結晶取出し1則から30IIIs(7)距離のと
こに看かれた。
ポンプ140により、100に4?/hのノぞう・キシ
レン結晶と、約壁量比で70%の不純物を含む400ゆ
/九の母液より成る混合物が供給された。
この混合物の温ばば一30℃であった。1ノンシング室
の温度+4−10℃に禾たれた。、146を介して純結
晶の溶解物6q/hが供給された。148を介して市竜
比55%の・ぐう・キシレン(il−含む1.6ゆ/h
の液体が取出された。240の循環率は約sookg/
hでb″″)fc、232を介して重藏比99.97%
の純ノぞう・キシレンのtoov/h100kg//L
の製造では年間80001乍業時:楊のとき年4の製造
量!dB o o、 トンである。この型式の大型装置
を用いて年’A 100. OOOトン及びこれ以上の
能力が実現でさる。
【図面の簡単な説明】
第1図は肴濯液を4棒するための本発明による装置の絹
図會示している。 第2図は攪1字されている洗預碩域と組合せた第1図の
装置の@1図である。 第3:図は各々が浩筐った末を備えた領域を有している
直列に接続された2つの潰廖のカスケードの線図である
。純婁品・1黒1の装車のリンシング室へ供給され、そ
の製品27為ら@晶の温度を増力口するため熱を引出す
ことができる6 第4図は直列に接続された本発明による2つの装置のカ
スケードの斐(スであり、これでは@A品の代りlL佑
晶化すべき)[オ料は填1の装て殻の1ノンシング至へ
浜7@芒れる。 2・・・・・・・・・・・・・・・管 3・・・・・・・・・・・・・・・フィルター7・・・
・・・・・・・・・・・・ポンプ8・・・・・・・・・
・・・・・・シリンダー11、.20・・・・・・魔拌
器 13・・・・・・・・・・・・・・・制御弁14・・・
・・・・・・・・・・・・ナイフ28・・・・・・・・
・・・・・・・熱交換器29・・・・・・・・・・・・
・・・ポンプツエク 91 (

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、壁により半径方向において囲まれた濃縮領域をへん
    でおり、該濃縮領域の中心線に垂直な断面が一定であり
    、月つ該濃縮領域がその始めに懸濁液を供給するだめの
    手段と、該濃縮領域の端の近くに1又はこれ以上のフィ
    ルタ寮−と、該フィルターを通過する液体除去のだめの
    手段と、該濃縮領域の端において該濃縮された懸濁液の
    除去のだめの手段と、そして該濃縮領域内に脈動を発生
    するだめの手段を具備している懸濁液を濃縮するだめの
    装置において、 一定の外径の1又はこれ以−ヒの管が該濃縮領域を介し
    て軸線方向に該濃縮領域の始めから延びており、そして
    該各管の壁において少くとも1つのフィルターが原管の
    内部と該濃縮領域との間で唯一の直接接続を形成して取
    付けられていることを特徴とする装置。 2 該I1%縮領域が円形断面であり、そして原管がこ
    の断面の小部分のみをカバーしている該断面に亘り均等
    に分布されている特許請求の範囲第1項記載の装置。 3 各原管において管外径の倍数に等しい長さを有する
    壁部分がフ・rルターとして実施されている特許請求の
    範囲第1−2項のいづれか1つの項に記載の装置。 4 該濃縮領域における脈動流を発生するだめの手段が
    該フィルターを通過する液体の除去割合を周期的に変化
    するための部材を含む特許請求の範囲第1−3項のいづ
    れか1つの項に記載の装置。 5 手段が該フィルターを通過する該液体の1部を該濃
    縮領域の始めに再循環するため適用可能である特許請求
    の範囲第1−4項のいづれか1つの項に記載の装置。 6 該濃縮領域の端において該濃縮された懸濁液の除去
    のだめの手段がスフレバーを含む特許請求の範囲第1−
    5項のいづれか1つの項に記載の装置。 7、該濃縮領域の該フィルターと該濃縮された懸濁液の
    除去のだめの手段どの間に、洗浄領域が該濃縮領域から
    それた端に設けられており、洗浄液のための供給を備え
    ている特許請求の範囲第1−6項のいづれか1つの項に
    記載の装置。 8 該濃縮された懸濁物の除去のだめの該手段がリンシ
    ング室内へ流出しており、そして該濃縮された結晶マス
    を再懸濁するだめ手段が設けられている特許請求の範囲
    第7項記載の装置。 9 洗浄液の制御された量のだめの手段を含む特許請求
    の範囲第1−8項のいづれか1つの項に記載の装置。 10、該洗浄領域においてロータを含む攪拌手段が設け
    られておシ、その軸線が該洗浄領域の中心線と同軸線に
    あり、該ロータは、少くともその長さの部分を越えて、
    半径方向外方に突出しているピンを備えており、そして
    該洗浄領域が半径方向内方に突出しているピンを備えた
    シリンダー状外被により囲まれている特許請求の範囲第
    7−9項のいづれか1つの項に記載の装置。 11、特許請求の範囲第1−3項、第5項及び第6項と
    組合せが可能であって、該濃縮領域に脈動を発生するた
    めの手段が供給すべき該洗浄液の流量を周期的に変化す
    るだめの手段を含む特許請求の範囲第7−1O項のいづ
    れか1つの項に記載の装置。 12、該結晶が移動する方向に見て一結晶装置が該濃縮
    領域に対し懸濁液の供給のための手段の前に位置づけさ
    れている結晶生成により物質の混合物を分離する特許請
    求の範囲第1−11項のいづれか1つの項に記載の装置
    。 13 特許請求の範囲第12項と組合せ可能であり、−
    該結晶の流れの方向に見て一濃縮され、且つ洗浄された
    結晶懸濁液の除去のための手段の後に、装置が、完全に
    溶解し、そして次に洗浄液として部分的に再循環するた
    め、除去された濃縮され、且つ洗浄された納品懸濁液の
    該洗浄領域に位置づけされている特許請求の範囲第7−
    11項記載の装置。 14 溶解物を含む懸濁液から結晶を分離するだめカス
    ケードにして、 該カスケードが第1−13項による直列に接続された装
    置を含み、該第1の装置の該濃縮領域の供給側が懸濁液
    のだめの供給ラインを備えており、該第1の装置のフィ
    ルター出口が母液のだめの再循環ラインを備えており、
    第1の装置〜、のリンシング室の出口が該第2の装置の
    該濃縮領域の供給側に接続されており、該第2の装置に
    おけるフィルター出口が該第1の装置のリンシング室の
    供給と接続されており、そ(7て該第2の装置の該リン
    シング室が熱交換器を介して再循環ラインにより該第2
    の装置の該リンシング室、該第1の装置の該リンシング
    室及び製品出口ラインへそれぞれ接続されていることを
    特徴とするカスケード。 15 該わル2の装置におけるフィルターの出口と該第
    1の装置の該リンシング室の供給との間の導管がスルー
    ス(5luice )を備えている特許請求の範囲第1
    4項記載のカスケード。 16、該装置の該リンシング室が新しい給送のだめの供
    給を備えており、そして該スルースが該第1のリンシン
    グ室内の温度により制御される特許請求の範囲第15項
    記載のカスケード。 17、該カスケードが直列に接続された2つ以上の装置
    を含む特許請求の範囲第14項、第15項又は第16項
    記載のカスケード。
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