JPS5959883A - 粗面化方法 - Google Patents
粗面化方法Info
- Publication number
- JPS5959883A JPS5959883A JP17127182A JP17127182A JPS5959883A JP S5959883 A JPS5959883 A JP S5959883A JP 17127182 A JP17127182 A JP 17127182A JP 17127182 A JP17127182 A JP 17127182A JP S5959883 A JPS5959883 A JP S5959883A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- blank material
- plating layer
- plating
- layer
- etching soln
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(υ り6明の技術分野
本発明は、累月の他の部材への接肩聞を粗面化する方法
に関し、特に機械的な応力が全く加わらないようにして
累月又は累月に付踊している部材等に怒¥/響を及ぼす
ことがないむL +itj化方法に関する。
に関し、特に機械的な応力が全く加わらないようにして
累月又は累月に付踊している部材等に怒¥/響を及ぼす
ことがないむL +itj化方法に関する。
■) 従来伐術と問題点
一妓に他の部材へある累月を接着する場合、七の接層強
度を同上するために当該接廂血を徂1■1化することが
行われる。従来、ある累4it (/、l他の部すへの
接眉凹金租1fo化するには、第1図(ハ))に示すよ
うに、素@1の接着側の浅凹に砂吹き観のノズル2から
圧#111空気によつ1適宜の粒度の砂3を吹き付ける
いわゆるサンドブラストにより粗面化していた。しかし
この場合、素材1には機械的な圧縮応力等が加わり、第
1図(b)に示すように、サンドブラスト&に素材1に
反ジが生じ機械的に変形することがあった。また、第2
図に示すように、サンドブラストによシ粗面を形成ずべ
き素材1が設けられた基材4にもノズル2から砂3が吹
き付けられ、上記機械的な応力によp制基材4の物理的
な特性に悪影瞥を与えることがあった。例えば、磁気ヘ
ッドにおけるパーマロイ等の磁気特性を低下させること
があった。
度を同上するために当該接廂血を徂1■1化することが
行われる。従来、ある累4it (/、l他の部すへの
接眉凹金租1fo化するには、第1図(ハ))に示すよ
うに、素@1の接着側の浅凹に砂吹き観のノズル2から
圧#111空気によつ1適宜の粒度の砂3を吹き付ける
いわゆるサンドブラストにより粗面化していた。しかし
この場合、素材1には機械的な圧縮応力等が加わり、第
1図(b)に示すように、サンドブラスト&に素材1に
反ジが生じ機械的に変形することがあった。また、第2
図に示すように、サンドブラストによシ粗面を形成ずべ
き素材1が設けられた基材4にもノズル2から砂3が吹
き付けられ、上記機械的な応力によp制基材4の物理的
な特性に悪影瞥を与えることがあった。例えば、磁気ヘ
ッドにおけるパーマロイ等の磁気特性を低下させること
があった。
(3) 発明の目的
本発明は上記小1#に対処してなされたもので、機械的
な応力が全く加わらないようにして累l又は素材に付属
している部材静に悲影愉を及ばずことがない粗面化方法
を提供することを目的とする。
な応力が全く加わらないようにして累l又は素材に付属
している部材静に悲影愉を及ばずことがない粗面化方法
を提供することを目的とする。
(4)発明の栴戟
そして上記の目的は不発明によれは、累相の粗面化する
…jに多孔質な金属薄膜のメッキ層を形成し、このメッ
キ層をマスクゾーン又はバッファーゾーンとし1上記素
柑を溶解するエツチング液に浸漬することによシ、素材
に粗面を形成することをlrt徴とする粗面化方法をN
供することによって達成される。
…jに多孔質な金属薄膜のメッキ層を形成し、このメッ
キ層をマスクゾーン又はバッファーゾーンとし1上記素
柑を溶解するエツチング液に浸漬することによシ、素材
に粗面を形成することをlrt徴とする粗面化方法をN
供することによって達成される。
(5)発明の実施例
以下、本発明の実施例を添付図面に基いて詳細に説明す
る。
る。
本発明による粗面化方法は、贅ず、第3図に示すように
、例えはりCムl’&(Cr(J、)、硝酸(11No
3)等のエツチング液に浴ける銅等の素4′IJ11の
粗面化する面12に、上記エツチング液に溶けない金属
、例えは金、姥、ニッケル等の金椙で多孔質な金属薄膜
のメッキ層13を形成する。このメッキ層13L1 ピ
ンホール14.14・・・・・・が多い浴組成となるよ
うに工夫されたもので、弱い電流で薄くかつ付有力が弱
くメッキしたもので7ツツシユメツキというメッキ法で
形成されでいる。次に、上記メツキノ醋13の部分を上
記素材11を沼カイ(するエツチング液に浸漬(ティッ
ピング)する。このとき、上記メッキ層13はエツチン
グ液に溶けない金踊でできていると共にビンホー71/
14.14・・・・・・が多数存在するので、該メッキ
層13はエツチング液に溶けないマスクゾーンとして作
用し、第4図に示すように、素材11はピンホール14
の部分において上d]」エツチング液に接触している箇
所から溶は始め、メッキ層13の形成された箇所は溶け
ない。したがつ1、ピンホール14.14・・・・・・
のtits分に凹所15.15・・・・・・が形成され
る。このようなティッピングの過程に2・いて上記メッ
キ層13は逐次脱溶していくが、最終的には該メッキ層
13を洗浄等により除去すると、第5図に示すように、
素41411の而12には1a細女凹凸からなる粗酒1
16が形成される。
、例えはりCムl’&(Cr(J、)、硝酸(11No
3)等のエツチング液に浴ける銅等の素4′IJ11の
粗面化する面12に、上記エツチング液に溶けない金属
、例えは金、姥、ニッケル等の金椙で多孔質な金属薄膜
のメッキ層13を形成する。このメッキ層13L1 ピ
ンホール14.14・・・・・・が多い浴組成となるよ
うに工夫されたもので、弱い電流で薄くかつ付有力が弱
くメッキしたもので7ツツシユメツキというメッキ法で
形成されでいる。次に、上記メツキノ醋13の部分を上
記素材11を沼カイ(するエツチング液に浸漬(ティッ
ピング)する。このとき、上記メッキ層13はエツチン
グ液に溶けない金踊でできていると共にビンホー71/
14.14・・・・・・が多数存在するので、該メッキ
層13はエツチング液に溶けないマスクゾーンとして作
用し、第4図に示すように、素材11はピンホール14
の部分において上d]」エツチング液に接触している箇
所から溶は始め、メッキ層13の形成された箇所は溶け
ない。したがつ1、ピンホール14.14・・・・・・
のtits分に凹所15.15・・・・・・が形成され
る。このようなティッピングの過程に2・いて上記メッ
キ層13は逐次脱溶していくが、最終的には該メッキ層
13を洗浄等により除去すると、第5図に示すように、
素41411の而12には1a細女凹凸からなる粗酒1
16が形成される。
第6図ないし第8図は他の実施例を示すhノ1面説明図
である。この実施例においてtJ、多孔質な金属#、膜
のメッキ7113’を框材11と同様にエツチング液に
浴りる金橋、例えば鋼碧で形成しである。このメッキ層
13′は、ピンホール14.14・・・・・・が多い浴
組成となるように工夫されたもので、強い′1d訛で薄
くかつ付着力が強くメッキしたものでストライクメッキ
というメッキ法で形成されている。この場合は、上記メ
ッキ1価13’+ゴエツチング?l!VC浴ける隻v4
でできていると共にピンホール14.14・・・・・・
が多数存在するので、該メッキ層13′は素材11がエ
ツチング液に浴ける時間差をつけるバッファーゾーンと
してf「用する。すなわち、第7図に示すように、上i
Cメッキ層13′の部分をエツチング液に浸漬(ティッ
ピング)すると、メッキ層13′も素材11のビンホー
A/14の部分において上記エツチング液に接触してい
る箇所も同時に浴は始め、適宜の時間か経過して上記メ
ッキ)Vl!13′が先金に浴解してティッピングを終
了うると、ピンホール14.14・・・・・・の部分か
メッキ)t# 13 ’の部分よυ艮時間エツチング液
にさらされてそれたけ深く侵蝕される。そして、最終的
には、8(48図に示すように、素材110面12には
微ijOな凹凸からなる粗−116′が形成される。
である。この実施例においてtJ、多孔質な金属#、膜
のメッキ7113’を框材11と同様にエツチング液に
浴りる金橋、例えば鋼碧で形成しである。このメッキ層
13′は、ピンホール14.14・・・・・・が多い浴
組成となるように工夫されたもので、強い′1d訛で薄
くかつ付着力が強くメッキしたものでストライクメッキ
というメッキ法で形成されている。この場合は、上記メ
ッキ1価13’+ゴエツチング?l!VC浴ける隻v4
でできていると共にピンホール14.14・・・・・・
が多数存在するので、該メッキ層13′は素材11がエ
ツチング液に浴ける時間差をつけるバッファーゾーンと
してf「用する。すなわち、第7図に示すように、上i
Cメッキ層13′の部分をエツチング液に浸漬(ティッ
ピング)すると、メッキ層13′も素材11のビンホー
A/14の部分において上記エツチング液に接触してい
る箇所も同時に浴は始め、適宜の時間か経過して上記メ
ッキ)Vl!13′が先金に浴解してティッピングを終
了うると、ピンホール14.14・・・・・・の部分か
メッキ)t# 13 ’の部分よυ艮時間エツチング液
にさらされてそれたけ深く侵蝕される。そして、最終的
には、8(48図に示すように、素材110面12には
微ijOな凹凸からなる粗−116′が形成される。
(6)発明の効果
不発明は以上のように桁成されたので、従来のサンドブ
ラストのような慎械的な応力を全く加えることなく、素
@11の粗面化する面12に微細な凹凸の粗面を形成す
ることができる。
ラストのような慎械的な応力を全く加えることなく、素
@11の粗面化する面12に微細な凹凸の粗面を形成す
ることができる。
したがって、素材11に機械的な変形を生ずることはな
いし、素材11に付属している囲i材等にも機械的又は
物理的な悪影#を与えることはない。
いし、素材11に付属している囲i材等にも機械的又は
物理的な悪影#を与えることはない。
第1図(a)、<1))及び第2図は従来のサンドブラ
ストによる粗面化方法を示すかL四回、第3図t」不発
明による粗面化方法において框材の粗面化する血に多孔
質な金縞薄族のメッキ層を形成した状態ケ示す断面説明
図、第4図は上記メッキ層をエツチング液に浸漬した状
態を示す断面説切回、第5図は最終的に素材に形成され
た租面管示す断面説明図、第6図ないし第8図は他の実
施例の工程を示す断面説明図である。 11・・・・・・累月 12・・・・・・粗面化する面 13.13′・・・・・・メッキ層 14・・・・・・ビンホール 15・・・・・・凹fヅ「 16.16′・・・・・・粗面 出願人 菖士通株式会社 第1図 (a) (b) 第3図 1 第71図 第5図 第2図 第6図 1 第7図 1 第8図
ストによる粗面化方法を示すかL四回、第3図t」不発
明による粗面化方法において框材の粗面化する血に多孔
質な金縞薄族のメッキ層を形成した状態ケ示す断面説明
図、第4図は上記メッキ層をエツチング液に浸漬した状
態を示す断面説切回、第5図は最終的に素材に形成され
た租面管示す断面説明図、第6図ないし第8図は他の実
施例の工程を示す断面説明図である。 11・・・・・・累月 12・・・・・・粗面化する面 13.13′・・・・・・メッキ層 14・・・・・・ビンホール 15・・・・・・凹fヅ「 16.16′・・・・・・粗面 出願人 菖士通株式会社 第1図 (a) (b) 第3図 1 第71図 第5図 第2図 第6図 1 第7図 1 第8図
Claims (1)
- 素材の根面化する面に多孔質な金属薄1換のメッキ層ヲ
形成し、このメッキIi4 %・マスクゾーン又はバッ
ファーゾーンとして上’+jL 框材ヲ浴解するエツチ
ング液に浸漬することによシ、素H&こ粗面を形成する
ことを1絵敞とする粗面化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17127182A JPS5959883A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 粗面化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17127182A JPS5959883A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 粗面化方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5959883A true JPS5959883A (ja) | 1984-04-05 |
Family
ID=15920227
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17127182A Pending JPS5959883A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 粗面化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5959883A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0805722A1 (en) * | 1995-01-26 | 1997-11-12 | Chromalloy Gas Turbine Corporation | Roughening of metal surfaces |
US6319419B1 (en) * | 1997-06-02 | 2001-11-20 | Japan Energy Corporation | Method of manufacturing member for thin-film formation apparatus and the member for the apparatus |
EP1461834A1 (en) * | 2001-11-29 | 2004-09-29 | Origin Energy Solar Pty.Ltd | Semiconductor texturing process |
-
1982
- 1982-09-30 JP JP17127182A patent/JPS5959883A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0805722A1 (en) * | 1995-01-26 | 1997-11-12 | Chromalloy Gas Turbine Corporation | Roughening of metal surfaces |
EP0805722A4 (en) * | 1995-01-26 | 1998-04-22 | Chromalloy Gas Turbine Corp | PROCESS FOR ROUGHING METAL SURFACES |
US6319419B1 (en) * | 1997-06-02 | 2001-11-20 | Japan Energy Corporation | Method of manufacturing member for thin-film formation apparatus and the member for the apparatus |
EP1461834A1 (en) * | 2001-11-29 | 2004-09-29 | Origin Energy Solar Pty.Ltd | Semiconductor texturing process |
EP1461834A4 (en) * | 2001-11-29 | 2010-06-09 | Origin Energy Solar Pty Ltd | SEMICONDUCTOR texturing |
US7828983B2 (en) * | 2001-11-29 | 2010-11-09 | Transform Solar Pty Ltd | Semiconductor texturing process |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4454014A (en) | Etched article | |
JPS5959883A (ja) | 粗面化方法 | |
JPS58209345A (ja) | 金属製歯科用置換部品の製造方法 | |
US4166011A (en) | Method for the manufacture of a shaping mask for an electroerosion tool | |
JP5970217B2 (ja) | 電着レジストを用いたメタルマスクの製造方法 | |
JPH09148714A (ja) | 立体成形回路基板の製造方法 | |
JPH03257178A (ja) | 装飾部材の蝕刻方法 | |
JPS64818B2 (ja) | ||
JP2000239889A (ja) | メッキ方法 | |
JPS5826168B2 (ja) | 導電性電極パタ−ンを形成する方法 | |
JP2881717B2 (ja) | 貴金属による中空電鋳製品の製造方法 | |
JP3494713B2 (ja) | メタルマスクの製造方法 | |
JPH05317807A (ja) | 樹脂コーティング銅系材料の製造方法 | |
JPH07188947A (ja) | 表面粗化方法 | |
JPH04130792A (ja) | 回路基板の製造方法 | |
JPH0921889A (ja) | ワンピース構造腕時計側の製造方法 | |
JPS5933094A (ja) | マ−キング方法 | |
JPH03269976A (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JPS6158558B2 (ja) | ||
JP2516440B2 (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JPS61281900A (ja) | ニツケル・クロム合金の電気化学的処理方法 | |
TH8960EX (th) | เครื่องประดับที่กลวง และวิธีการทำ | |
JPS5921303B2 (ja) | 金属層付きプラスチツク | |
WO2005076334A1 (en) | Electro-forming master and the same-master-manufacturing method, and metal minute pattern made by the master | |
JPS6214229B2 (ja) |