JPS5953465A - β−ラクタム類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 式中、Ｒ１は低級２−アル’ｉｉ＋ニルもしくは１−ア
ルケニルまたけ式 ％式％（） （） （） ） （） の基を表わし、Ｒ４は低級アルキルを表わし、ｎ　＠は
第三低級環式脂肪族または脂肪族アミン基を表わし、ｎ
は数０または１を表わし、更にＲ２はアミノまたはアミ
ノに転化し得る基を表わＩ〜、そｌ−てＲ３は低級有機
基を表わし、ただし、Ｒ１がアミノを表わす場合　Ｒ１
は低級２−アルケニルもしくは１−アルケニル捷だけ基
（ａ）、（ｃ）及び（ｄ）の一つを表わすものとする、 のβ−ラクタム類に関する。

一般式Ｉのβ−ラクタム類は、Ｎ１一原子（Ｎ１−ａｔ
ｏｍ）上に位置したそれらの／１″１定の保詐基により
、抗菌性（ａｎｔｉｍｉｃｒｎｂｉａｌ　　ｐｒｏｐｅ
ｒｔｉｅｓ）を有するβ−ラクタノ、類、特に一般式（
式中、ｎ　Ｉ’　ｋトえはペニシリンｖＵ七ファロスボ
リン化学から知られているアシルＬたとえば、一般式 １１ （ここでＮ　Ｒ”は水素、低級アルキル又はカルボキシ
−低級アルキルを表わし、そしてＲ１は低級有機基（た
とえばカルバモイル又はカルバモイルオキシメチル）を
表ワス）のアシル基を表わす） のＮ１−スルホ−アゼチジノン類の特に容易な製造のた
めの価値ある中間体である。

直接に開裂し得る保護基を含有する式Ｉの中間体は、一
般式 （式中、Ｒ２及びＲｓは前記した意味を有しそしてＲＩ
Ｇは１−アルケニル又は前記した基（Ｃ１を表わす） の中間体である。

式■の残りの中間体、即ちＲ″がＲＩＧ以外の意味を有
する中間体は、以後詳細に述べられる如く、式１ａの上
記化合物に容易に転化され得る前駆生成物（ｐｒｅ−ｐ
ｒｏｄｕｃ　ｔｓ　）である。

式ｌの新規な中間体の他の小群けＲｓが合成の始めに存
在し得る基Ｒ”を表わす中間体、即ち一般式 （式中、Ｒ１及びＲ１は前記した意味を有しそしてＲ”
は適宜低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲノ、シア
ノ、スルファモイル又は低級アルキルスルホニルにより
置換されていてもよいスチリル又はフェニル；低級シク
ロアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルカノ
イル、低級アルカンチオイル又は一般式Ｒ１００もしく
はＲｓ０’Ｒ畠Ｇｏ　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　ＲＩＯＩ（式中、Ｒｏ及びＲ７は各々
低級炭化水素基を意味し、核剤は適宜酸素を含有してい
てもよく、そして炭素原子を介して結合しており、これ
らの基は相互に結合して環を形成するとともできる）の
基を表わす１ の化合物である。

式Ｉの残シの中間体、即ち、Ｒ１がＲａＯ以外のものを
意味する中間体ｔま、Ｒ１がアミノに転化し得る基を表
わす限り式１ｂの化合物から、基Ｒａ０の転換、特にた
とえば後に反応式ト」に記載しれた通シ、基Ｒ８００も
しくはＲ３０１又は低級アルコキシカルボニル基ＲａＯ
の転換によって得ることができる。

１低級アルケニル”なる用語Ｈ１直釦状又は分岐鎖状で
あるととができ、そして好ましく　ｉｆ：　８個まで、
特に４個まで炭素原子を含イコするオレフィン系炭化水
素基、たとえば、ビニル、２−プロペニル（アリル）、
１−フロベニル、イングロペニル、２−メタリル、１−
もしくは２−ブテニル、１−もしくは２−へキセニル、
１−も１−２〈け２−へブテニル、１−もしくは２−オ
クテニル等”ｔＨ味する。′低ｔｙ’ｒアルキル″々る
用ｔｉｔ干は、単独で又は１低級アルコキシカルボニル
′″もしくＶ１′”低級アルキルスルホニル”の如く組
合せにおいて、直鎖状又は分岐鎖状であることができ、
そして好寸しくけ８個まで、ｌＦ管に４個捷での炭牙原
子を身有する飽和炭化水素基、たとえば、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、第ニブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、インペ
ンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル等
を意味する。“低級アルコキシ”なる用語は、同様な意
味を有する。１低級シクロアルキル″なる用語は、３〜
８個の炭素原子を含有する環式脂肪族飽和炭化水素（た
とえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル
）を意味する。１低級アルカノイル″なる用語は、好ま
しくは８　ｆｔｒ７＋までの炭素原子を含有する脂肪族
カルボン酸基（たとえば、アセトキシ、プロピオニルオ
キシ、インブチリルオキシ）を意味する。

１低級アルカンチオイル”なる用語は、同様な意味（た
とえばチオアセチル、チオプロピオニル、チオイソブチ
リル）を有する。６ノ・ロゲン”なる用語はすべての４
つのハロゲン、傷に均素及び臭素を表わす。

上記基（ｅｉ中に存在する第３級低級眉肋族又は甲状脂
肪族アミノ基（：１、適宜＾ｐ素も［７くし、Ｉ：　（
ｊ：ｉ黄１【（１子を含有していてもよく、そして適宜
ｆｉ＜−糾アルヤルもしくは低級アルコキシにより置換
されていてもよい好ま［７くは５員又Ｖｉ６員舅（だと
えげ、モルホリノ、ピロリジノ、ピペリジノ、４−メチ
ルピペリジノ）である。しかしながら、それｉｔ、＃、
とえげ、ジー低級アルキルアミノ基（′＃、とえば、ジ
エチルアミノ）であることもできる。

アミノに転化し／１．する基Ｉｌ’は、メことえば、ア
ジド、フタルイミド、（低級アルキル）−０ＣＯ−ＣＨ
−Ｃ（ＣＨｓ　）　　ＮＵ　　”ｌ　ｌ］°容易ｐｒ開
裂［２イ！）　ルーｆ　’７　ノｌ／アミノ、府窒Ｚが
、たとえば、適宜ノ・ロゲン［１”Ｊ９！されていても
よい低級アルコキシカル７Ｆニール（たとえば、ｔ−ブ
トキシカルボニール刈ｊトリクロロエトキシカルボニル
）及びベンジルオキシカルボる。

苓Ｒ１００又はＲ３０１において、Ｒ１けたとえば、低
級アルキル、フェニル−低級アルキル、低級アル゛コキ
シーアルキル（たとえば、低級アルコキシメチル）を意
味することができ、そしてＲ７は低級アルキル又はフェ
ニル−低級アルキルを意味スることができる。これらの
基Ｒ３００又はＲ１０１けキラリティ（ｃｌ＋１ｒａｌ
ｉｔｙ）の中心と直接結合していない酸素原子を更に場
合により含有してもよい、そして適宜缶縁アルキル、低
級アルコキシ、オキソ又はスプロシクロー低級アルキル
によジ置換されていてもよい５員又け６員Ｏ−複素環を
表わすこともできる。基Ｒ３００に対する例はであり、
そして基Ｒ４０＋に対する例はその光学的対掌体（ｏｐ
ｔｉｃａｌ　　ａｎｔｉｐｏｄｅｓ）でちる。

Ｒ１−Ｒ８により示された好ましい基は下記の通りであ
る： Ｒ璽　：ビニル、２−プロペニル（アリル）、］−プロ
ペニル、２，２−ジメトキシエチル、２．２−ジェトキ
シエチル、ホルミルメチ／ｌｚ、ジヒドロキシア七チル
、２−フェニルチオエチル、２−フェニルスルフィニル
エチル、２−モルホリノビニル、ホルミル。

Ｒ１ニアミノ、フタルイミド、ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、２−メトキ
シカルボニル−１−メチル−ビニルアミノ。

Ｒｓ　：フェニル、スチリル、ｐ−シアノフェニル、−
２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル〕
。

Ｒｌｓが基Ｒ３００又はＲ”’　　を表わさない限り、
式ｌの化合物Ｈ、ラセミ化合物（ｒａｒｅｍａｔｅｓ）
として存在することができ、アゼチジン環の３−及び４
−位置は相互にトランス−Ｖけシスー位減である（ｔｒ
ｒ＋ｎｓ　−ｏｒ　ｃｉｓ−ｐｏｓｉｔｉｏｎｅｄ）。

これらの異性体の各々は光学的に均一な形態（ｏｐｔｉ
ｃａｌｕｎ　ｉ　ｆｏｒｍ　ｆｏｒｍ）で存在すること
力（できる。Ｒｓが基Ｒ”’又はＢ　８０１を表わす場
合には、−上記化合物は光学的に均一なシス−形態で、
即ち、式（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６及びＲ７け上記の意
味を有する） の化合物として又は式 （式中、Ｒ１、Ｒ１、Ｒ６及びＲ７は前記の意味を有す
る） のその対応する光学的対常体として存在する。

式Ｉのβ−ラクタム類は、一般式 Ｒ”　　ＣＦｉｚ　　Ｃ０ＯＨ＠ （式中、Ｒ１０はアジド、フタルイミド又は基Ｒ（）Ｃ
ＯＣ１１＝Ｃ（ＣＨｓ）　　ＮＨ−を意味し、ゼしてＲ
け低級アルキルを表わす） のカルボン酸の反応性誘導体を塩基の存在下に１一般式 （式中　Ｒ８°は上記の意味を有し、そしてＲ”は低級
−２−アルケニル又は上記基（ａ）もしくＶＨｄ）を表
わす） の化合！１％１と反応さそ上、所望により、このように
して得られた一般式 （式中、Ｒ目、Ｒ”及びＲｊＯは前記した意味を有する
） の化合物において、Ｒ１′としてａ在する低級２−アル
ケニル基を、対応する１−アルケニル基Ｋ又は基（ｅｌ
もしくは（ｆ）に転化し又はＲ”として存在する基（ａ
）を基（ｂ）もしくけ（ｃ）に転化し又はＲ１１として
存在する基（ｄｌをビニル又はホルミル基に転換し、所
望により、一般式 （式中、Ｒ’、Ｒ２０及びＲ１３０は前記した意味を有
する） の得られる化合物の基Ｒ２０をアミノ基に転換し、所望
に１．す、とのようＫしてイ））られた一般式（式中、
■ζ１及びＲｏｌ　は前記した意味を有する） の化合物を、基Ｚを生じる試薬と反応させて一般式 ） の化合物を？！’４　％そして所望によシ、一般式（式
中　Ｒ１１、Ｒ３°及び２は前記した意味を有する） の得られる化合物において、Ｒ”として存在する低級２
−アルケニル基を対応する１−アルケニル基又は基（ｅ
ｌもしくＦｉ、（ｆ）に転化【２又シｌＲＩ　ＩとＩ〜
て存在する基（ａ）を基（ｂ）もしく　１ｊ：（ｃ）に
転化し又けＲ”として存在する基（ｄｌをビニル又はポ
ルミル基に転化することにより、本発明に従って製造す
ることができる。

式■の化合物又はその光学的対掌体と式ｌのカルボン酸
の反応性誘導体とのＦｉ応は、当分骨に熟練した人にと
ってはなじみ深い伺加用化（ｃｙｃｌｎ−ａｄｄ　ｉ　
ｔ　ｉｏｎ　’）である。好適な反応性カルボン耐゛誘
導体は、たとえば、対応するカルボン酸ハライド、特に
カルボン酸クロライド、対応するカルボン酸無水物及び
混合無水Ｖｐｔ　（プことえば、トリフルオロ酢酸、メ
ジ子しンスルホン酸等との）、対応する−　２８− カルボン酸イミダゾリド等である。反応は、塩基、たと
えば三級アミンたとえばトリエチルアミンの存在下に、
そして不活性有機溶媒、特にエーテル、たとえばテトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔ−７’チルメチル
エーテル、ジオキサン、エチレ７　クリ：＋−ルシメチ
ルエーテル等、ハロゲン化炭化水素、たとえば塩化メチ
レン、クロロホルム、１．２−ジクロロエタン等、アセ
トニトリル、ジメチルホルムアミド等の中で行なうのが
好都合である。この付加環化は約−３０℃乃至約５０℃
の温度範囲で行なわれる。

前記した反応においてけ、Ｒ１１１が基Ｒ３００もしく
は１１”’を表わさない限りラセミ形態（ｒａｃｅｍｉ
ｃｆｏｒｍ）で存在し、アゼチジン環の３−及び４−位
置のＦｃ　＃基は相互にトランス−又はシス位である、
上記式Ｉｅの化合物が得られる。Ｒ３が基Ｒ”’もしく
はＲ”’を表わす場合には、光学的に均一なシス−形態
の化合物、即ち （式中、Ｒ”、Ｒ”、Ｒ６及びＲ）は前ｉ［シの意味を
有する） の化合物ノペ墨られる。

出発物質として使用される式１ｖの化合物ｙｔｊそれら
の光学的対掌体け、一般式 ％式％ ０式中、Ｒ３０け前記の意１１（を有する）のアルデヒ
ドを一般式 ％式％ （式中、Ｒ”　ｉｄ、（−、記の意味を有する）のアミ
ンと反応させることにより？”　；４’ｊ−ｔ’ろこと
７５（できる。この反応は好−ましくけ、不活性有機溶
媒中、たとえば、ノ・ロゲン化炭化水素、たとえば塩化
メチレン、クロロホルム、Ｘ、２−ジクロロエタン等の
中で又は炭化水素、たとえばベンゼン、トルエン等の中
で行なわれる。反応期間中生成した水は好ましくけ、た
とえば共沸蒸留によって又は水除去剤の存在下に（ｆ？
：、とえは適当な分子篩の存在下に）゛又は常用の乾燥
剤、たとえば炭酸カリウム、硫酸マグネシウム等の存在
下に連続的に除去される。生成した水が共沸的に除去さ
れると、反応は選ばれた溶媒の沸点で行なわれ、そして
水除去剤が使用される場合には、反応は好ましくは室温
で行なわれる。

式１ａの待られる化合物中に存在するＮ−保護基ＲＩ　
Ｉはそれ山付開裂可能ではないが下記する如くして、開
裂可能な保護基Ｒ１Ｇ（上記式１ａ参照）に転化するこ
とができる。

１、ＲＩＩ：低級２−アルケニル−Ｒ１０：低級１−ア
ルケニル、たとえば、−ＣＨ□−（Ｉ（＝ＣＨｚ→−Ｃ
Ｈ”Ｃｆｌ　ＣＨｓ この異性化け、界＋／ｊ−化触瞠、たと對、はパラジウ
ムシバライド、たとえば、塩化パラジウム（ＩＩＬ　　
ｌ・リス−（）　ＩＪフェニルホスフィン）−ロジウム
（１）ハライドだとヌ、は対応するクロライド又はパラ
ジウム−炭素及びプロトン酸、たとえば塩化水素酸Ｖけ
リン酸を使用Ｉ７て有利に行なｈれる。異Ｐ１化Ｈ不活
性有枦溶媒、たとえばエタノ−／ｌ、　、珍化メチレン
又ｉｔ水とそれの混合物中で、約５０℃乃全反応混合ｊ
Ｌ１の沸７灼の温度で有利に行りわわる。

ｎ　−Ｒ”　：　　ＣＦＩｔ　　ＣＩＩ＝ＣＨｔ→Ｒ１
′：塩化）→−Ｃ１，−ＣＩ■０→ 一＊Ｒ’：基（ｅｌ　→Ｒ’°：基ｍ →−ｃｎ＝ｃｔｒ・−１七９→−ＣＪＩＯ基（ｈ）へ（
７’）７１Ｊ　／ｌ／基Ｒ”ノ、Ｊ−記転換及ｒ）：反
応（ｅｌ　−―げ）は好壕しくけオゾン分解、即ち不活
性有機溶媒中、たとえば低級アルカノール、たとえばメ
タノール中又は塩素化炭化水素、たとえば塩化メチレン
又はクロロホルム中で約−８０℃乃至０℃の温度でのオ
ゾンによる処理によって行なわれる。生成したオシナイ
ドは常用の方法において、たとえばジメチルスルフィド
又はトリフェニルホスフィンによる処理（冷却なしで）
分解される。

転化（ｂｌ　−＝　（ｅｌは第二級低級脂肪族又は環状
脂肪族アミン、たとえば、モルホリン、ピロリジン、ピ
ペリジン、４−メチルピペリジン、ジエチルアミン、特
にモルホリンとの反応によって行なわれる。

この反応は好ましくは、不活性有機溶媒たとえば塩化メ
チレン又はクロロホルム中で約０℃乃至反応混合物の沸
点の温度、好ましくは室温で行なわれる。

＠　、　ｎ、ｌＩ　：基（ａ）　→Ｒ’：基（ｂ）　、
　Ｒ１Ｇ　：基（ｃ）ＣＨｘ−ＣＨ（ＯＲ’）ｒ←ｅＨ
ｔ　Ｃｒ（Ｏ→ＣＯＣ１１（ＯＨ）ｔ−転換（ａ）→（
ｂｌは好ましくは、トリー低級アルギルヨードシラン、
特にトリメチルヨードシラン又ｔ１１）−）ルエンスル
ホン酸を使用して行なわれ、子、。

反応は好ましくは、不活性有機溶ｔ、！、たとえばアセ
トニトリル中で約０℃乃至５０℃の温度で行なわれる。

酸化（１））→（ｃ）は好ましくは、酸性条件下に（酢
酸の存在下に）二酸化セレンを使用して行なわれる。

反応は、好ましくは不活性有機溶媒、たとえばジオキサ
ン中で室温乃至反応混合物の沸点間の温度で行なわ′！
する。

ｐｊ、　　Ｒ１１：基（ｄ）→Ｒ１°：ビニル→Ｒ１０
：基（ｆ）−ＣＩ＝ＣＩｈ→−ＣＨ００ ２ｇ１１９階、フェニルチオエチル基のフェニルスルフ
イニルエチルへの酸化は有機又は無機酸化剤による処理
によって行なわれる。酸化剤としては、容易に酸素を生
じる種々の化合物、たとえば、有機過酸化物、たとえば
−置換有機過酸化物、たとえば、Ｃ，−Ｃ４アルキル又
はアルカノイルハイドロバーオキシド、たとえば、ｔ−
ブチルハイドロパーオキシド、過ギ酸、過酢酸：並びに
これらのハイドロパーオキシドのフェニル装置ｍｕ導体
、たとえば、クメンハイドロパーオキシド、過安息香酸
を使用することができる。所望により、フェニル薗換基
は更に低級基（たとえばＣ，−Ｃ，アルキル又はアルコ
キシ）又はハロゲン原子又はカルボキシ基（たとえば、
４−メチル過安息香酸、４−メトキシ過安息香酸、３−
クロロ過安息香酸、モノ過フタル酸）を有することがで
きる。酸化剤としては、ｉｉ７　ｈの無機酸化剤、たと
えば、過酸化水累、オゾン、過マンガン酸塩、たとえば
過マンガン酸カリウム又はナトリウム；？欠ｉｔ＜　Ｊ
盆累１１ノＪ（，１、たとえば次亜塩素酸ナトリウム、
カリウム又＆Ｊアンモニウム；ペルオキシ−（Ｄｉｆ　
ＩＳ２　、及びベルオ・Ｖシ二他・酸を使用するととも
できる。３−クロロ過安息香酸の使用が好ましい。酸化
ｉＪ不話性溶ｔＩＬ中、たとえば、非プロトン性不活性
溶Ｑ１−４、だとえげ、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン　ｔ、ｊ’、ｊ化メチレン、クロロホルム、酢酸エヂ
ルヌはアセトン中で、或いｔ、［、プロトン性溶媒、た
とえば、水、低級アルカノール（たとえば、メタノール
、エタノール）Ｖ、　ｋｌ適宜ハロゲン化されていても
よい低級アルカンカルボン酸（だとえば、ギ酸、酢酸、
トリフルオロ酢酸）中で有利に行なわれる。反応温度１
ｔ、−ｌ’　ｑ′？に、約−２０℃乃至＋７５℃の範囲
である。

フェニルスルフィニルエチル基のビニル基への分解相、
好−ましくＦ、１非プロトン＋１．有機溶媒、だとえｔ
−ｒ、、ヘキサメチレンリンｎ〜トリアミド、ジメチル
スルホキシド、ジメチルホルムアミド、ベンゼン又ｄ、
トルエン中で約１００−２００℃に加熱することによっ
て行なわれる。反応は反応において生成されるフェニル
スルホン酸に対する受容体の添加によって促進すること
ができ、特に好適な受容体はトリメチルホスファイト又
はプロピオル酸エステルたとえばプロピオル酸メチルで
ある。

ビニル基のホルミル基への分解（ビニル基はそれ自体開
裂可能であるので随意である）は、転化（ｅｌ→（ｆｌ
に対して第■節で説明したのと同じ方法で行なわれる。

式１ｇの化合物は、得られる式１ｆの化合物における基
Ｒ”をアミノ基に転換することによって本発明に従って
彷ることかできる。この反応は、それ自体公知の旧つ当
分野において熟練した人にけなじみ深い方法に従って行
なわれ、使用される方法ｔす基Ｒ”の性質に依存する。

フタルイミド基は、たとえば、好都合に一不活性イ〕機
浴媒中で、ヒドラジン、メチルヒドラジン等との反応に
よって除去することができる。好適な溶媒は、たとえば
、ハロゲン化炭化水素、たとえば塩化メチレン、クロロ
ホルム等、エーテルたとえばテトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ｔ−ブチルメチルエーテル等である。アンド基
はたとえば、触媒たとえばパラジウム−炭素、ラネーニ
ッケル、酸化白金等の存在下に元素状水素を使用して、
或いは佑ｒ化水夛、及び第三級アミン、たとえばトリエ
チルアミンの作用によってアミン）Ｉ　Ｋ　還元するこ
とができる。

基ＲＯＣＯＣＨ＝Ｃ（ＣＨａ　）　　ＮＨ−はたとえば
穏やかな酸加水分解によってアミノ基に転化することが
できる。

基Ｚを生じる試薬で式１ｇの化合物を処理することによ
って式１ｈの化合物が本発明に従って得られる。基２を
生じ得る好適な試薬は、んとえば、ジー電−ブチルジカ
ーポネイト父はクロロギ酸エステル、たとえばペンジル
クロロホルメイト、ｔ−プチルクｒＪロホルメイト、２
，２．２−）リクロロエチルクロロホルメイト等である
。反応し１“不活１／−１有ド、・シ溶媒、Ａ−とえは
ハロゲン化炭化水素、たとえば塩化メチレン、クロロホ
ルム勢・の中で、腓つ１四利にはなりイ、１１合削、た
とえば酸化ブチレン、トリエチルアミン、キヌクリジン
（ｑｕｉｎｕｃｌ　１ｒｌｉｎｅ）等σ）存在下に行な
うのが好都合である。反応は室温で行なうのが好都合で
ある。

（［ｌ　ｌ’、わた式１ｈの化合物のいくつかけ非開裂
性基Ｒ’　（ＭＲ”、式ｒｈ”＞を含有する。これらの
基ＲＩＩＨ”前記置プ斤方法で（１−ＩＶ節参照）開裂
し、得る基１も′（基Ｒ１０）に転化吋ることかできる
。

１１ｔらｉまた式１ｈ、（ｅ、ｉｆ及びｌｈの化合物中
の基Ｒ”Ｉｔ：Ｉ前ｈＶ″、した如く目つ後の反応式１
−１に例示六）また如く他σ）低級イ：ｄ（ｊ５基Ｒ８
に転化“することができろ。たとオーば、一般式 （式中、ｌｔ！＋けアミノに転化し１（）る基を表わし
、１り８は炭ｆヒ水素基（たとえば、メチレン、エチレ
ン、オキソメチレン、／クロへキシリデン父１ｊ好゛ま
しく←ｊ°イソプロピリデン）を表わし、そしてＲ’け
前６１：の、は味を有する） の（ｊｌられた化合物Ｖけその光学的夕・］掌体の炭化
水素基Ｒ，ａけ、たとえば、低級アノ１カノール、だと
えはメタノールもしくけエタノールφＶｔ、」：水性テ
トラヒドロフラン中で、好ま＋、　＜　Ｐ、；ｌ：室温
乃至約８０℃で穏かな配性試薬、たとえばスルボン化イ
側ン交換体、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネイト又
はｐ−１ルエンスルホン酸による処理により開裂するこ
とができる。一般式 （ｆ中、Ｒ９１及び１２１目前妃の意味を有する）の光
学的に活４′１．なジオールフはその光学的対常体が得
られる。

このようにして相られた式）ｍの化合物ヌけその光学的
対＄：ｊ４、のジオール基は開裂され、一般式０式中、
Ｒ’及びＲ２＋はＩ書記の意味を有する）のアルデヒド
又Ｖ］その光学的対常体が待られる。

この開裂はそれ自体公知の方法に従って行々わわ、そし
てたとえば、アルカリ金加Ｘ１尚ヨウ訃〜σンＬ、ＡＭ
　ｋてより、たとえば、水、場合によりプことえはテト
ラヒドロフラン又し１低級アルカノールたとえばメタノ
ールとの混合物中で達成されイ１）る。式Ｉｎのアルデ
ヒド又ｉｔその光学的対常体のアルデヒド’＋ｌ；ｉｔ
、公知方法に従って、たとえば、低級アルカノール、た
とえばエタノール、インブロパノールリ１″の中で鉛金
属水紫化物（ｃｏｍｐｌｅｘ　ｒｎｌａｌ　　１ｔｙｒ
ｌｒｉｄｅ）たとえＶ「水≠化ホウ素ナトリウムによる
処理によって還元することができる。一般式 （式中、１１’伎びＲ２１け前記の意味をｒ「する）の
アルコール叉１その光学的対掌体ノバイ１１ら１１Ｚ１
．。

たとえば一般式 （式中　Ｒ１及びＲ”は前記のき味を有する）の化合物
又はその光学的対掌体に存在するベンジルオキシ基は水
素化分解によシ開裂することができ、ぞして一般式 （式中　Ｒ１及びＲＨは前記の意味を有する）の７１１
．られる対応するカルビノール又はその光学的対常体Ｖ
１、たとえば後のＩヅ応式１における化合物ｊ　ｎ　＋
と同様に１１１に反応させることができる。

４−位ｆｔｆの置換基は官能的に（ｆｕｎｃｔｉｏｎａ
ｌｌｙ）更に転換することができ、たとえば、前；に：
　Ｌ、た４−ホルミル基又Ｖ１４−ヒドロギシメチル基
は当業者にはそれ自体公知の方法で（下：：ｌ”、Ｊｖ
応テ（’ｌ−１参照）転換することができる。

所で１４の抗菌活性β−ラクタム（たとえば前記式■の
β−ラクタム）を合成するたり）に、一般式（式中、Ｒ
ＩＧ、Ｒ２１及びＲ３け前記、の意味を有する） の１７られた化合物に存在ｌるＮ−保護基Ｒ１０け開裂
除去される（ｃｌｅａｖｅｄ　ｏｆｆ）。低級アルケニ
ル基（たとえば１−プロペニル又はビニル）ハ、特にア
ルカリ金属過マンガン酸Ｊ訂たとえば過マンガン酸カリ
ウム、好まり、＜は過マンガン酸カリウムの水溶液によ
る処理によって酸化によシ開裂除去される、所望により
、酸化は触媒量の前記したアルカリ金属過マンガン酸塩
の存在下にアルカリ金Ｉ・シ過ヨウ素酸塩（たとえば過
ヨウ素酸カリウム）を使用して行なうことができる。反
応祉、好ましくは特に、ｐＨ７−８に緩衝された水性緩
りＪｊ媒体中で行なわれるが、それは水に混和性有機溶
Ｕ（たとえばアセトン、ジメトキシエタン、ジオキサン
又はテトラヒドロフラン）中でピリジンの如き弱有梯・
塩基の添加により又はこれらの溶妙の１つと前記した水
性緩衝液との混合物中で行なうこともできる。所望によ
り、反応は相移行触媒作用（ｐｈａｓｅ−ｔｒａｎｓｆ
ｅｒ　　ｃａｔａｌｙｓｉｓ）下に、即ち、水性又は非
水ｔ１．相、ｌ：とえは上記水性緩存１液及び水に非混
和性不活性肩第１゛十溶媒、たとえば塩化メチレン又は
べ／ゼンの存在下に行なうこともできる。

相移行触媒としては、この目的に対して通常使用される
試薬、特に有機第四級アンモニウムハライド、たとえば
ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド、テトラ−
ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド及びセチルトリメチ
ルアンモニウノ、ブロマイドを使用することができろ。

１−アルケニル基の酸化開裂は好ましく１１約０℃乃至
２５℃の範囲の温度で行なわれる。

ヒドロキシアセチル基〔基（Ｃ）としてのｎ、１０１及
びホルミル基〔基ば）としてのｔｔｌＱ］は好１しくけ
、約０℃乃至」−５０℃の温度で不活４ノ１有担溶奴（
たとえばハロゲン化１５４化水素、たとえばクロロホル
ム、四Ｊ’ｔｒ　化炭＊　’２　ｌ；Ｆ塩化メチレン）
中で水ｉＪ”ｉ！ｉ・１基（たとえば水（メ′アンモニ
ア５ＴＩ：水性苛性７′ルカリ）で開裂除去される。【
７かし、ながら、ポルミルＡ＜’−Ｕパラジウム−又は
ロジウムーイ１機錯化合物、たトえハ、トリス−（トリ
フェニルホスフィン）−クロロロジウムの作用によって
開裂除去することもできる。

上記保護基１４１　Ｇの除去の後、基−８Ｏａ）１は三
酸化硫黄の反応性１Ａ層体との反応、たとえば、不活性
有桟ｆδ奴（たとえば、エーテル、たとえばジオキサン
、ピリジン、ジメチルホルムアミド等）の中で約０−８
０℃におけるＨ酸化偏量の錯体及び塩基、たとえばピリ
ジン、トリメチルアミン、ピコリン、ジメチルホルムア
ミド等との反応によって１−位置に導入することができ
る。３−位置におけるアミノ；ｉ！；　Ｒ”は後者の反
応の前又ｄ後に基Ｒ１０の転相ｌ（上記方法において）
又は保護基Ｚの開裂によって遊離する（Ｉｉｂｅｒａｔ
ｅ）ことができ、たとえばアラルコキシカルボニル基（
ｑ！ＦＫペンシルオギシ力ルボニル）又はベンズヒドリ
ル基は水素化’ｔ）Ｐｉイにより（たとえば水理−及び
）（ラジウム−炭素の作用によって）開裂除去すること
ができ、を−ブトキシカルボニル基はトリフルオロ酢酸
又はギ酸による処理により開裂除去することができ、そ
してトリクロロエトキシカルボニル−）フハ亜鉛及びプ
ロトン酸、たとえば耐酸りはサー化水素酸による処理に
よって開裂除去することができる。遊離し、だアミノ裁
Ｒ”ｋ１次いで対応して置４Ｑ５　ｄわだカルボン酸又
けその反応性官能＋ｌ・誘導イ１、たとえば酸無水物、
酸アミド、活性エステル（たとえばチオエステル、たと
えばペンチアゾリルチオエステル）でアシル化すること
がでへ、該手段によって広範なｆＩＦず１ｊのアシル基
、たとオーはペニシリン又ｉｆセファロスボリンイＬ学
から知Ｃつえｊているアシルノ１（が導入され？ｒ！、
　７．。たとえば、この方？ｌｒ−おい１−１一般式 （式中、Ｉｔ’は水素、低級アルキル又はカルボキシ−
低級アルキルを表わし、そしてＲ１は低級有（プ★１害
（たとえばカルバモイル又はカルバモイルオキシメチル
）を表ワス）の光学的に均一な抗１９活性β−ラクタム
又はその対応する光学対掌体をそれ自体公知の方法に従
って製ｎｉすることができる。

最終生成物−＼の対応する転化の例は以下の反応式１−
１に例示されている。

／′ ／″ ／ ／″ ／／′ ／ 反応式１１　■及びＩに使用された略号ＤＭＦ　　＝ジ
メチルホルムアミド Ｐｙ　　　＝ピリジン ｐｙ、ｓｏ、−三酸化硫黄−ピリジニウム錯体ＣＯＸ　
　＝カルボン酸の反応性誘導体（たとえば酸無水物、酸
アミド、活性エステル、 たとえばベンゾチアゾリルエステル） Ｒ”　　　＝水ヌ：、低級アルキル（たとえばメチル）
、保進されたカルボキシ−低級アルキル（たトえば保Ｆ
されたカルボキシメチル、保獲された１−メチル−１−
カルボキシ−エチル）。

保護基：たとえばｔ−ブチル（たとえばトリフルオロ酢
酸で開裂可能である）、ベンジル及びｐ−ニトロベンジ
ル（たとえば、水素及びパラジウム−炭酸で開裂可能で
ある）、２−（トリメチルシリル）−エチル（たとえば
テトラブチルアンモニウムフルオライドで開裂可能であ
る）。

Ｒ１＝水素、低級アルキル（たとえばメチル）、カルボ
キシ−低級アルキル（たとえばカルボキシメチル、１−
メチル−１−カルボキシ−エチル） Ｒ１０，Ｒ”　＝前記意味 なわれる。

下記実施例により本発明を蜆明する。すべての温度け℃
で与えられる。ｆｉ、ｒ＝芳香族実施例１ アリルアミン３．７５ｍ１（０，０５モル）及びベンゼ
ン１００ＩＩｔ中のベンズアルデヒド５．０４　ｍｌ　
（０，０５モル）の溶液を沸騰するまで加ムする；生成
された水を水分離器で分離する。反応を３０分後に終え
、次いで反応混合物を蒸発させる。残留物をテトラヒド
ロフラン１０（Ｌｍ／中に溶解する。待られる溶液をト
リエチルアミン７胃／（０，０５モル）及びテトラヒド
ロフラン１００ａｊ中のＮ−フタロイルグリシルクロラ
イド１１．１５１１（０，０５モル）の溶液で１質拌し
ながら一２５℃で滴下により処理する。混合物を室温で
放置する。４時間後、混合物を蒸発させる。残留物を酢
酸エチル及び水中に取込む。有機相を３チ水性炭酸水素
ナトリウム溶液で１回及び水で３回洗浄する。有機相を
硫酸マグネシウム」二で乾燥し、濾過［２、そして蒸発
させる。残留物をシクロヘキサン／酢酸エチル（７：３
）Ｋよシシリカゲル上でクロマトグラフにかける。Ｍ１
！１Ｈ５１−１５３°の白色結晶としてＮ−（ラセミ−
トランス−１−アリル−２−オキソ−４−フェニル−３
−アセチジニル）−フタルイミドと融点１７］−１７４
°のＮ−（ラセミ−シス−１−アリル−２−オキソ−４
−７エニルー３−アゼチジニル）−フタルイミドが得ら
れる。

実施例２ ベンゼン１５０＃Ｉ／中のアリルアミン７、５　ｍｌ　
（０，１モル）及びｐ−シアノベンズアルデヒド１３．
１ｇ（（１，１モル）の溶液を沸騰するまで加熱する。

生成した水を水分離器で分離する。４０分後、ｉｈ’１
合物を蒸発させる。残留物をジクロロメタン２００罰中
に溶解する。イｕられる溶液をアルゴン雰囲気で一３０
°に冷却し、そｌ、てトリエチルアミン１３．９１７（
０，１モル）で１ｕｔ’ｌ！Ｌ、なから処理する。

乾燥した塩化メチレン３５　Ｑ　Ｍｔ中のフタロイルグ
リシルクロライド２２．４９　（０，１モル）の溶液を
次いで２時以内に滴下により加え、次いで混合物をｐｒ
Ｐこ２時間０．５′で攪拌する。混合物を各々の場合に
水３００　ＴＩ＋ｌで３回及び水性塩化ナトリウム溶液
３１１　Ｑ　ｒＩｌで洗浄し、硫酸マグネシウム」二で
乾燥［，７、濾過し５、ぞして蒸発させる。残留物鴫−
シクロヘギザ７／酢酸エチルｉ　：１）でシリカゲルに
よりクロマトグラフィーにかける。融点２１１−２１３
°の白色結晶としてｐ−（ラセミ−シス−１−アリル−
２−オキソ−３−７タルイミドー４−アゼチジニル）−
ベンゾニトリルが得うれる。

実施例３ （ａｌ　　エタノール４００訳ｌ及び水５０厘ｌ中のｐ
−（ラセミ−シス−１−アリル−２−オキソ−３−７タ
ルイミドー４−アゼチジニル）−ベンゾニトリル９．２
９（２５，６ミリモル）及びトリス（トリフェニルホス
フィン）−ロジウム（Ｉ）クロライドｌＩのＦ濁液をア
ルゴン雰囲気中で３時間渚流下に加熱する。冷却及ｒト
沖禍の後、ろ液を蒸発させる。

結晶性ｆＱ留τｌを酢酸エチル中に取込み、そして吸引
下にｆｉＥｆＦｊＡ＝する。融点２３４−２３８°　の
白色結晶トシてｐ−Ｃラセミ−シス−２−オキソ−３−
フタルイミド−１−（１−プロペニル）−４−アゼチジ
ニル〕−ぺ／ジニトリル８．５Ｉが得られる。

（ｂｌ　　塩化メチレン２０１１／及び７ｋ　２　ｍｌ
中のｐ−（ラセミ−シス−１−アリル−２−オキソ−３
−フタルイミド−４−アゼチジニル）−ベンゾニトリル
ｏ、ｓ、９（１，４ミリモル）及び塩化パラジウム１０
ｍｙの！ｖ７−液を投打しながら２時間）“り！流下に
加蔀する。冷却及び濾過の後、不機相を分離し５、水で
′６１；浄１２、硫酸マグネシウム上で転炉１’ｉ１．
−１汀コ過［７（して蒸発させる。結晶刊残留物を（ａ
）に記１１との如＜　１゜て処理する２、融点２３４−
２３６’のｐ−Ｃラセミ−シス−２−オキソ−３−フタ
ル・ｆミド−１−（１−７０ベニル）−４−アゼチジニ
ル〕−ヘンゾニトリル０．４７　Ｉ！が１１１らねる。

実施例４ 塩化メチレン１５０１／中のｐ−〔ラセミ−シス−２−
７１−キン−３−フタルイミド−１−（１−プロペニル
）−２−アゼチジニル〕−ヘンゾニトリル７．４Ｈ（２
０，６ミリモル）の溶液をメチルヒドラジン３．２５　
＃ｌ／　（６１，８ミリモル）で処理する。

混合物を撹拌しながら１２時間３０°で加熱する。

沈殿ＩＪｃ物質を炉別し、そしてＦ液を蒸発させる。

残留物を酢酸エチル２００　ｍｌ中に取込み、水で洗浄
１／、有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸
発させ２）。更に精製することなく次の段階で使用され
る粗ｐ−〔ラセミ−シス−３−アミノ−１−（１−プロ
ペニル）−４−アゼチジニル〕−ベンゾニトリル１４．
０．ｉ７が得られる。

実施例５ 塩化メチレンｌＱｍｌ中のｐ−〔ラセミ−シス−３−ア
ミノ−１−（１−プロペニル）−４−アゼデシニル〕−
ベンゾニトリル３．７３．１１６．４ミリモル５及びｒ
：１化ブチレン１．７　ｍｌ　（２０ミリモル）の４？
！拌−ｉれたｎｌ液をカルボベンゾキシクロライド０、
２８　ｖＩｌで滴下により処理し、混合物を２時間攪拌
し７、次いで蒸発させる。結晶性残留物をエーテル中に
取込み、そして吸引下に炉別する。融点１２０−１２２
°の結晶性物質としてベンジルラセミ−シス−４−（ｐ
−シアノフェニル）−２−オキソ−１−（１−プロペニ
ル）−３−アゼチジンカルバメイト５ｇが得られる。

実施例６ ジメトキシエタン２００　ｍｌ中のベンジルラセミ−シ
ス−４−（ｐ−シアノフェニル）−２−オキソ−１−（
１−プロペニル）−３−アゼチジンカルバメイト３．２
４ｆ；ｌ（８，９ミリモル）のム゛（液をピリジン４．
２Ｍｔ（５３ミリモル）で処理する。５゜で攪拌しなが
ら、混合物を水３００ｄ中の過マンガン酸カリウム４ｇ
の溶液で滴下により処理する。

混合物を２時間室温で枠打１７、珪質土上で沖過しそし
てろ液を蒸発させる。結晶性残留物をエーテル中に取込
みそして沖過する。結晶性ベンジルラセミ−シス−４−
（ｐ−シアノフェニル’）−２−オキソ−３−アゼチジ
ンカルバメイト２．５ｇが得られる。

ＮＭＲ（ｄａ　　ＤＭＳＯ）δ（ｐｐｍ）：４．７−５
．２２（４Ｈ。

ｍ、　Ａｒ−ＣＨ２、Ｈｓ、Ｈ，）、７．０−８．０（
１０Ｈ，ｎｌ、　２Ａｒ）、８．７（ｉｆ−１，８％Ｎ
Ｈアゼチジノン）。

実施例７ 塩化メチレン５００　ａｔ中アリルアミン１８．６　ｍ
ｌ（０，２５モル）の室温で攪拌された溶液に、分子篩
４λ５（Ｌ９を加え、２０分後、イソプロピリデン−１
−グリセルアルデヒド３２．５９（０，２５モル）及び
硫酸マグネシウム１００ｇを加える。次いで混合物各宰
湛で更に１時間攪拌する。イソプロピリデン−１−グリ
セルアルデヒドアリルイミンの有機溶ｈｙをアルゴン下
に一３０’に冷却［、そしてトリエチルアミン３１．３
訳１（０，２５モル）で攪拌しながら処理する。次いで
乾燥塩化メチレン２０　ＯＷＲＩ中のフタロイルグリシ
ルクロライド４５、２５９　（０，２５モル）の溶液を
２時間以内に滴下により加え、次いで１１？、合物ｌを
・四に１２時間宰室温攪拌する。混合り′ηを各々の場
合に水７００　ｍｌ及び塩化ナトリウム溶液７００　ｍ
ｌで３回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、沖過し
ぞしてＬ：発させる。残留物をシクロヘキサン／酢酸エ
チル（６：４”）でシリカゲル上でどＩロマトグラフイ
ーにかける。Ｎ−［シス−（３ｓ、／ＩＳ’１−１−ア
リルー４−［（Ｒ）−２，２−ジメチル−１，３−ジオ
キソラン−４−イル）−２−オＡ゛ソー３−アビチジニ
ル〕−フタルイミド５０．’７が油とし７て得られる：
［α’］”　＝−１−１１５°（１）、　１３クロロホ
ルム中）。

ＮＭＩＭ（’Ｔ）ＣＩ、　）δ（ｒ）ｒ）ｍ）：　１．
２８（：ＨＴ、　ｓ　）、１．４１（３１１、Ｓ）、３
．３６−４．５（６１１”ｌ、５．８７（Ｎｌ、Ｃ１，
５Ｔ１ｚ）、５．１　Ｒ５，５（２Ｈ，ｍ、ＣＨｙ＝）
、５．６８−６．１６　（１Ｂ。

Ｉｎ、ＣＨ＝）、７．８７（４Ｈ，ｍ、Ａｒ）。

実施例８ 塩化メチレン３００３１／及び水３　Ｑ　ｍｌ中のＮ−
〔シス−（３８，４８）−１−アリル−４−［（ｆり一
２．２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）
−２−オキソ−３−アゼチジニルクーフタルイミド２５
．９　（７０，２ミ１，１モル）及び塩化パラジウム（
旧０．５　！？の懸濁液を攪拌しながら３時間還流条件
下に加熱する。冷却及び沖過後、有様相を分離し、水で
洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過しそし２て
蒸発させる。Ｎ−［シス−（３Ｓ、　４８　）−４−（
：（Ｒ）　　２　、２−’）メｆｉレ−１，３−ジオキ
ソラン−４−イル）−２−オキソ−１−（１−プロペニ
ル）−３−アゼチジニル〕−フタルイミド２４ｇがフオ
ームとして得られる：〔α］’１７＝＋７７．７°（ｃ
＝０．１５３クロロホルム中）。

ＮＭＲ（ＣＩ）ＣＩ、　）δ（ｐｐｍ）：　１．２６　
（３Ｈ１９、ＣＨ，）、１．４２　（３Ｈ，ｓ　、　Ｃ
ｌ１ｇ　）、１．７１（３）］、ｄ♂、１．５及び６．
５　）１’！　、　Ｃｌｌ５　）、３．３４−３．７６
　（２ＩＬ　＋ｎ、　　Ｃｆ１２）、３９７−４．５２
　（２Ｈ，ｍ、Ｈ４及びＣ１１）、５．３８（Ｉ　Ｈ，
ｄ、５．５Ｈ２Ｘ　Ｈ３）、５．６７−ｆｉ、０５（Ｉ
Ｈ，ｍ、　＝ＣＨ−Ｃ１（３）、６．４（ＩＦ（、（１
（１、１，５及び１４　Ｆｌｚ　、　＝Ｃｌ１−Ｎ’−
）、７．８２（４［ＩＸｍ、Ａｒ　）。

４′ｔり１１例９ アセｌ−ン５０　ｍｌ及び水５０ｒＲ１中のＮ−［ンス
ー（３Ｓ、　４５）−４−［（Ｒ）　−２、２−ジメチ
ル−１，３−ジオキソラン−４−イルツー２−オキソ−
１−（１−プロペニル）−３−アゼチジニルクーフタル
イミド０．３５６ｇ（１ミリモノ１．）及びピリジン０
．２６１＋１の溶液を、アセトン５０１、フ１１簀Ｊ＝
水５　（ｌ　ｗｅｔ中の過マンガン酸カリウム０．２２
．９　（１，４ミリモル）の危液で５°で攪拌しながら
滴下によシ処理する。３時間後、混合物を沖過しそして
ｐ液を蒸発させＺ）。残留物をシクロヘキサン／酢酸エ
チル（６：４）でシリカゲル上でクロマトグラフィーに
かける。Ｎ−［シス−（３Ｓ、４Ｓ’）−４−〔■−２
，２−ジメチルー１，３−ジオキソラン−４−イル〕−
２−オキソー３−アゼチジニル〕−７タルイミド０．２
９．９がフォームトシて得られる。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ　）δ（ｐｐｍ）　：　１．３　（
３ＩＩ、ｓ、ＣＨｓ）、１．４５　（３Ｈ，Ｓ、　ＣＨ
ｓ）、３．３−４．５　（４Ｂ１ｍ　）、５．４　（Ｉ
　ＨＸｔｌ、５．５Ｈ２，Ｈ，）、７．０（１Ｆ１、ｓ
、　−ＮＩ（）、７．９　（４Ｈ，Ａｒ　）。

実施例１０ ベンゼン２００　ｍ／中のアミノアセトアルデヒドジエ
チルアセタール３６　ｍｌ　（０，２５モル）及びペン
ズアルガヒド２５．２　ｍｌ　（０，２５モル）の溶液
を沸騰するまで加熱し、生成した水を５）内（Ｅする。

３５分後、混合物を蒸発づせる。残留物をテトラヒドロ
フラン４００ｍｔ中に活力・Ｔする。了：１られる浴？
！多介トリエチルアミン：（４゜７　ｍｌ　（０，２５
モル）で攪拌しなかＣつ一３０°で滴下に１、すαＪ！
Ｉ！−１−る。仄いで塩化メチレン６０　Ｑ　ｗｅｔ中
び）フタロイルグリシルクロライド５５．８．！Ｖ　Ｃ
（１，２５モル）のｆｉ゛；計を３１１．ｌＪ間以内に
滴下にＪ、り加え、次いて混・ａ物を（、ｆに３時間０
−５°で伶拌する。混合物を各々の場合に、７１Ｃ７０
Ｑ　ｗｅｔ及び水１シ１塩化ナトリウム’ｔＶ：液７０
１１　ｍｌで３１０Ｊ洗浄］７、＠１酸マグネシウム上
び乾燥１７１．ｌＴ過（７そして蒸発さぜる。結晶慴−
ダＱ留物をエーテル中に取込み、そして吸引下に炉別−
４−・″、）　ｔ、ＩＩ’；！点１２５−１２７°の白
色結晶どしてＮ−４ラヒミ−シス−１−（２，２−ジェ
トキシエチル）−２−オキソ−４−フェニル−３−ア−
Ｌ’　−ｆ−シニル〕−フタルイミ　ドがイードＣ）ノ
する。

同様な方法で、融点１３９−１４１°の白色結晶として
Ｎ−（ラセミ−シス−１−（２，２−ジメトキシエチル
）−２−オキソ−４−フェニル−３−アゼチジニル〕−
フタルイミドが得られる。

￥流側ＩＩ アセトニトリル５０＃Ｉ／中のＮ−Ｃラセミ、−シス−
１−（２，２−ジェトキシエチル）−２−オキソ−４−
フェニル−３−アゼチジニル〕−フタルイミド４．０８
ｇ（１０ミリモル）及びヨウ化ナトリウム４．５ｇ（３
０ミリモル）の溶液をトリメチルクロロシラン１．４ｍ
１（１１ミリモル）で攪拌しながら滴下により処理する
。黄色懸濁液を２０分間２０°で梢拌しそして蒸発さす
る。残留物を水２００１／及び酢酸エチル２　ｎ　Ｑ　
ｍｌ中に取込む。混合物を炭ｒニジ水未ナトリウムでｐ
Ｉ−１７になるように処理する。イ着、旬相を各量水２
００　ｍｌで３回逆洗Ｉ７（ｈａｃｋ−ｗａｓｈｒｄ　
）、硫酸マグネシウム−トチ乾燥１〜、流過し、そして
蒸発させる。々（１留物をシクロヘキサン／酢酸エチル
（２：８’）でンリヵゲル上でクロマトグラフィーにか
ける。ｕ’ｌ＋、？、ｊ　１８５−１８７ｕ　の黄色結
晶としてラセミコンス−２−オキソー４−フェニル−３
−フタルイミド−１−アゼチジンアセトアルデヒド２．
５　、！７が什られる。

実施例１２ ジオキサ７２５ｍｌ中のラセミ−シス−２−；１−キ７
−４−フェニルー３−７タルイミドー１−アゼチジンア
セトアルデヒド５．７９（１７ミリモル）、二酸化セレ
ン２．　Ｉ　、ｑ（Ｉ　９８９モル）及び酢酸１．５ｍ
１（２６ミリモル）の’Ｒ？”ａｉＰを］？ト拌１．な
がら４時間還流条件下に加熱する。冷ノＪ１及び濾過の
後、ろ液を炭酸水素ナトリウム２．１５．９で処理し７
、そして蒸発させる。残留物を酢酸エチル］　００　ｍ
（ｒ４１に取込みそし７て水で逆洗する。有機相を／、
背１）ト１、硫酸マグネシラノ・十で乾ヅ・■し、流過
（−千１．て蒸発させる。結晶性残留物をエーテル中に
取込みそして吸引下に炉別する。融点１４５″（分解）
の黄色がかった結晶としてラセミ−シス−１−（ジヒド
ロキシアセチル）−４−フェニル−３−フタルイミド−
２−アゼチジノン５Ｉが得られる。

実施例 塩化メチレン２０１＋７中のラセミ−シス−１−（ジヒ
ドロキシアセチル）−４−フェニル−３−フタルイミド
−２−アゼチジノン１ｇ（３ミリモル）の溶液を２０滴
の濃水酸化アンモニウム及び２０　ｍｌの水で攪拌しな
がら２０°で処理する。４時間後、相を分離し、そして
水性相を塩化メチレンで抽出する。−緒にし、た塩化メ
チレン溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥１７、流過しそ
して蒸発させる。白色結晶（Ｓｔ、残留物−６エーテル
中に取込み、そして吸引下に炉別する。融点２５３−２
５５°のラセミ−シス−４−フェニル−３−フタルイミ
ド−２−アゼチジノン０．８ｇがイ（Ｊらｉ７る。

実施例１４ ベンゼン１５０ｙｌ！中のβ−アミノエチルフェニル−
スルフィド７．６５，９（５０ミリモル）及びｐ　−ス
ルファモイルベンズアルデヒド９．２５．９（５゜ミリ
モル）の懸濁液を沸騰する壕で加熱する。反応の終了後
、混合１１りを蒸発さぜＺ）。ｈ１１晶ｔ１残留物をテ
トラヒドロフラン１００　ｍｌ中に溶解【２、待らり、
り溶液をアルゴン雰囲気中で−２０ｕ　＆で冷却１ソｔ
、て攪拌し々からｌ・リエチル了ミ７６．９ｎ〆（５０
ミリモル）で処理すみ。テトラヒドロフランＩｏ。

ｍｌ中のフタロイルグリシルクロライド１　’１．１　
、！７（５０ミリモル）の溶液を２時間以内に４）？Ｉ
下しく−より加え乙。次いで群合物を更に１２時間２０
°で攪拌する。混合物を蒸発させ、酌量エチル３００ｍ
１及び水３　ｎ　Ｏｍｔで抽出する。有（４相を水で洗
浄し、硫酸マグネシウム−１−で乾燥［７、流過１．そ
１−ｒ蒸発させる。ｖｌ）られた結晶性残留物を酢酸エ
チルで処理しそして吸引下に戸別する。融点２ｏ１−２
０３°の白色の結晶として、ｐ−［ラセミ−シス−２−
オキソ−１−（２−（フェニルチオ）−エチル〕−３−
フタルイミドー４−アゼチジニル〕−ベンゼンスルホン
アミド１９ｇが得うレる。

実施例１５ 、テトラヒドロフラン５００　ｍ／中のｐ−Ｃラセミ−
シス−２−オキソ−１−Ｃ２−（フェニルチオ）−エチ
ル〕−３−フタルイミドー４−アゼチジニル〕−ぺ／イ
ンスルホ／アミド８．４９（１６，ｓミリモル）の溶液
を９０係の３−クロロ過安息香酸３．１６１１６．５ミ
リモル）で攪拌しながら６０゜で１部分ずつ処理する。

１５分後、混合物を冷却し、そして蒸発させる。残留物
を酢酸エチル３０゜ｔｅｌ中に取込み、３チの水性炭酸
水素ナトリウム溶液で抽出しぞして水で中性になるまで
洗浄する。

有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして
蒸発させる。黄色がかった結晶性残留物を酢酸エチル中
に取込み、そして吸引下に戸別する。

融点１５８°　（分解）のｐ−［ラセミ−メス−２−オ
キソ−１−［２−（フェニルスルフィニルエチル）−３
−フタルイミド−４−アビチジニル］−ベンゼンスルホ
ンアミド８．５．９が得られる。

実施例１６ ヘキサメチルホスポールトリアミド２５ｍ１中のｐ−Ｃ
ラセミ−シス−２−オキソ−１−（２−（フェニルスル
フィニルエチル）−３−フタルイミド−４−アゼチジニ
ル〕−ベンゼンスルホンアミド５．８１１１．０８ミリ
モル）及びトリメチルホスファイト１．２４　ｍｌの懸
濁液を橙拌しながら１時間１５０°で加熱する。冷却後
、混合物を氷−水２００　ｍｌ中に注ぎ、そして酢ｒ′
ｉ、ｑ　ｘチ／ｌ／　２００　ｍｌで抽出する。有機相
を水で中性となＡ！で洗浄；７、硫酸マグネシウム上で
乾燥し、濾過し、そして蒸発させる。残留物をシクロヘ
キサン／酢酸エチル（６：４）でシリカゲルによりクロ
マトグラフィーにかける。融点１４４−１４６°の白色
結晶としてｐ−（ラセミ−トランス−２−オキソ−３−
フタルイミド−１−ビニル−４−アゼチジニル）−ベン
ゼンスルホンアミド０．９Ｉ及び融点１２０−１２３°
の淡いベージュ色の結晶としてｐ　−（ラセミ−シス−
２−オキソ−３−フタルイミド−１−ビニル−４−アゼ
チジニル）−ベンゼンスルホンアミド３ｇが得られる。

実施例１７ アセトン］ｌＩＱ＊／及び水１０　ｎ　ｍｌ中のｐ−（
ラセミ−シス−２−オキソ−３−７タルイミドー１−ビ
ニル−４−アゼチジニル）−ベンゼンスルホンアミド１
．３４Ｆ！（３３５ミリモル）の溶液をピリジン０，８
ゴで処理す２・。約５°で堺拌しながら、混合物をアセ
トン１００　ｆｆ／及び水ｉ　ｏ　ｏ　ｍｌ中の過マン
ガン酸カリウム０．７８．９の溶液で滴下により処理す
る。混合物を約５°で２時１ｉ−旧な拝し、珪り”Ｉ土
の上で濾過し１、そして泥液を参発づυ°２、。・残留
抄１をアセトン／シクロヘキサン（］　：　１　）ヲ使
用してシリカゲルによシクロマドグラフィーにかける。

ｐ−〔ラセミ−シス−２−オキソ−３−フタルイミド−
２−７ゼチジニル〕−ベンゼンスルホンアミドＩＩが白
色の結晶としてｖｌられる。

ＮＭＲ（Ｔ）ＭＳＯｄ、）δ（ｐｐｍ）　：　５．１８
　（ＩＨ，ｄ。

５．５Ｈｚ）、５．６８　（ＩＨＸｄ、　５．５　Ｈｚ
　）、７．１　６−７．４　５　　（４１（、ｍ、　　
Ａ　ｒ　−ｔ−Ｎｒｌｌ　）、７．６−７、Ｒ７（６Ｈ
１”％　Ａｒ　’）、９．０９（０１゜Ｓ、Ｃ０−ＮＨ
）。

実施例１８ 実施例１４と同様にし、て、Ｎ−〔ラセミ−シス−２−
オキソ−４−フェニル−１，−［２−（フゴニルチオ）
−エチル］−３−アセチジニル〕−フタルイミドが１！
＃られる。

ＮＭ［ＣＤＣ１，）δ（ｐｐｍ）　：　５．０８　（Ｈ
（、ｄ、　５．５Ｈ２）、５．４３　（ＩＨｌｄ、　５
．５１１２　）、７．０６−８（１４）１、ｍ５Ａｒ）
。

実施例１９ 実施例１５と同様にして、Ｎ−Ｃラセミ−シス−２−オ
キソ−４−フェニル−１−［２−（フェニルスルフィニ
ル）−エチル］　−３−７セーｆ−シニル〕−フタルイ
ξドがジアステレオイソマー混合物として得られる。

第１ジアステレオイソマー： ＮＭＲ（ＣＩ）ＣＩ、）δ（ｐｐｍ）　：　４．９３　
（０，５Ｈ，ｄ、　５ＨＥ）、５．３１　（０，５ｆｔ
、ｄｓ　５　Ｈｚ　）。

へ５２ジアステレオインマー： ＮＭＲ（ＣＤＣＩｇ　）δ（ｐｐｍ）　：　５．１８　
（０，５ＨＸｄ、　５Ｈ２）、５．５３　（０，５ＩＩ
、　ｄ、　５　Ｈ２）。

実施例２０ 実施例１６と同様Ｋ　Ｌ、で、融点１７Ｒ−１，７９゜
のＮ−（ラセミ−シス−２−オキソ−４−フェニル−１
−ビニル−３−アゼチジニル）−フタルイミドが得られ
る。

実施例２１ 実施例１７と同様にして、融点２４８−２５０゜のＮ−
（ラセミ−シス−２−オキソ−４−フェニル−３−アゼ
チジニル）−フタルイミドが４ｐらねる。

実施例２２ 塩化メチジ：’　２　ｎ　Ｏｍｌ中のＮ−ｒシス−（３
Ｓ１４　Ｓ　）−４−［（Ｒ）−２、２−ジメチル−１
，３−ジメキソランー４−イル〕−２−オキソ−１−（
１−プ［１ベニ刀））−３−アゼブージニル〕−フタル
イミド２０ｇ（５６ミリモル）の溶訃をメチ月・ヒドラ
ジン５．９謂／（１１９ミリ毛）【・）で／Ｊｌｌ、埋
する。

混合物を２時間攪拌しながら６０°に加熱する。

冷力１及び流過の後、温液を蒸発させる。残留物を塩化
メチレン２００　ｍｌ中に溶解１７、そして酸化ブチレ
ン１４．６　ｌｉｔで処理する。２０°　で攪拌しなが
ら、混合物をカルボベンゾキシクロライド１２ｍで滴下
により処理［７、そして−夜攪拌する。混合物を各量水
２００　ｍｇで３回洗浄し、喉、酸マグネシウム上で乾
燥し、流過し、そして蒸発させる。残留物をエーテル２
００　ＴＲｔで処理し、そして結晶性沈殿を吸引下に炉
別す７）。−さンジルシスー（３Ｓ。

４Ｓ　’１−４−［（Ｔａ−２，２−ジｌチルー１．３
−ジオキソラン−４−イル〕−２−オキソ−１−（１−
プロペニル）−３−アゼチジンカルバメイト１４．！’
１．９が７１られ７、；〔α〕％’＝＋８°　（Ｃ＝１
クロロホルム中）。

ＮＭＴ’？、　（ＣＤＣＩ　、　）δ（ｐｐｍ’）：１
．３５　（３ＦＴ、Ｓ、ＣｋＩ３）、１．４３　（３Ｔ
Ｉ、ｓ、ＣＨｓ）、１．６（３ｆ１、ｄ１６　）１　ｚ
、　Ｃ［Ｊｓ　）、３．６８−４．３２　（４Ｎ、　ｍ
　）、５．０３−５．２　（３Ｉ（Ｘｍ　）、５．５−
６．３　（３１１゜ｍ）、７，３　（ｓ　ｔＬ　Ａｒ　
）。

実施例２３ アセトン１５０ｍ／、水７５　ｒｎｅ及びジメトキシエ
タンｉ　５０　ｍｌ中のベンジルシス−（３Ｓ、４Ｂ”
）−４−〔（２）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソラン−４−イル〕−２−オキソ−）−（１−プロペニ
ル）−３−アゼチジンカルバメイト３２．７ｇ（９０，
８ミリモル）の活液を過マンガン酸カリウム２７．５９
（１７３，７ミリモル）で９０分以内に２０°　で攪拌
りながら処理する。反応容器の内部温度Ｈ６５０°より
低く保持さｉ］る。混合物を珪質上の上で流過し、そ［
て耐汗・を蒸発さぜる。残留物を塩化メチレン中に溶解
し、硫酸マグネシウム上で乾燥し１、流過１〜、そｌ〜
でＰ液を〃；発させる。

結晶性残留物をエーテル中に取込み、そして吸引下に戸
別する。ベンジルシス−（３Ｓ、４Ｓ）−４−〔■−２
，２−ジメチルー１．３−ジオキソラン−４−イル〕−
２−オキソー３−アゼチジンカルバメイト２０ｇが得ら
れる。

実施例２４ メタノール２０劇ｌ中のベンジルシス−（３８゜４Ｓ）
−４−［（団−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラ
ン−４−イル〕−２−オキソ−１−（１−プロペニル）
−３−アゼチジンカルバメイト１ｇ（２，７７ミリモル
）の溶液を一３０°に冷却し、そして１５分間オゾン６
ミリモルで処理する。次いで冷却手段を除去し、そして
混合物をジメチルスルフィド５　ｍｌで処理する。４時
間後、混合物を蒸発させる。残留物を塩化メチレン中に
溶解し、そして水で洗浄する。有機相を硫酸マグネシウ
ム上で乾燥し、耐過し、そして蒸発させる。

ベンジルシス−（３Ｓ　、　４８　）−４−［（Ｒ）−
２。

２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル〕−２
−オキソー１−ホルミル−３−アゼチジンカルバメイ）
０．９８ｇが得られる。

ＮＭＲ（ＣＩ）ＣＩ　Ａ　）δ（ｐｐｌｌｌ）　：　１
．３６　（３）１、Ｓ）、１、．３８　（３Ｈ，Ｓ　）
、４−４．５６　（４ＨＸｍ　）、５．１７（２）１１
ｓ　）、５．４１　５．６７（１，１（、ｑ）、６　（
ＮＦ（、ｄ　）、７．４　（５１−１、Ａｒｌ、８．８
７（ｌｌｉ、Ｓ）。

実施例２５ ベンジルシス−（３Ｓ　、　４　Ｓ　）−４−〔ｆｒｌ
）−２゜２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イ
ル〕−２−オキソー１−ホルミル−３−アゼチジンカル
バメイト０．１　ｇ（２，８ミリモル）を塩化メチレン
１０＃ＩＪ中に溶解する。２５係水性水酸化アンモニウ
ム溶液Ｑ、］　ｍｅと水５ｍｌの混合物の添加後、混合
物を５時間激しく拐拌−する。有機相を分肉Ｉ　Ｌ、そ
して水性相を各回塩化メチレン１０ｍ／で２回抽出する
。有機抽出物を一緒にし、硫酸マグネシウム上で乾燥し
、耐過し、そして蒸発させる。ぺ／ジルシスー（３Ｓ、
　４　Ｓ　）−４−［（Ｒ）−２、２−ジメチル−１，
３−ジオキソラン−４−イル〕−２−オキソー３−アゼ
チジンカルバメイト００８Ｉが得られる。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　ｓ　）δ（Ｐｐｍ’）　：　１．３
２　（３Ｈ，ｓ　）、１．４３（３）１．ｓ）、３．６
−４．４（４ＨＸｍ）、５．１２−５．２（３Ｂ、　ｍ
）、５．９３（１Ｂ、ｄ。

ＮＨ）、６．２２　（Ｉ　Ｈ，５ＸＮＨアゼチジン）。

実施例２６ Ｎ−４ラセミ−シス−１−アリル−２−オキソ−４−フ
ェニル−３−アセチジニル）−７タルイミド０．２！！
（６，２ミリモル）をメタノール中に溶解シ２、そして
実施例２４と同様にしてオゾンで処理する。融点１８３
−１８５°のラセミ−シス−２−オキソ−４−フェニル
−３−フタルイミド−１−アゼチジンアセトアルデヒド
ｏ、ｉｓｇが？Ｊられる。

実施例２７ 塩化メチレン１０１Ｉ／中のラセミ−シス−２−オキソ
−４−フェニル−３−フタルイミド−１−アゼチジンア
セトアルデヒド（１，１８，！ｉ’（５，３ミリモル）
の溶液を攪拌しながらモルホリン０．０４８　ｄで処理
する。２０°で１０分後、塩化メチレンを蒸発すせる。

粗ラセミーシス−１−（２−モルポリノービニル）−４
−フェニル−３−７タルイミドー２−アゼチジノンが油
として得られる。

ＮＭｒｔ（ＣＤＣＩ　、　）δ（ｐｐｍ”）：　〜２．
７Ｂ（４Ｂ、ｍ）、３．７１（４Ｈ，ｎ］）、５．１６
（ｌＩ’ｌＸｄ、Ｊ＝５Ｈｚ　）、５．７３　（ＩＨＸ
ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ　）、５．９６（’ＩＩ（、ｄ、　Ｊ
＝１３）１ｚ　）、６．０８（１）ＩＸｄＸＪ＝１３Ｈ
２）。

イリられた油をメタノール２０劇ｌ中に溶解し、そして
実施例２４と同様にしてオゾンで処理する。

ラセミ−シス−４−フェニル−３−フタルイミド−Ｉ−
ホルミル−２−アゼチジノン（１，１ｙ　カｖ？Ｊ　ラ
れる。

ＮＭＲ（ＣＩ）ＣＩ　、　）δ（ｐｐ＋ｎ）：　５．５
７　（１［１，（１，Ｊ　〜７ｒ（ｚ）、５．７７（Ｉ
Ｎ、（１％　Ｊ　〜７　Ｆｌｚ　）、７．２５　（５Ｈ
ｌＡｒ）、７．７５（４ｒｌ、Ａｒｌ、９．３Ｃ目Ｉ）
。

一ノ”　ｈｆ１例２８ 実バ１１例２７に従゛つて得られたラセミ−シス−４−
フェニル−３−フタルイミ）’　−１−Ｊルミルー２−
アゼチジノンを塩化メチレン中に溶１！＋１１、ぞして
２５チ水性水酸化アンモニウム溶液及び水で実ｔ７１’
ｉｉ例２５と同様にし７て処理する。フ′〃ｍ例１３に
１１ηつてイ１ｔら１１だ生成物と同一であるラセミ−
シス−４−フェニル−３−フクルイミ１′−２−アゼチ
ジノンが１１Ｌ１′−）ねる、。

第１頁の続き ２０５１００　　　　　　　　　７２４２−４　Ｃ２４
１１００）　　　　　　　　　６９７０−４Ｃ（Ｃ０７
Ｄ　４１７．／１２ ２０５１００　　　　　　　　　７２４２−４　Ｃ２７
７１００）　　　　　　　　　７３３０−４Ｃ優先権主
張　＠１９８３年７月１日■）スイス（ＣＨ）■３６４
３／８３−６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 式中、Ｒ′は低級２−アルケニルもしくけ１−アルケニ
   ルまたは式 ％式％（ （） （ ） （） の基を表わし　Ｒ４は低級アルキルを表わし　Ｒ９は第
   三低Ｍ環式脂肪族捷た（Ｊ脂肪族アミノ基を表わし、ｎ
   は数Ｏまたは１を表わり１、更にＲ２はアミノまたはア
   ミノに転化し得る基を表わし、そしてＲ１は低級有機、
   ％を表わし、ただし、Ｒ１がアミノを表わす場合、Ｒ１
   は低級２−゛アルケニルもしくは１−アルケニルまたは
   基（ａ）、（ｃ）及び（ｄ）の一つを表わすものとする
   、 のβ−ラクタム類。 ２、Ｒ１が低級２−アルケニルもしくは１−アルケニル
   または基（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）及び（ｄ）の一つを表
   わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３、Ｒ’７！ＩＥビニル、２−プロペニル（７Ｕル）、
   １−プロペニル、２．２−ジェトキシエチル、２゜２−
   ジェトキシエチル、ホルミルメチル、ジェトキシエチル
   、２−フェニルチオエチルまたは２−フェニルスルフイ
   ニルアルキルヲ表ワス特許請求の範囲第２項記載の化合
   物。 ４、　　Ｒ’　が２−プロペニルまりｔｉｌ−７’ロペ
   ニルを表わすｑ゛１許請求の範囲第２項記載の化合物。 ５、Ｒ’が２−モルホリノビニルマタハホルミルを表わ
   す特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ６、　　Ｒ″がアミン、アジド、フタルイミド、（低級
   アルキル）　　ＯＣＯＣＨ＝Ｃ（ＣＨｓ’）ＮＨ−まわ
   す特許ハ１１求の範囲第１〜５項のいずれかに記載の化
   合物。 ７、　Ｒ１がアミン、フタルイミド、ベンジルオキシカ
   ルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノまだけ
   ２−メトキシカルボニル−１−メチル−ビニルアミノを
   表わす特許請求の範囲第６項記載の化合物。 ８、　　Ｒ”が随時低級アルキル、１■（級アルコキシ
   、ハロゲン、シアノ、スルファモイルモジくハ低級アル
   キルスルボニルで置換されていてもよいスチリルまたに
   フェニル；低級シクロアルキル、低級アルコキシカルボ
   ニル、低級アルカノイル、低級アルカンチオイル或いは
   一般式 式中　Ｒ１１及びＲ丁は各々低級炭化水ヌく基を表わし
   、該第は随時酸素を含んでいてもよく且つ炭素原子を介
   して結合しており、これらの基は相互に結合して口を形
   成することもできる、 の基を表わす特許請求の範囲第１・〜７項のいずれかに
   記載の化合物。 ９、Ｒ’７５Ｅフェニル、スチリル、ｐ−シアノフェニ
   ル、ｐ−スルファモイルフェニル、Ｃ１〜。 ２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル〕を表
   わす！［テ許ｎ！１求の範囲第８項記載の化合物。 ］０．Ｎ−［：シスー（３３，４８）−１−アリル−４
   −１１（ｌυ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラ
   ン−４−イル〕−２−オキソー３−アゼチジニル〕−フ
   タルイミドであるＩ’ａ　ｆｔ’ｆ　請求の範囲第１項
   記載の化合物。 １１、Ｎ−Ｃシス−（３Ｓ　、４８　）−４−［（８）
   −２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル
   〕−２−オキソ−１−（１−プロペニル−３−アゼチジ
   ニル〕ー７タルイミドである特ｒ「肝１求の範囲第１項
   記載の化合物。 １２、　　ベンジルシス−（３Ｓ，４Ｓ）−４　−［：
   　（Ｒ）　−　２　、　２−ジメチル、−１．３−ジオ
   キソラ／−４−イル〕−２−オキソ−１−（１−）“ロ
   ペニ＃　）　−　３　−　７ゼチジンカルバメートであ
   る特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １３、　　ベンジルシス−（３Ｓ，４Ｓ）−４−〔（（
   支）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−
   イル〕ー２ーオキソー１ーホルミル−３−アゼチジンカ
   ルバメートである！［１１訂請求の範囲第１項記載の化
   合物。 １４、一般式 ％式％ （式中、Ｒｔ０ケアシト、フタルイミド又は基ＲＯＣＯ
   　ＣＨ−Ｃ　（　ＣＨｓ）ＮＨ−を表わ１７、そしてＲ
   は低級アルキルを表わす） のカルボン酸の反応性誘導体を塩基の存在下に、一般式 ％式％ （式中　Ｒ１１は低級２−アルケニル又は特許請求の範
   囲第１項記載の基（ａ）及び（ｄ）の１つを表わし、そ
   してＲ”は適宜低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲ
   ン、シアノ、スルファモイル又は低級アルキルスルボニ
   ルによ、！７置換されていてもよいスチリル又はフェニ
   ル；　”ｆ代Ｍシクロアルキル、低級アルコキシカルボ
   ニル、低級アルカノイル、低級アルカンチオイル又は一
   般式 （式中Ｒ８及びＲ７け各々低級炭化水素基を意味し、該
   第は適宜酸素を含有していてもよく、そして炭素原子を
   介して結合゛しておシ、これらの基は相互に結合して環
   を形成することもできる）の基を表わす１ の化合物と反応させ、所望により、このようにして得ら
   れた一般式 （式中、Ｒ”　、Ｒ’°及ヒＲｓｏｔ：ｆ　ｎｆＪ　記
   Ｌ　ｆｔ　１５１＋１５を有する） の化合物において、Ｒ目と１７で存在する低級２−アル
   ケニル基を対応する１−アルケニル基に又は基（ｅ）も
   しくはげ）に転化し又けＲ”として存在する基（ａ）を
   基（ｂ）もしく田ｃ）に転化しｖ　ｉｔ：　ＲＩ　＋と
   １〜て存在する基（ｒ＋）をビニル又ｉｔホルミル基に
   転４ｒ（シ、所望により、一般式 （式中、Ｒ′、Ｒｔ　Ｇ及びＲ３３０け前記Ｉ、た意味
   を有する） の得られる化合物の基Ｒ１０をアミン基に転換し、所望
   により、このようにして得られた一般式（式中、Ｒ１及
   びＲ１１Ｇは前記した意味を有する） の化合物を、基２を生じる試薬と反応させて一般式 ） の化合物を得、そして所望により、一般式（式中、ｒｔ
   ｌｌ、ＲｌＧ及び２はＦ）ｉＪ　ｆｅした意味を有する
   ） のイ１）られる化合物において、ＲＩ′（！−して存在
   する低級２−アルケニル基を対応する１−アルケニル基
   又は基（ｅ）もしくは（ｆｌに転化し又はＲ”と１．て
   存在する基ｋ）を基（１１）もしくけ（Ｃ）に転化［１
   、又はＲ′′として存在する基（ｄ）をビニルも［７〈
   けホルミル基に転化し１、所望により基Ｒ”をＲ３の意
   味内でその後更に転換することより成る、特許請求の範
   囲第１〜１３項の何れかに記載の化合物の１ｉｌｌ造方
   法。 １５、抗菌活性β−ラクタムＪ’ｆｊの製造のための特
   許請求の範囲第１〜１３項の何れかに記載σ）化合物の
   使用。 １６、一般式 （式中、Ｒ’は水素、低級アルキル又はカルボキシ−低
   級アルキルを表わし、そしてＲ１は低級有機基（たとえ
   ばカルバモイル又はカルバモイルオキシメチル）を表ｂ
   ｆ）の光学的に均一な抗菌活性β−ラクタム類又はこれ
   らの化合物の対応する光学対掌体のそれ自体公知の方法
   に従うηす造のだめの特許請求の範囲第１〜１３項の何
   れかに記載の化合物の使用。 １７、Ｒ’が１−メチル−１−カルボキシエチルを表わ
   し、そしてＲ３はカルノ（モイルオキシメチルを表わす
   、特許請求の範囲第１６項記載の式Ｖ］Ｌａの光学的に
   均一な抗菌活性β−ラクタム類のそれ自体公知の方法に
   従う製ＲＨのだめの４！Ｊ許請求の範囲第１〜１３項の
   何れかに記載の化合物の使用。 １８．１’がカルボキンメチルを表わし７、そしてＲ″
   がカルバモイルオキシメチルを表わす、特Ｆ’Ｕｔ求の
   範囲第１６項記載の式１ＡＬａの光学的に均一な抗菌活
   性β−ラクタム類１のそれ自体つト知の方法に従うル３
   造のだめのｑ゛！１許錆求の範囲第１〜１３項の何れか
   に記載の化合物の使用。 １９、抗菌活１′１β−ラクタム類の１＋！　ｉ４Ｈの
   だめの中間体としての’Ｉ’！ｒ許請求の範囲第１−１
   ３項の何れかに記載の化合物。 ２、特許請求の範囲第１４Ｊｌｉに記載の方法に従って
   又（１その明らかに化学的に均等な方法により１１１　
   ；ｉすされブζものである前ＷＩＬメ゛１のβ−ラクタ
   ム類。