JPS5950538A - ウエハ搬送装置 - Google Patents

ウエハ搬送装置

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JPS5950538A
JPS5950538A JP57160979A JP16097982A JPS5950538A JP S5950538 A JPS5950538 A JP S5950538A JP 57160979 A JP57160979 A JP 57160979A JP 16097982 A JP16097982 A JP 16097982A JP S5950538 A JPS5950538 A JP S5950538A
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motor
pulse
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、ウェハ搬送装置に係り、特にアームに設けら
れたウェハのせ部若し４はウェハチャック暑こ保持され
たウェハをアームの往復動により搬送するのに好適なウ
ェハ搬送装置番こ関する。
〔従来技術〕
従来、エツチング装置、プラズマＯＶＤ装置等（以下、
ベルト搬送装置と略）と、アームに設けられたウェハの
せ部若しくはメカニカルチャック、真空チャック等のウ
ェハチャックに保持されたウェハをアームの往復動によ
り搬送するウェハ搬送装Ｗ（以下、アーム搬送装置と略
）と、ウェハを、噴出する空気の推力で搬送するウェハ
搬送装置（以下、エアベアリングと略）等が慣用されて
いる。このようなウェハ搬送装置では、次のような欠点
があった。
（１）　　ベルト搬送装置、アーム搬送装置では、ウェ
ハ搬送時に駆動機構の摺動部分、回転部分で塵埃が発生
し、この塵埃がウェハに付着、堆積するため、ウェハの
歩留りが低下する。又、搬送速度の増大に伴って塵埃の
発生が増加するため、ウェハな高速搬送できず、従って
スループットが低下する。
（２）　　エアベアリングでは、ウェハの歩留０を向上
させるためには、空気の清浄度を極度に向上させる必要
があり、又、真空雰囲気下では使用することができない
。
〔発明の目的〕
本発明は、上記した従来技術の欠点を解消することで、
ウェハの歩留り並びにヌループゾトを向上できると共に
、真空雰囲気下で使用できるウェハ搬送装置を提供する
ことにある。
〔発明の概要〕
本発明の特徴は、ウェハ保持手段が設けられたアームと
、該アームを往復駆動するリニアパルスモークと、該リ
ニアパルスモータに接続すれたパルス発振器と、リニア
パルスモータの隙間保持具と、アームの往復動を案内す
るガイド具とでウェハ搬送装置を構成し、ウェハ搬送時
の塵埃の発生を抑制するようにしたことにある。
〔発明の実施例〕
本発明の一実施例を第１図〜慎５図により説明する。
第１図〜第５図で、処理室１０には、例えば、ゲートバ
ルブ加を介して予備室間が具設されてＬする。
処理室１０には、電極１１が固定して内設されると共に
、電極１１と上下方向に対向しウエノ）載置用電極（以
下、テーブルと略）　１２が回転可能に内設されている
。又、テーブル１２のウェハ装置位置にはウェハ昇降装
置１３が設けられている。一方、予備室（資）には、カ
セット載置用テーブル（以下、カセットテーブルと略）
３１が回転可能に内設され、又、ウェハ昇降装置１３と
対応する位置には、カセット昇降装置３２が設けられて
いる。リニアパルスモータ４０は、パルスモータ４１と
、クシ歯４２が一定間隔で形成されたスケール４３とで
構成され、又、パルスモータ４工は、永久磁石４４と電
磁石４５ａ　　、　４５ｂとで構成されている。尚、電
磁石４５ａ　、　　４５ｂのコイル４６ａ　、　４６ｂ
には、パルス発振器（資）が接続されている。ウェハ昇
降装置１３間並びにカセット昇降装置３２間の中央に対
応し、かつ、カセット昇降装置才子 ３２の反対側の位置で取付具６０が予備室３０に経設さ
れている。取付具６０には、スケール４３が、クシ歯４
２が形成された面を水平面として載置され数例けちれて
いる。スケール４３には、取ｆ寸具６１に数例けられた
パルスモータ４１が、取付具６０番こ設けられた軸６２
と、取付具６１に軸６２と対向する位置に設けられ、か
つ、軸６２に可動に嵌装される開放型リニアベアリング
６３とを介して取付けられている。この場合、リニアパ
ルスモータ４０の隙間、つまり、電磁石４５ａ　、　４
５ｂとクシ歯４２との間の隙間は、軸６２と開放型リニ
アベアリング６３とにより適正に保持されている。又、
アーム７０の一端には、取付具６１が設けられ、アーム
７０他端には、ウェハ昇降装置１３並びにカセット昇降
装置３２に対応した位置でウェハ保持手段、例えば、ウ
ェハのせ部（以下、のせ部と略）７１が設けられている
。
まず、予備室（資）からの処理室１０へのウェハ８０の
搬送について説明する。
処理室１０は、ゲートバルブ旬を閉止した状態で所定圧
力まで減圧される。一方、予備室側は大気開放され、そ
の状態で、ウェハ８０が填装されたカセット９０が、二
の場合は、８個予備室（９）に搬入される。搬入された
カセット９０は、カセットテーブル３１が９０度回動す
ることで、カセット昇降装置ｎに対応するようにカセッ
トテーブル３１に２個１組で載置される。カセット９０
の予備室（９）への搬入及びカセットテーブル３１への
載置が完了した時点で予備室（９）は閉止され、処理室
ｌＯの圧力と同程度の圧力まで減圧される。その後、ゲ
ートバルブ加は開放される。
カセット昇降装置３２によ０カセゾト９０を所定量降下
させることで、ウェハ８０は、のせ部７１１こ受取られ
る。一方、パルスモータ４１の、例えば、電磁石４５ａ
にパルス発振器５０からパルスを付与することで、パル
スモータ４１は、パルス数に対応して処理室１０側へ移
動する。この際、電磁石４５ａとスケール４３との間に
は、推力と同程度の吸引力が働ｑが、しかし、電磁石４
５ａとクシ歯４２との間の隙間は、軸６２と開放型リニ
アベアリング６３とにより適正に保持され、又、アーム
７０、つまり、パルスモータ４１の移動は、軸６２と開
放型リニアベアリング６３とにより良好に案内される。
このようにパルスモータ４１が処理室ＩＯ側へ移動する
ことで、ウェハ８０を受取ったのせ部７１はアーム７０
を介して処理室１０側へと移動する。この移、動により
ウェハ８０を受取ったのせ部７１がウェハ昇降装置１３
と対応する位置に到達すれば、電磁石４５ａヘのパルス
の付与が遮断される。これによりウェハ８０を受取った
のせ部７１は、ウエノ１昇降装置１３と対応する位置で
停止する。その後、ウエノ１昇降装置１３を上昇させる
ことで、ウニ／−８０は、のせ部７１からウェハ昇降装
置１３１こ受取られる。一方、ウェハ８０を除去された
のせ部７１は、電磁石４５ｂ（ニア４Ｆ）レス発振器５
０よりパルスを伺与することで予備室（９）側へ移動す
る。ウエノ１昇降装置１３１こ受取られたウェハ８０の
降下を阻害しない位置までのせ部７１が移動した時点で
、ウエノ１昇降装置１３は降下され、その結果、ウェハ
８０は、テーブル１２に載置される。
又、のせ部７１は、カセット昇降装置３２と対応する位
置に到達した時点で、電磁石４５ｂへのｉ＜）レスの付
与が遮断され、その位置で良好に停止される。
このような操作を順次繰返す二とで、カセ・ノド９０に
装填されているウェノ１８０は、この場合は、２枚毎カ
セット９０から取出されてテーブル１２に載置される。
又、処理室ｌＯでの処理が完ｒしたウニ／’＋　ｓｏは
、上記した操作とは逆操作により処理室１０から予備室
３０へ搬送されてカセット９０に２枚毎回収される。
本実施例のようなウェハ搬送装置では、次のような効果
が得られる。
（１）　　アームに設けられたのせ部をリニアパルスモ
ータで非接触にこ往復動でき、又、その往復動は。
開放型リニアベアリングで案内されるので、ウェハ搬送
時の塵埃の発生を搬送速度ｌこよらず抑制でき、従って
、ウェハの歩留並びにスループットを向上できる。
（２）　　リニアパルスモータ、開放型リニアベアリン
グ共に真空中への設置並びに真空中での作用に問題はな
４、従来のベルト搬送装置、アーム搬送装置と同様に真
空雰囲気下で良好に使用できる。
（３）スケールにクシ歯を形成しているので、のせ部の
往復動を高精度に行うことができる。
本発明の他の実施例を第６図〜第８図により説明する。
尚、第６図〜第８図で第１図〜第５図と同一装置、部品
等は同一符号で示し説明を省略する。
第６図〜第８図で、パルスモータ４１は、予備室（ト）
に特設された取付具６０′に設けられた取付具６１′に
永久磁石４４並びに電磁石４５ａ　、　４５ｂの表面を
垂直面として取付けられている。一方、クシ歯４２が一
定間隔で形成されたスケール４３は、クシ歯４２と永久
磁石４４並びに電磁石４５ａ　、　４５ｂとが対向して
アーム７０の一端側に列設されている。尚、この場合は
、リニアパルスモータ旬の隙間、つま％）、電磁石４５
ａ　、　４５ｂとクシ歯４２との間の隙間は、取付具６
１’にクシ歯４２と対向して設けられたストレート型リ
ニアベアリング６４により適正に保持され、又、アーム
７０の往復動、っま１〕、スケール４３の往復動は、取
付具６１’にスケール４３の両側面を挾持して設けられ
た案内ベアリング６５により案内される。
本実施例のようなウェハ搬送装置では、更に次のような
効果が得られる。
（１）　　パルスモータが固定されているため、パルス
モータとパルス発振器との接続が簡単化できる。
（２）　　アームにはスケールが列設されているため。
可動部分を更に軽量化でき、従って、搬送速度を更に向
上できる。
尚、リニアパルスモータの隙間保持具並びにアームの往
復動を案内するガイド具として、ころがりベアリングを
用いても良い。
このように、ころがりベアリングを用いる場合は、リニ
アベアリングを用いる場合に比べ塵埃の発生量は幾分増
すが、しかし、構造が簡単で、かつ、安価になるという
効果が得られる。
又、ウェハ保持手段は、この他に、メカニカルフェノＸ チャック、真空チャック等のｈキ＝＃−１ｂ−チャック
であっても良い。
〔発明の効果〕
本発明は、以上説明したように、ウェハ保持手段が設け
られたアームと、該アームを往復駆動するリニアパルス
モータと、該リニアパルスモータ番こ接続されたパルス
発振器と、リニアパルスモータの隙間保持具と、アーム
の往復Ｕ１を案内するガイド具とで構成したことで、ウ
ェハ搬送時の塵埃の発生を搬送速度によらず抑制できる
ので、ウェハの歩留り並びにスループットを向上できる
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図ないし第５図は、本発明暑こよるウェハ搬送装置
の一実施例を説明するもので、第１図は、本発明による
ウェハ搬送装置を適用したエツチング装置の縦断面図、
第２図は、第１図のＡ−Ａ視断面図、第３図は、リニア
パルスモータの構成図、第４図は、第２図のＢ−Ｂ視断
面図、第５図は第２図の０−０視断面図、第６図ないし
第８図は、本発明によるウェハ搬送装置の他の実施例を
説明するもので、第６図は、本発明ｉこよる他のウェハ
搬送装置を適用したエツチング装置の縦断面図、第７図
は、第６図のＤ−Ｄ視断面図、第８図は、第６図のｇ−
Ｅ視断面図である。 ４０・、・１．・リニアパルスモータ、　４１・・・・
・・パルスモータ、４２・・・・・・クシ歯、４３・・
・・・・スケール、４４・・・・・・永久磁石、４５ａ
　、　４５ｂ・・・・・・電磁石、４６ａ　、　４６ｂ
・・・・・・コイル、５０・・・・・・パルス発振器、
６０．６０’　、６１．６１’・・・・・・取付具、６
２・・・・・・軸、６３・・・・・・開放型リニアベア
リング、６４・・・・・・ストレート型リニアベアリン
グ、６５・・・案内ベアリング、７０・・・・・・アー
ム、７１・・・・・・すくい部代理人　弁理士　　薄　
１）利　幸 業３図 す４図 テ５０

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １、　ウェハ保持手段が設けられたアームと、該アーム
    を往復駆動するリニアパルスモークと、該リニアパルス
    モータに接続されたパルス発振器と、前記リニアパルス
    モータの隙間保持具と、前記アームの往復動を案内する
    ガイド具とで構成したことを特徴とするウェハ搬送装置
    。
JP57160979A 1982-09-17 1982-09-17 ウエハ搬送装置 Granted JPS5950538A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57160979A JPS5950538A (ja) 1982-09-17 1982-09-17 ウエハ搬送装置
US06/528,660 US4664578A (en) 1982-09-17 1983-09-01 Semiconductor substrate transport system

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57160979A JPS5950538A (ja) 1982-09-17 1982-09-17 ウエハ搬送装置

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Publication Number Publication Date
JPS5950538A true JPS5950538A (ja) 1984-03-23
JPH0352220B2 JPH0352220B2 (ja) 1991-08-09

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ID=15726261

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