JPS5949231B2 - フタライドの製造方法 - Google Patents
フタライドの製造方法Info
- Publication number
- JPS5949231B2 JPS5949231B2 JP6068079A JP6068079A JPS5949231B2 JP S5949231 B2 JPS5949231 B2 JP S5949231B2 JP 6068079 A JP6068079 A JP 6068079A JP 6068079 A JP6068079 A JP 6068079A JP S5949231 B2 JPS5949231 B2 JP S5949231B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- benzene
- bis
- water
- dihalomethyl
- ether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/35—Nc in input of data, input till input file format
- G05B2219/35436—Means, manual input, input reference, hand wheel
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/50—Machine tool, machine tool null till machine tool work handling
- G05B2219/50353—Tool, probe inclination, orientation to surface, posture, attitude
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
プタラードは抗うつ病剤等の医薬あるいは抗生物質の化
学修飾剤等の各種医薬中間体として有用な化合物である
。
学修飾剤等の各種医薬中間体として有用な化合物である
。
しかして、該プタラードの代表的な製造方法として、1
無水フタル酸法、2フタルイミド法、31.2−ビス(
ジハロメチル)ベンゼン法等が挙げられる。かかる方法
の中で1は高圧下における水添反応であり、設備負担が
非常に大であること、2は反応工程が数段階に及びその
工程管理面で操作負担が高いこと等の問題点がある。そ
こで本発明者等は1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼ
ンを出発原料とするプタラードの製造法について研究を
行なつた。
無水フタル酸法、2フタルイミド法、31.2−ビス(
ジハロメチル)ベンゼン法等が挙げられる。かかる方法
の中で1は高圧下における水添反応であり、設備負担が
非常に大であること、2は反応工程が数段階に及びその
工程管理面で操作負担が高いこと等の問題点がある。そ
こで本発明者等は1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼ
ンを出発原料とするプタラードの製造法について研究を
行なつた。
上記原料は0−キシレンをハロゲンでハロゲン化するこ
とにより安価に又容易に得られる化合物であるので、そ
の工業的価値は非常に大きいと考えられる。従来、1.
2−ビス(ジハロメチル)ベンゼンからプタラードを製
造する方法としては、例えばAnn、Chim、(pa
ris)〔11〕 1、181、211(1934に、
102−ビス(ジブロモメチル)ベンゼンとそれの3倍
量の濃硫酸とを120℃前後の高温で加熱する方法、B
er、18、2880に、1.2−ビス(ジクロロメチ
ル)ベンゼンを水の存在下に封管中で200〜210℃
に加熱する方法等が知られている。
とにより安価に又容易に得られる化合物であるので、そ
の工業的価値は非常に大きいと考えられる。従来、1.
2−ビス(ジハロメチル)ベンゼンからプタラードを製
造する方法としては、例えばAnn、Chim、(pa
ris)〔11〕 1、181、211(1934に、
102−ビス(ジブロモメチル)ベンゼンとそれの3倍
量の濃硫酸とを120℃前後の高温で加熱する方法、B
er、18、2880に、1.2−ビス(ジクロロメチ
ル)ベンゼンを水の存在下に封管中で200〜210℃
に加熱する方法等が知られている。
しかしながら、かかる方法はいずれも過酷な製造条件を
必要とするので工業的な製造法として採用することは困
難である。そこで本発明者等は比較的温和な反応条件下
で、1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼンからプタラ
ードを製造することを目的として鋭意研究を重ねたとこ
ろ、水−エーテル混合溶媒中で1.2ービス(ジクロロ
メチル)ベンゼンあるいは1.2−ビス(ジブロモメチ
ル)ベンゼン等の1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼ
ンとアルカリとを反応させて、2−ヒドロキシメチル安
息香酸のアルカリ塩帝生成させ、次いで酸処理をする場
合、容易に目的が達成出来ることを見出し本発明を完成
するに至つた。本発明の第1の特徴は1.2−ビス(ジ
ハロメチル)ベンゼンとアルカリとの反応を水−エーテ
ル混合溶媒中で行なうことである。
必要とするので工業的な製造法として採用することは困
難である。そこで本発明者等は比較的温和な反応条件下
で、1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼンからプタラ
ードを製造することを目的として鋭意研究を重ねたとこ
ろ、水−エーテル混合溶媒中で1.2ービス(ジクロロ
メチル)ベンゼンあるいは1.2−ビス(ジブロモメチ
ル)ベンゼン等の1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼ
ンとアルカリとを反応させて、2−ヒドロキシメチル安
息香酸のアルカリ塩帝生成させ、次いで酸処理をする場
合、容易に目的が達成出来ることを見出し本発明を完成
するに至つた。本発明の第1の特徴は1.2−ビス(ジ
ハロメチル)ベンゼンとアルカリとの反応を水−エーテ
ル混合溶媒中で行なうことである。
水又はエーテル単独系ではいずれの場合もプタラードの
収率が非常に低く実用に供し得ない。又、本発明におい
て水とエーテルとの混合比は容量基準で水/工ーテル=
1/ 0.1〜1好ましくは1/ 0.2〜0.6であ
り、かかる混合比の場合、最も収率が高くなる。使用出
来るエーテルとしてはジオキサン、テトラヒドロフラン
、ジメチルセロソルブ、ジエチルセロソルブ、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、セロソルブアセテート等が挙げられ
、ジオキサンが好適に使用される。勿論本発明の趣旨を
損わない範囲内で、水、エーテル以外の水と相溶性のあ
る他の溶剤を存在せしめることも可能である。本願の第
2の特徴は1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼンとア
ルカリとを加熱反応させることである。アルカリとして
は普通水溶性のアルカリが用いられ、その例としそは水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。アル
カリの使用量は1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼン
1モルに対して7〜15モル好ましくは8〜10モルの
範囲が適当である。加熱温度は50〜C以上から還流温
度の範囲、又反応時間は50〜100時間好ましくは7
0〜90時間の範囲からそれぞれ選ばれる。反応は混合
溶媒中で1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼンとアル
カリを加熱すれば良いのであるが、原料の仕込みは通常
、アルカリは水に溶解した水溶液とし、一方、1.2−
ビス(ジハロメチル)ベンゼンはエーテルに溶解した溶
液として別途に調製し、それらを反応器に仕込む方法が
採用される。
収率が非常に低く実用に供し得ない。又、本発明におい
て水とエーテルとの混合比は容量基準で水/工ーテル=
1/ 0.1〜1好ましくは1/ 0.2〜0.6であ
り、かかる混合比の場合、最も収率が高くなる。使用出
来るエーテルとしてはジオキサン、テトラヒドロフラン
、ジメチルセロソルブ、ジエチルセロソルブ、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、セロソルブアセテート等が挙げられ
、ジオキサンが好適に使用される。勿論本発明の趣旨を
損わない範囲内で、水、エーテル以外の水と相溶性のあ
る他の溶剤を存在せしめることも可能である。本願の第
2の特徴は1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼンとア
ルカリとを加熱反応させることである。アルカリとして
は普通水溶性のアルカリが用いられ、その例としそは水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。アル
カリの使用量は1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼン
1モルに対して7〜15モル好ましくは8〜10モルの
範囲が適当である。加熱温度は50〜C以上から還流温
度の範囲、又反応時間は50〜100時間好ましくは7
0〜90時間の範囲からそれぞれ選ばれる。反応は混合
溶媒中で1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼンとアル
カリを加熱すれば良いのであるが、原料の仕込みは通常
、アルカリは水に溶解した水溶液とし、一方、1.2−
ビス(ジハロメチル)ベンゼンはエーテルに溶解した溶
液として別途に調製し、それらを反応器に仕込む方法が
採用される。
前記説明した如く1.2−ビス(ジハロメチル)ベンゼ
ンとアルカリとを水−エーテル溶媒中で反応させると系
中には中間体として2一ヒドロキシメチル安息香酸塩が
生成する。その中間体を塩酸等の鉱酸で処理すると容易
に目的とするプタラードが収得出来る。酸処理は上記反
応終了液に直接、酸を添加しても良いが、プタラードの
品質面を考慮すると、次の様な操作を採用することが望
ましい。すなわち2−ヒドロキシメチル安息香酸塩の水
一エーテル混合溶液に、エーテルとは相溶性があるが水
とは相溶性を有しない有機溶媒例えば酢酸エチル、ベン
ゼン等を加えて有機溶媒層と水層とに分離すると2−ヒ
ドロキシメチル安息香酸塩は水層部に移行するのでこれ
に塩酸等の適当な鉱酸を…が1程度になる様に添加すれ
ば、2−ヒドロキシメチル安息香酸塩がプタラードに変
化する。この際収率を向上させるために必要であれば…
調整後、数時間程度、系を還流下に加熱することも可能
である。生成プタラードの採取に際しては、同時に使用
酸に対応する無機塩が副生しており単に水溶液を蒸発乾
個したのではプタラード中に無機塩が混入し、プタラー
ドの精製が不可欠となるので、通常は、ベンゼン、酢酸
エチル、エチルエーテル等の水と相溶性がなく、しかも
プタラードは溶解するが無機塩は溶解しない有機溶媒を
用いてフライトを抽出分離する。この抽出液中の有機溶
媒を留去すれば目的とするプタラードの結晶が高純度で
得られる。かくして得られるプタラードは純度が高く高
品位のものであるが、必要であれば更に再結晶等の適当
な精製操作を実施することによつて、品質をより向上さ
せることが出来る。
ンとアルカリとを水−エーテル溶媒中で反応させると系
中には中間体として2一ヒドロキシメチル安息香酸塩が
生成する。その中間体を塩酸等の鉱酸で処理すると容易
に目的とするプタラードが収得出来る。酸処理は上記反
応終了液に直接、酸を添加しても良いが、プタラードの
品質面を考慮すると、次の様な操作を採用することが望
ましい。すなわち2−ヒドロキシメチル安息香酸塩の水
一エーテル混合溶液に、エーテルとは相溶性があるが水
とは相溶性を有しない有機溶媒例えば酢酸エチル、ベン
ゼン等を加えて有機溶媒層と水層とに分離すると2−ヒ
ドロキシメチル安息香酸塩は水層部に移行するのでこれ
に塩酸等の適当な鉱酸を…が1程度になる様に添加すれ
ば、2−ヒドロキシメチル安息香酸塩がプタラードに変
化する。この際収率を向上させるために必要であれば…
調整後、数時間程度、系を還流下に加熱することも可能
である。生成プタラードの採取に際しては、同時に使用
酸に対応する無機塩が副生しており単に水溶液を蒸発乾
個したのではプタラード中に無機塩が混入し、プタラー
ドの精製が不可欠となるので、通常は、ベンゼン、酢酸
エチル、エチルエーテル等の水と相溶性がなく、しかも
プタラードは溶解するが無機塩は溶解しない有機溶媒を
用いてフライトを抽出分離する。この抽出液中の有機溶
媒を留去すれば目的とするプタラードの結晶が高純度で
得られる。かくして得られるプタラードは純度が高く高
品位のものであるが、必要であれば更に再結晶等の適当
な精製操作を実施することによつて、品質をより向上さ
せることが出来る。
次に実例を挙げて本発明の方法を更に詳しく説明する。
実施例 1
500dの反応容器に、水酸化ナトリウム16g(0.
4モル)を水240dにとかした溶液を仕込んだ。
4モル)を水240dにとかした溶液を仕込んだ。
更にジオキサン120TIIIに1.2−ビス(ジクロ
ロメチル)ベンゼン12.29(0.05モル)を溶解
した溶液を追加し撹拌下に70時間加熱還流させた。次
いでベンゼン200dを加え水層部をベンゼンージオキ
サン混合層から分離した。上記水層に35%塩酸を系の
…が1となるまで添加し、更に1時間加熱還流し、2−
ヒドロキシメチル安息香酸ナトリウムをプタラードに変
化させた。次いで該液にベンゼン200dを添加してプ
タラードを抽出した。抽出液からベンゼンを留去すると
プタラードの粗結晶5.39(1.2−ビス(ジクロロ
メチル)ベンゼンに対する収率は(7.9%)を得た。
粗結晶をイソプロピルアルコールにて再結晶して、精製
プタラード5.0f1を得た。該プタラードの融点72
〜74℃であつた。実施例2〜9対照例1〜2次表に示
す如き条件で実施例1に準じて実験を行つた。
ロメチル)ベンゼン12.29(0.05モル)を溶解
した溶液を追加し撹拌下に70時間加熱還流させた。次
いでベンゼン200dを加え水層部をベンゼンージオキ
サン混合層から分離した。上記水層に35%塩酸を系の
…が1となるまで添加し、更に1時間加熱還流し、2−
ヒドロキシメチル安息香酸ナトリウムをプタラードに変
化させた。次いで該液にベンゼン200dを添加してプ
タラードを抽出した。抽出液からベンゼンを留去すると
プタラードの粗結晶5.39(1.2−ビス(ジクロロ
メチル)ベンゼンに対する収率は(7.9%)を得た。
粗結晶をイソプロピルアルコールにて再結晶して、精製
プタラード5.0f1を得た。該プタラードの融点72
〜74℃であつた。実施例2〜9対照例1〜2次表に示
す如き条件で実施例1に準じて実験を行つた。
Claims (1)
- 1 水−エーテル混合溶媒中で1.2−ビス(ジハロメ
チル)ベンゼンとアルカリとを反応させて2−ヒドロキ
シメチル安息香酸のアルカリ塩を生成させ、次いで酸処
理をすることを特徴とするフタライドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6068079A JPS5949231B2 (ja) | 1979-05-16 | 1979-05-16 | フタライドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6068079A JPS5949231B2 (ja) | 1979-05-16 | 1979-05-16 | フタライドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55151579A JPS55151579A (en) | 1980-11-26 |
JPS5949231B2 true JPS5949231B2 (ja) | 1984-12-01 |
Family
ID=13149265
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6068079A Expired JPS5949231B2 (ja) | 1979-05-16 | 1979-05-16 | フタライドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5949231B2 (ja) |
-
1979
- 1979-05-16 JP JP6068079A patent/JPS5949231B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55151579A (en) | 1980-11-26 |
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