JPS5942667B2 - ビシクロヘプテン誘導体およびその製法 - Google Patents
ビシクロヘプテン誘導体およびその製法Info
- Publication number
- JPS5942667B2 JPS5942667B2 JP1804678A JP1804678A JPS5942667B2 JP S5942667 B2 JPS5942667 B2 JP S5942667B2 JP 1804678 A JP1804678 A JP 1804678A JP 1804678 A JP1804678 A JP 1804678A JP S5942667 B2 JPS5942667 B2 JP S5942667B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carboxylic acid
- hept
- ene
- ester
- alkyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
ＣＨ−ＣＨ−Ｃ−ＣＯＯＲ２
〔Ｉ〕
１１（・・
ＣＨ−ＣＨ−ＣＨ２
（但し、Ｒ１はアルキル基、Ｒ２はアルキル基またはア
ラルキル基を表わす。
ラルキル基を表わす。
）で示される２−アシルアミノビシクロ〔２，２，１〕
ヘプト一５−エン一２−カルボン酸エステルおよびその
製法に関する。
ヘプト一５−エン一２−カルボン酸エステルおよびその
製法に関する。
本発明の化合物〔１〕は抗潰瘍作用を有する有用な医薬
化合物である。
化合物である。
本発明の化合物は上記一般式山で示される化合物であつ
て例えば一般式〔１〕においてＲ１で示されるアルキル
基がメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基
等の低級アルキル基であり、Ｒ２で示されるアルキル基
またはアラルキル基がメチル基、エチル基、プロピル基
、イソプロピル基、ブチル基等の低級アルキル基である
か、あるいはベンジル基、フエネチル基等のフエニル低
級アルキル基である化合物があげられ、これらはいずれ
も新規化合物である。
て例えば一般式〔１〕においてＲ１で示されるアルキル
基がメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基
等の低級アルキル基であり、Ｒ２で示されるアルキル基
またはアラルキル基がメチル基、エチル基、プロピル基
、イソプロピル基、ブチル基等の低級アルキル基である
か、あるいはベンジル基、フエネチル基等のフエニル低
級アルキル基である化合物があげられ、これらはいずれ
も新規化合物である。
本発明の化合物〔１〕は下記反応式に従つて製造するこ
とが出来る。
とが出来る。
（…）
（但し、Ｒ１およびＲ２は前記と同一意味を表わす。
）すなわちシクロペンタジエン〔〕とＮ−アシルデヒド
ロアラニンエステル〔〕とを反応させることにより化合
物〔１〕を製することが出来る。
ロアラニンエステル〔〕とを反応させることにより化合
物〔１〕を製することが出来る。
本発明において、一方の原料たるＮ−アシルデヒドロア
ラニンエステルとしては上記一般式〔〕中Ｒ１およびＲ
２が前記と同様の基である化合物があげられる。シクロ
ペンタジエン〔〕とＮ−アシルデヒドロアラニンエステ
ル〔〕との反応は適当な溶媒中触媒の存在下または非存
在下に実施するとよい。
ラニンエステルとしては上記一般式〔〕中Ｒ１およびＲ
２が前記と同様の基である化合物があげられる。シクロ
ペンタジエン〔〕とＮ−アシルデヒドロアラニンエステ
ル〔〕との反応は適当な溶媒中触媒の存在下または非存
在下に実施するとよい。
触媒としては例えば塩化第二鉄、塩化アルミニウム等を
好適に用いることが出来、この場合反応は約８０〜５『
Ｃ附近にて好適に進行する。また触媒を用いない場合反
応は約５『Ｃ〜２００℃附近とりわけ１００℃以上で好
適に進行する。いずれの場合にも反応時間は約２〜１０
時間程度であればよい。反応溶媒としては例えばトルエ
ン、キシレン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド等を
適宜使用することが出来る。かくして生成した化合物山
は下記構造式で示されるようにエキソ型化合物〔１ａ〕
とエンド型化合物〔Ｉｂ〕の２種混合物として得られる
が、両者は例えば抽出、再結晶、シリカゲルカラムクロ
マトグラフイ一等の公知分離操作に附すことにより容易
に分離取得することが出来る。
好適に用いることが出来、この場合反応は約８０〜５『
Ｃ附近にて好適に進行する。また触媒を用いない場合反
応は約５『Ｃ〜２００℃附近とりわけ１００℃以上で好
適に進行する。いずれの場合にも反応時間は約２〜１０
時間程度であればよい。反応溶媒としては例えばトルエ
ン、キシレン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド等を
適宜使用することが出来る。かくして生成した化合物山
は下記構造式で示されるようにエキソ型化合物〔１ａ〕
とエンド型化合物〔Ｉｂ〕の２種混合物として得られる
が、両者は例えば抽出、再結晶、シリカゲルカラムクロ
マトグラフイ一等の公知分離操作に附すことにより容易
に分離取得することが出来る。
実施例 １
Ｎ−アセチルデヒドロアラニンエチルエステル１．５７
９、シクロペンタジエン３．３９をトルエン２０ｍ１に
溶解し、５時間加熱還流する。
９、シクロペンタジエン３．３９をトルエン２０ｍ１に
溶解し、５時間加熱還流する。
反応液を減圧下に濃縮し得られる残留分をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフイ一に附す。ベンゼンーアセトン（
５：２）で溶出し、溶出液を減圧下に濃縮することによ
り、２−エキソアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプ
ト一５−エン一２−カルボン酸エチルエステルと２−エ
ンドアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５−エ
ン一２−カルボン酸エチルエステルの混合物（２：３）
１．４５９を得る。収率６７ＣＩ）。Ｍｐ．ｌ２４〜１
２６℃ 本品をシリカゲルカラムに導通し、ベンゼンアセトン（
５：１）で溶出すると最初にエンド型化合物が溶出して
くるので、この区分を集め減圧下に濃縮することにより
、２−エンドアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト
一５−エン一２−カルボン酸エチルエステル０．８９を
得る。
ラムクロマトグラフイ一に附す。ベンゼンーアセトン（
５：２）で溶出し、溶出液を減圧下に濃縮することによ
り、２−エキソアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプ
ト一５−エン一２−カルボン酸エチルエステルと２−エ
ンドアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５−エ
ン一２−カルボン酸エチルエステルの混合物（２：３）
１．４５９を得る。収率６７ＣＩ）。Ｍｐ．ｌ２４〜１
２６℃ 本品をシリカゲルカラムに導通し、ベンゼンアセトン（
５：１）で溶出すると最初にエンド型化合物が溶出して
くるので、この区分を集め減圧下に濃縮することにより
、２−エンドアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト
一５−エン一２−カルボン酸エチルエステル０．８９を
得る。
続いてエキソ型化合物が溶出してくるので、この区分を
集め減圧下に濃縮することにより２−エキソアセタミド
ビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５エン一２−カルボン
酸エチルエステル０．４５９を得る。実施例 ２ Ｎ−アセチル−デヒドロアラニンエチルエステル４．６
９とシクロペンタジエン１．３ｍｅを四塩化炭素５０ｍ
１に溶解し、かくはん下に塩化アルミニウム５．３９を
加える。
集め減圧下に濃縮することにより２−エキソアセタミド
ビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５エン一２−カルボン
酸エチルエステル０．４５９を得る。実施例 ２ Ｎ−アセチル−デヒドロアラニンエチルエステル４．６
９とシクロペンタジエン１．３ｍｅを四塩化炭素５０ｍ
１に溶解し、かくはん下に塩化アルミニウム５．３９を
加える。
室温下で一夜かくはんしたのち濃縮し得られる残査に酢
酸エチル１００ｍ１を加える。不溶物を口去し、口液を
重曹水で洗浄したのち乾燥する。この溶液を減圧下に濃
縮し得られる残留分をシリカゲルクロマトグラフイ一に
附す。以下実施例１と同様に処理することにより、２エ
キソアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５−エ
ン一２−カルボン酸エチルエステル２。２８９および２
−エンドアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５
−エンーカルボン酸エチルエステル１．７９９を得る。
酸エチル１００ｍ１を加える。不溶物を口去し、口液を
重曹水で洗浄したのち乾燥する。この溶液を減圧下に濃
縮し得られる残留分をシリカゲルクロマトグラフイ一に
附す。以下実施例１と同様に処理することにより、２エ
キソアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５−エ
ン一２−カルボン酸エチルエステル２。２８９および２
−エンドアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５
−エンーカルボン酸エチルエステル１．７９９を得る。
これらの化合物の物理化学的性状は実施例１で得た標品
のそれと一致した。
のそれと一致した。
実施例 ３
Ｎ−アセチルデヒドロアラニンメチルエステル１６５７
９およびシクロペンタジエン６．６９をトルエン２０ｍ
１に溶解し、５時間還流する。
９およびシクロペンタジエン６．６９をトルエン２０ｍ
１に溶解し、５時間還流する。
以下実施例１と同様に処理することにより、２−アセタ
ミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５−エン一２−カ
ルボン酸メチルエステルのエキソ型および工ンド型化合
物の混合物（エキソ／エンド一３／４）１．１２ｇを得
る。本品を更にシリカゲルカラムに導通し、ベンゼンー
アセトン（５：４）で溶出すると、最初にエンド型化合
物が溶出してくるのでこの区分を集め減圧下に濃縮する
ことにより、２エンドアセタミド〔２，２，１〕ヘプト
一５エン一２−カルボン酸メチルエステル０．５３９を
得る。続いてエキソ型化合物が溶出してくるのでこの区
分を集め減圧下に濃縮することにより、２−エキソアセ
タミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５エン一２−カ
ルボン酸メチルエステル０．３４９を得る。
ミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５−エン一２−カ
ルボン酸メチルエステルのエキソ型および工ンド型化合
物の混合物（エキソ／エンド一３／４）１．１２ｇを得
る。本品を更にシリカゲルカラムに導通し、ベンゼンー
アセトン（５：４）で溶出すると、最初にエンド型化合
物が溶出してくるのでこの区分を集め減圧下に濃縮する
ことにより、２エンドアセタミド〔２，２，１〕ヘプト
一５エン一２−カルボン酸メチルエステル０．５３９を
得る。続いてエキソ型化合物が溶出してくるのでこの区
分を集め減圧下に濃縮することにより、２−エキソアセ
タミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５エン一２−カ
ルボン酸メチルエステル０．３４９を得る。
実施例 ４
Ｎ−アセチルデヒドロアラニンベンジルエステル２．８
ｆ１およびシクロペンタジエン６ｍｅをトルエン３０ｍ
１に溶解し、２時間還流する。
ｆ１およびシクロペンタジエン６ｍｅをトルエン３０ｍ
１に溶解し、２時間還流する。
反応液を濃縮し得られる残査をシリカゲルクロマトグラ
フイ一（溶媒ベンゼン）に附すことにより、２−アセタ
ミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５−エン一２−カ
ルボン酸ベンジルエステルのエキソ型およびエンド型化
合物の混合物２．８９を得る。本品は更にシリカゲルカ
ラムに導通し、ベンゼンーアセトン（５：２）で溶出す
ると最初にエンド型化合物が溶出してくるのでこの区分
を集め減圧下に濃縮することにより、２−エンドアセタ
ミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５−エン一２カル
ボン酸ベンジルエステル１．６１９を得る。続いてエキ
ソ型化合物が溶出してくるのでこの区分を集め減圧下に
濃縮することにより、２−エキソアセタミドビシクロ〔
２，２，１〕ヘプト一５エン一２−カルボン酸ベンジル
エステル０．８ｇを得る。Ｍｐ．ｌ４３〜１４「Ｃ
フイ一（溶媒ベンゼン）に附すことにより、２−アセタ
ミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５−エン一２−カ
ルボン酸ベンジルエステルのエキソ型およびエンド型化
合物の混合物２．８９を得る。本品は更にシリカゲルカ
ラムに導通し、ベンゼンーアセトン（５：２）で溶出す
ると最初にエンド型化合物が溶出してくるのでこの区分
を集め減圧下に濃縮することにより、２−エンドアセタ
ミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプト一５−エン一２カル
ボン酸ベンジルエステル１．６１９を得る。続いてエキ
ソ型化合物が溶出してくるのでこの区分を集め減圧下に
濃縮することにより、２−エキソアセタミドビシクロ〔
２，２，１〕ヘプト一５エン一２−カルボン酸ベンジル
エステル０．８ｇを得る。Ｍｐ．ｌ４３〜１４「Ｃ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕（但し、Ｒ
＾１はアルキル基、Ｒ＾２はアルキル基またはアラルキ
ル基を表わす。 ）で示される２−アシルアミノビシクロ〔２，２，１〕
ヘプト−５−エン−２−カルボン酸エステル。 ２ 一般式〔 I 〕において、Ｒ＾１が低級アルキル基
であり、Ｒ＾２が低級アルキル基またはフェニル低級ア
ルキル基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３ ２−エキソアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプ
ト−５−エン−２−カルボン酸メチルエステルである特
許請求の範囲第２項記載の化合物。 ４ ２−エンドアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプ
ト−５−エン−２−カルボン酸メチルエステルである特
許請求の範囲第２項記載の化合物。 ５ ２−エキソアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプ
ト−５−エン−２−カルボン酸エチルエステルである特
許請求の範囲第２項記載の化合物。 ６ ２−エンドアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプ
ト−５−エン−２−カルボン酸エチルエステルである特
許請求の範囲第２項記載の化合物。 ７ ２−エキソアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプ
ト−５−エン−２−カルボン酸ベンジルエステルである
特許請求の範囲第２項記載の化合物。 ８ ２−エンドアセタミドビシクロ〔２，２，１〕ヘプ
ト−５−エン−２−カルボン酸ベンジルエステルである
特許請求の範囲第２項記載の化合物。 ９ シクロペンタジエンと一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１はアルキル基、Ｒ＾２はアルキル基また
はアラルキル基を表わす。 ）で示されるＮ−アシルデヒドロアラニンエステルとを
反応させることを特徴とする一般式▲数式、化学式、表
等があります▼ （但し、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記と同一意味を表わす
。 ）で示される２−アシルアミノビシクロ〔２，２，１〕
ヘプト−５−エン−２−カルボン酸エステルの製法。１
０ 反応を塩化第二鉄もしくは塩化アルミニウムの存在
下もしくは非存在下に実施する特許請求の範囲第９項記
載の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1804678A JPS5942667B2 (ja) | 1978-02-17 | 1978-02-17 | ビシクロヘプテン誘導体およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1804678A JPS5942667B2 (ja) | 1978-02-17 | 1978-02-17 | ビシクロヘプテン誘導体およびその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54109957A JPS54109957A (en) | 1979-08-29 |
| JPS5942667B2 true JPS5942667B2 (ja) | 1984-10-16 |
Family
ID=11960738
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1804678A Expired JPS5942667B2 (ja) | 1978-02-17 | 1978-02-17 | ビシクロヘプテン誘導体およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5942667B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60155250U (ja) * | 1984-03-27 | 1985-10-16 | 株式会社京三製作所 | 電話機 |
-
1978
- 1978-02-17 JP JP1804678A patent/JPS5942667B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60155250U (ja) * | 1984-03-27 | 1985-10-16 | 株式会社京三製作所 | 電話機 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54109957A (en) | 1979-08-29 |
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