JPS5942007A - 逆浸透処理装置の運転停止方法 - Google Patents
逆浸透処理装置の運転停止方法Info
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- JPS5942007A JPS5942007A JP15244182A JP15244182A JPS5942007A JP S5942007 A JPS5942007 A JP S5942007A JP 15244182 A JP15244182 A JP 15244182A JP 15244182 A JP15244182 A JP 15244182A JP S5942007 A JPS5942007 A JP S5942007A
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- Japan
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- liquid
- reverse osmosis
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- stopped
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は逆浸透処理装置の運転停山方法に関するもので
ある。
ある。
従来において、溶ｔｆνの濃縮あるいは溶液中の不純物
除去などのために１φ浸透処理が広〈実施されており、
そしてこれに用いられる逆浸透処理装置もスパイラル！
１！！、平板型、チューブラ−１（す、ポローファイバ
ー！１”）など各ｆ：ｌｉの逆浸透膜モジュールを１投
けたものが開発されている。ところが、これらのうちス
パイラル！１ヤあるいは≦［ｉ仮１（、＋４の逆浸透膜
モジュールのような非透過液流れ促進１月スペーサーが
装着されている逆浸透膜モジュールを設けた心浸透処理
装置においては、たとえば６０°Ｃというような高温液
を処理する際にそのまま運転停止１−させると短時間に
排除率が低ドしてしまうという欠点があった。
除去などのために１φ浸透処理が広〈実施されており、
そしてこれに用いられる逆浸透処理装置もスパイラル！
１！！、平板型、チューブラ−１（す、ポローファイバ
ー！１”）など各ｆ：ｌｉの逆浸透膜モジュールを１投
けたものが開発されている。ところが、これらのうちス
パイラル！１ヤあるいは≦［ｉ仮１（、＋４の逆浸透膜
モジュールのような非透過液流れ促進１月スペーサーが
装着されている逆浸透膜モジュールを設けた心浸透処理
装置においては、たとえば６０°Ｃというような高温液
を処理する際にそのまま運転停止１−させると短時間に
排除率が低ドしてしまうという欠点があった。
すなわち運転停止１−させると装置内の汁力が人「１］
に減圧されるので、加熱軟化されている膜が前記スペー
サーに過度に押しつけられ、その表面を損傷して排除率
が著しく低−ドしてしまうという欠点があった。
に減圧されるので、加熱軟化されている膜が前記スペー
サーに過度に押しつけられ、その表面を損傷して排除率
が著しく低−ドしてしまうという欠点があった。
なお３５℃す、ドの低１１１１ｉｕ液を常に処理してお
れは上述したようなＵｌ−除重の低−［は発生しないが
、このように処理すると、単位時間当りの処理ｉｊ］を
大にすることができない及び菌の増殖防＋ｌ−が不１゛
分になる、さらには熱エネルギーロスの面においても不
利になるというようなことにより、一般には３５・Ｃ以
上の高温液での処理が余儀なくされているのが実状であ
る。
れは上述したようなＵｌ−除重の低−［は発生しないが
、このように処理すると、単位時間当りの処理ｉｊ］を
大にすることができない及び菌の増殖防＋ｌ−が不１゛
分になる、さらには熱エネルギーロスの面においても不
利になるというようなことにより、一般には３５・Ｃ以
上の高温液での処理が余儀なくされているのが実状であ
る。
本発明者らはこのようなことに注目して、高温液での処
理（−おいても排除率の低−ドを防１１−すべく各方面
から鋭意検討した結果、高温液を処理したのちにその運
転圧をそのままに保ちながら低温液を逆浸透処理装置へ
供給して膜を冷却してから運転停止１−させれば改善し
うろことを見い出したのである。すなわち本発明は、非
透過液流、れ促進用スペーザーが装置゛′１さＩｔてい
る逆浸透モジュールを設けた逆浸透処理装置により３５
°Ｃ以上の高温液を処理する際に、その運転圧をそのま
まに保ちながら３０°Ｃ以上の低温液を前記逆浸透処理
装置へ供給して加熱軟化されている逆浸透膜を冷却硬化
せしめたのちに運転停止させることを特徴とするもので
ある。
理（−おいても排除率の低−ドを防１１−すべく各方面
から鋭意検討した結果、高温液を処理したのちにその運
転圧をそのままに保ちながら低温液を逆浸透処理装置へ
供給して膜を冷却してから運転停止１−させれば改善し
うろことを見い出したのである。すなわち本発明は、非
透過液流、れ促進用スペーザーが装置゛′１さＩｔてい
る逆浸透モジュールを設けた逆浸透処理装置により３５
°Ｃ以上の高温液を処理する際に、その運転圧をそのま
まに保ちながら３０°Ｃ以上の低温液を前記逆浸透処理
装置へ供給して加熱軟化されている逆浸透膜を冷却硬化
せしめたのちに運転停止させることを特徴とするもので
ある。
以−ド、図面に）、（づいて本発明をより具体的に説明
するに、第１図において、（１）は原液タンク、（２）
は供給ポンプ、（３）はフィルター、（４）は熱交換器
、（５）は高圧ポンプ、（６）は逆浸透処理装置を示し
、１皮処理ｂ；！ｌｆ＆は供給ポンプ（２）により原液
タンク（１）からフィルター（３）、熱交換器（４）を
経て高目−ポンプ（５）へ送られ、ここで５６ Ｋ９
／ｃｒｄというように高加圧されて逆浸透処理装置（６
）へ供給さ：４する。
するに、第１図において、（１）は原液タンク、（２）
は供給ポンプ、（３）はフィルター、（４）は熱交換器
、（５）は高圧ポンプ、（６）は逆浸透処理装置を示し
、１皮処理ｂ；！ｌｆ＆は供給ポンプ（２）により原液
タンク（１）からフィルター（３）、熱交換器（４）を
経て高目−ポンプ（５）へ送られ、ここで５６ Ｋ９
／ｃｒｄというように高加圧されて逆浸透処理装置（６
）へ供給さ：４する。
なお、この場合、熱交換器（４）への冷却水供給は停干
されており、従って３５°Ｃ以上というような高メ、１
δ度の被処理片ｌｒν（以上、４４に高７Ｑ液と称す。
されており、従って３５°Ｃ以上というような高メ、１
δ度の被処理片ｌｒν（以上、４４に高７Ｑ液と称す。
）は冷却されずにそのまま逆浸透処理装置（６）へ供給
される。
される。
本発明においては、このようにして高ｉ’ｉ＋Ａ液を処
理する際に、そのまま運転停止させずに逆浸透処理装置
（６）へ３０°Ｃ以下の低温液を供給し、加熱軟化され
ている逆浸透膜を冷却硬（ヒせしめたのち直軸停止させ
るのである。すなわちこの例においては、熱交換器（４
）へ冷却水（７）を供給してフィルター（３）乞通過し
て来る高温液と熱交換させて前記高温液を３０°Ｃ以下
に冷却した低温液にし、そしてこれを高圧ポンプ（５）
で加圧して逆浸透処理装置１６）へ供給し、これによっ
て得られる透過液＋９＋／及び濃縮液（８）の温度がほ
ぼ３０°Ｃになったとき、すなわち加熱軟化さＪ”して
いる逆浸透膜が冷却硬化されたとき（＝岨転停干させる
。
理する際に、そのまま運転停止させずに逆浸透処理装置
（６）へ３０°Ｃ以下の低温液を供給し、加熱軟化され
ている逆浸透膜を冷却硬（ヒせしめたのち直軸停止させ
るのである。すなわちこの例においては、熱交換器（４
）へ冷却水（７）を供給してフィルター（３）乞通過し
て来る高温液と熱交換させて前記高温液を３０°Ｃ以下
に冷却した低温液にし、そしてこれを高圧ポンプ（５）
で加圧して逆浸透処理装置１６）へ供給し、これによっ
て得られる透過液＋９＋／及び濃縮液（８）の温度がほ
ぼ３０°Ｃになったとき、すなわち加熱軟化さＪ”して
いる逆浸透膜が冷却硬化されたとき（＝岨転停干させる
。
而してこのようにして運転停止ｌ・させることにより、
その排除イ；を１模使川初１υ［の高排除率（ゴ゛升い
値に１ｖつことかできる。
その排除イ；を１模使川初１υ［の高排除率（ゴ゛升い
値に１ｖつことかできる。
逆浸透処理装置（６）に設けられている逆浸透膜モジュ
ールは、たとえばスパイラル型の場合には第２図におい
て示すように、透過液流、路祠（１１）を内設した袋状
の逆浸透膜（１０）、非透過液流れ促進用スペーサー（
＋２）を透過水排出管（１３）に在装しているが、本発
明においては、＋Ｈ−ｉＪｌＡａ液処叩した際に、その
運転圧をそのままに保ちなから３０°Ｃ以−ドの低ｉ’
ｆｌｌＸ液を供給して加〃（軟化されている逆浸透膜（
１０）を冷却硬化、すなわち１ｊｉｊ ｒ記スペーサー
（Ｉ２）に対して逆浸透膜（１０）を接触させないよう
に冷却硬ｆヒさせたのちに運転停止させるから、その停
止に伴なう減圧により膜表面の損傷を防止することがで
き、従ってその排除率を膜使用初期の高排除率に近い値
に保つことができるのである。
ールは、たとえばスパイラル型の場合には第２図におい
て示すように、透過液流、路祠（１１）を内設した袋状
の逆浸透膜（１０）、非透過液流れ促進用スペーサー（
＋２）を透過水排出管（１３）に在装しているが、本発
明においては、＋Ｈ−ｉＪｌＡａ液処叩した際に、その
運転圧をそのままに保ちなから３０°Ｃ以−ドの低ｉ’
ｆｌｌＸ液を供給して加〃（軟化されている逆浸透膜（
１０）を冷却硬化、すなわち１ｊｉｊ ｒ記スペーサー
（Ｉ２）に対して逆浸透膜（１０）を接触させないよう
に冷却硬ｆヒさせたのちに運転停止させるから、その停
止に伴なう減圧により膜表面の損傷を防止することがで
き、従ってその排除率を膜使用初期の高排除率に近い値
に保つことができるのである。
なお本発明においては低温液の供給は第１図において示
した態様に限定されず第３図において示す態様に供給し
てもよい。この例においては三方弁（１４）を設け、フ
ィルター（３）を通過して来る高温（ｆりの送水をスト
ップすると共に３０℃以下の低温液（１５）を高ＬＬポ
ンプ（５）で加圧して逆浸透処理装置（６）へ供給する
。
した態様に限定されず第３図において示す態様に供給し
てもよい。この例においては三方弁（１４）を設け、フ
ィルター（３）を通過して来る高温（ｆりの送水をスト
ップすると共に３０℃以下の低温液（１５）を高ＬＬポ
ンプ（５）で加圧して逆浸透処理装置（６）へ供給する
。
また本発明においては逆浸透膜モジュールはスパイラル
型のもののみに限定されず平板型など非透過液流れ泥進
用スペーサーが装着されているものであればいかなる型
式のものであってもよい。更に本発明においては、加熱
軟化されている逆浸透膜が冷却硬化されたことの検知は
透過液／及び濃縮液の温度を測定する方法に限定されず
他の方法により検知してもよい。次に本発明に係る実施
例及びその比較例について述実施例（１） 第１図に示す処理フローシートにおいて、東し株式会社
製のスパイラル型逆浸透膜モジュール（！（す式５Ｐ−
１１０）を設けた逆浸透処理装置（６）へ６０℃の３ｓ
ｑｉＮａｃ＋ ｉ（１（溶ｔＹ酸素ＢＨは０．４〜０
．８Ｔ）Ｉ）ｍ）を５６ ＫＶ ／ｃｒｄで供給して処
理したところその（ｕＩ除十は９９．６％であった。次
いで１時間処理経過後において熱交換器（４）へ２２”
Ｃの冷却水（７）を供給して前記Ｎａｃｌ液を３０°Ｃ
に冷却して供給し、その濃縮液（８）の温度が３０℃に
なったときに運転停止１−させた。
型のもののみに限定されず平板型など非透過液流れ泥進
用スペーサーが装着されているものであればいかなる型
式のものであってもよい。更に本発明においては、加熱
軟化されている逆浸透膜が冷却硬化されたことの検知は
透過液／及び濃縮液の温度を測定する方法に限定されず
他の方法により検知してもよい。次に本発明に係る実施
例及びその比較例について述実施例（１） 第１図に示す処理フローシートにおいて、東し株式会社
製のスパイラル型逆浸透膜モジュール（！（す式５Ｐ−
１１０）を設けた逆浸透処理装置（６）へ６０℃の３ｓ
ｑｉＮａｃ＋ ｉ（１（溶ｔＹ酸素ＢＨは０．４〜０
．８Ｔ）Ｉ）ｍ）を５６ ＫＶ ／ｃｒｄで供給して処
理したところその（ｕＩ除十は９９．６％であった。次
いで１時間処理経過後において熱交換器（４）へ２２”
Ｃの冷却水（７）を供給して前記Ｎａｃｌ液を３０°Ｃ
に冷却して供給し、その濃縮液（８）の温度が３０℃に
なったときに運転停止１−させた。
次いで角度、６０°Ｃの前記ＮａＣ１液を５６Ｋｐ／ｍ
で供給して処理したところその排除率は９９６形であっ
た。
で供給して処理したところその排除率は９９６形であっ
た。
比較例（１）
実施例（１）のように３０℃に冷却された前記ＮａＣ’
ｌ液を供給しないで、６０ ”ＣのＭｉｊ記ＮａＣｌ液
を処理したのちそのまま運転停止させ、次いで内題、６
０°Ｃの前記ＮａＣｌ液を処理したこと以外の条件は実
施例（１）と同一条件で処理したところ、その運転停止
Ｆ後における排除率は９８．８％であった。
ｌ液を供給しないで、６０ ”ＣのＭｉｊ記ＮａＣｌ液
を処理したのちそのまま運転停止させ、次いで内題、６
０°Ｃの前記ＮａＣｌ液を処理したこと以外の条件は実
施例（１）と同一条件で処理したところ、その運転停止
Ｆ後における排除率は９８．８％であった。
実施例（２）
前記ＮａＣ１１’ｒｋを４０°Ｃにしたこと以外の条件
は実施例（１）と同一条件で処理したところ、運転伸出
前後における排除率は９９８％であった。
は実施例（１）と同一条件で処理したところ、運転伸出
前後における排除率は９９８％であった。
比較例（２）
実施例（１）のように３０°Ｃに冷却された前記ＮａＣ
ｌ液を供給しないで、４０℃の前記ＮａＣｌ液を処理し
たのちそのまま運転停止１−させ、次いで１］度、４０
℃の前記ＮａＣｌ液を処理したこと以外の条件は実施例
（１）と同一条件で処理したところ、その運転停止後に
おける排除率は９９．７％であった。このことからして
明らかなように、比較例においては４７７Ｍ液を処理し
た場合に、運転停止に前におけるＵ１８除率に比して運
転停止１−１後における排除率が低下しているが、本発
明に係る実施例においてはこのような低−ドが発生して
おらず、従って本発明に係る運転停止１一方法の方が合
判であることがわかる。
ｌ液を供給しないで、４０℃の前記ＮａＣｌ液を処理し
たのちそのまま運転停止１−させ、次いで１］度、４０
℃の前記ＮａＣｌ液を処理したこと以外の条件は実施例
（１）と同一条件で処理したところ、その運転停止後に
おける排除率は９９．７％であった。このことからして
明らかなように、比較例においては４７７Ｍ液を処理し
た場合に、運転停止に前におけるＵ１８除率に比して運
転停止１−１後における排除率が低下しているが、本発
明に係る実施例においてはこのような低−ドが発生して
おらず、従って本発明に係る運転停止１一方法の方が合
判であることがわかる。
実施例「３）
前記ＮａＣ１液を３５℃にしたこと以外の条件は実施例
１１） 、！＝ ＩＴＪ−条件で処理したところ、運転
停＋ｈ ＋）ｉｆ ？＆における排除孫くは９９８Φで
あった。
１１） 、！＝ ＩＴＪ−条件で処理したところ、運転
停＋ｈ ＋）ｉｆ ？＆における排除孫くは９９８Φで
あった。
比較例（３）
実施例（１）のように３０℃に冷却された前記ＮａＣ１
１’ｒ＆をＵ（給しないで、３５°Ｃの前記ＮａＣｌ液
を処理したのちそのまま運転停止させ、次いで（り度、
３５℃の前記ＮａＣｌ液を処理したこと以外の条件は実
施例（１）と同一条件で処理したところ、その運転停止
り後におけるす１−除重は９９８％であった。
１’ｒ＆をＵ（給しないで、３５°Ｃの前記ＮａＣｌ液
を処理したのちそのまま運転停止させ、次いで（り度、
３５℃の前記ＮａＣｌ液を処理したこと以外の条件は実
施例（１）と同一条件で処理したところ、その運転停止
り後におけるす１−除重は９９８％であった。
このことからして明らかなように、３５℃以下の液を処
理した場合においては本発明の効果を奏さないことがわ
かる。
理した場合においては本発明の効果を奏さないことがわ
かる。
以上、述べたように本発明によれば、３５°Ｃ以上の商
温液を処理しても排除率の低下を防雨しうる逆浸透処理
装置の運転停止方法が得られる。
温液を処理しても排除率の低下を防雨しうる逆浸透処理
装置の運転停止方法が得られる。
なお第２図における（１６）はブラインシールを、そし
て（１７）は濃縮液排出孔を示し、さらに（Ａ）。
て（１７）は濃縮液排出孔を示し、さらに（Ａ）。
（Ｂ）はシール面を小している。
第１図及び第３図は本発明の実施例に係る逆浸透処理の
フローンート図であり、そして第２図はスパイラル！費
逆浸透膜モジュールの斜視図である。 （４）：熱交換器 （６）：逆浸透処理装置＋ＩＯ
） ：逆浸透膜 （１２） ：非透過液流れ促進用スペーサー特許出願人
東し・エンジニアリング株式会社第１図 ８ 第２ＦｇＪ −帛一
フローンート図であり、そして第２図はスパイラル！費
逆浸透膜モジュールの斜視図である。 （４）：熱交換器 （６）：逆浸透処理装置＋ＩＯ
） ：逆浸透膜 （１２） ：非透過液流れ促進用スペーサー特許出願人
東し・エンジニアリング株式会社第１図 ８ 第２ＦｇＪ −帛一
Claims (1)
- （１）非透僅液流れ促進用スペーサーが装着されている
逆浸透膜モジュールを設けた逆浸透処理装置により；３
５℃ 以十、の高温液を処理する際に、その運転ｊ十を
そのままに保ちなから３屹゛Ｃ以−ドの低／１ＩＩ７＋
液を前記逆浸透処理装置へ供給して加熱軟１ヒされてい
る逆浸透１模を冷却硬ｆヒせしめたのちに−Ｈすく停山
させることを特徴とする逆浸透処理装置の連１１Ｆ７：
停止１一方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15244182A JPS5942007A (ja) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | 逆浸透処理装置の運転停止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15244182A JPS5942007A (ja) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | 逆浸透処理装置の運転停止方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5942007A true JPS5942007A (ja) | 1984-03-08 |
| JPH0351454B2 JPH0351454B2 (ja) | 1991-08-06 |
Family
ID=15540593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15244182A Granted JPS5942007A (ja) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | 逆浸透処理装置の運転停止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5942007A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003040042A1 (en) * | 2001-11-05 | 2003-05-15 | Bionomics Ltd. | Apparatus and method for producing purified water having high microbiological purity by using a reverse osmosis membrane assembly |
| JP2012533684A (ja) * | 2009-07-14 | 2012-12-27 | ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーション | 製造システム内における堆積物形成の抑止方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS524481A (en) * | 1975-06-30 | 1977-01-13 | Ebara Infilco Co Ltd | Method of recovering performance of permeablmenbrane module |
-
1982
- 1982-08-31 JP JP15244182A patent/JPS5942007A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS524481A (en) * | 1975-06-30 | 1977-01-13 | Ebara Infilco Co Ltd | Method of recovering performance of permeablmenbrane module |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003040042A1 (en) * | 2001-11-05 | 2003-05-15 | Bionomics Ltd. | Apparatus and method for producing purified water having high microbiological purity by using a reverse osmosis membrane assembly |
| US6908546B2 (en) | 2001-11-05 | 2005-06-21 | Bionomics Ltd | Apparatus and method for producing purified water having microbiological purity |
| JP2012533684A (ja) * | 2009-07-14 | 2012-12-27 | ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーション | 製造システム内における堆積物形成の抑止方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0351454B2 (ja) | 1991-08-06 |
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